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Großformatige Lichtmalerei-Film-Fotoplotter-Folie für Leiterplatten

Großformatige Lichtmalerei-Film-Fotoplotter-Folie für Leiterplatten
Ursprungsland
China
Markenbezeichnung
DFOPTIX
Zertifikat
ISO9001
MOQ
10
Zahlungs-Methode
T/T
Lieferkapazität
Die durchschnittliche monatliche Produktionskapazität für Kalibrierplatten und -folien beträgt 300.0
Produktdetails
Hervorheben:

Lichtmalerei-Folie 0

,

18 mm

,

Große Lichtmalerei-Folie

Material: Film
Minimum Line Width: 8μm
Resolution: 8000 dpi/16000 dpi/25400 dpi/50800 dpi
Specification: Max. Breite 3500 mm, max. Höhe 1680 mm
Shipping Option: FedEx und UPS
Produkt-Beschreibung
Detaillierte Spezifikationen & Funktionen

Großformatige Belichtungsfolie

Großformatige Belichtungsfolie ist eine Art Maskenplatte, die aus transparenten Materialien (normalerweise Quarz oder Glas) mit einer lichtempfindlichen Beschichtung zur Musterübertragung auf ihrer Oberfläche besteht. Sie wird üblicherweise verwendet, um komplexe oder hochpräzise Muster durch den Fotolithografieprozess auf Leiterplatten, Siliziumwafer oder andere Substrate zu übertragen. Im Vergleich zu herkömmlichen Kleinformatfolien zeichnen sich großformatige Belichtungsfolien hauptsächlich durch größere Abmessungen, höhere Anforderungen an den Herstellungsprozess und strengere Anforderungen an optische Präzision und Materialien aus.

Großformatige Belichtungsfolien werden üblicherweise in einigen Präzisionsbereichen eingesetzt, insbesondere wenn eine großflächige Musterübertragung erforderlich ist, wie z. B. bei großformatigen Leiterplatten (PCBs), großformatigen Anzeigebildschirmen (wie LCD, OLED usw.), großen Siliziumwafern in der Halbleiterfertigung und der Herstellung optischer Komponenten.

Gängige Spezifikationen (professionelle Anpassung wird unterstützt)

Material

Kodak, Agfa

Dicke

0,18 mm

Minimale Linienbreite

8 μm

Linienbreitenfehler

1–2 μm

Auflösung

8000 dpi/16000 dpi/25400 dpi/50800 dpi

Maximales Belichtungsformat

1680 × 3500 mm

Funktionsprinzip der großformatigen Belichtungsfolie

Das Funktionsprinzip der großformatigen Belichtungsfolie ähnelt dem herkömmlicher Folien, wobei die Musterübertragung auf dem Fotolithografieprozess basiert. Die spezifischen Schritte sind wie folgt:

1. Design und Ausgabe

Designer erstellen zunächst das Design von Schaltungen oder Mustern mit Hilfe von Computer-Aided Design (CAD)-Software und konvertieren die Designdateien in für die Fotolithografie geeignete Formate, normalerweise Gerber-Dateien oder digitale optische Daten.

2. Herstellung der Maskenplatte

Gemäß den Designdateien wird die Laser- oder Elektronenstrahlätztechnologie verwendet, um präzise Muster auf transparente Materialien (wie Quarzglas) zu ätzen. Aufgrund der großen Größe der Maskenplatte sind während des Herstellungsprozesses extrem hohe Präzision und Stabilität erforderlich, um die Konsistenz der Muster über den großen Größenbereich zu gewährleisten.

3. Belichtung und Übertragung

Die hergestellte großformatige Belichtungsfolie wird mit dem Substrat (z. B. einer Leiterplatte oder einem Siliziumwafer) ausgerichtet und die Fotolithografiebelichtung durchgeführt. Eine Lichtquelle (normalerweise ultraviolettes Licht) bestrahlt die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials durch die transparenten Bereiche der Folie, und die lichtempfindliche Beschichtung in den unbelichteten Bereichen durchläuft eine chemische Reaktion, wodurch schließlich das erforderliche Muster gebildet wird.

4. Entwicklung und Ätzen

Nach der Belichtung werden die unbelichteten Teile der lichtempfindlichen Beschichtung entfernt, um die Musterübertragung abzuschließen. Anschließend werden unnötige Materialien durch Prozesse wie Ätzen entfernt, und schließlich werden Schaltkreise oder optische Strukturen gebildet.

5. Nachbearbeitung und Inspektion

Nach Abschluss der Übertragung wird die Leiterplatte oder der Chip normalerweise inspiziert, um die Genauigkeit des Musters sicherzustellen und dass keine Fehler oder Defekte vorhanden sind. Anschließend werden andere notwendige Prozessschritte durchgeführt, wie z. B. Metallabscheidung und Schweißen.

Merkmale der großformatigen Belichtungsfolie

1. Großformatige Anpassungsfähigkeit

Wie der Name schon sagt, sind großformatige Belichtungsfolien für die großflächige oder großformatige Musterübertragung konzipiert und werden üblicherweise für großformatige Leiterplatten, optische Komponenten usw. verwendet.

2. Hohe Präzision und hohe Auflösung

Großformatige Belichtungsfolien müssen hochauflösende und hochpräzise Musterübertragungsfähigkeiten aufweisen. Ihre Präzisionsanforderungen sind weitaus höher als die von gewöhnlichen Folien, da sie die Stabilität und Konsistenz von Mustern über eine große Fläche gewährleisten müssen.

3. Hochwertige Materialien

Großformatige Belichtungsfolien verwenden üblicherweise hochtransparenten Quarz oder Glas als Substrate. Diese Materialien weisen hervorragende optische Eigenschaften auf, die die Lichtdurchlässigkeit und eine genaue Musterübertragung gewährleisten können.

4. Komplexer Herstellungsprozess

Der Herstellungsprozess von großformatigen Belichtungsfolien hat sehr hohe Anforderungen, erfordert normalerweise fortschrittliche Fotolithografiegeräte und präzise Laserätztechnologie, mit einem langen Produktionszyklus und hohen Kosten.

5. Haltbarkeit und Stabilität

Großformatige Belichtungsfolien müssen während des Produktionsprozesses hoher Lichtintensität und chemischer Korrosion standhalten. Daher muss die Haltbarkeit und Stabilität ihrer Materialien strengen Tests unterzogen werden, um sicherzustellen, dass während des Langzeitgebrauchs keine Verformung oder Beschädigung auftritt.

Anwendungsbereiche der großformatigen Belichtungsfolie

1. Herstellung von großformatigen Leiterplatten (PCBs)

Großformatige Belichtungsfolien werden üblicherweise bei der Herstellung von großformatigen Leiterplatten (wie Serverplatinen, großen industriellen Steuerplatinen usw.) verwendet. Insbesondere bei großen PCB-Designs, die präzise Schaltungsmuster erfordern, ist eine genaue Musterübertragung für die Funktion der gesamten Leiterplatte entscheidend.

2. Halbleiterfertigung

In der Halbleiterfertigung, insbesondere für große Siliziumwafer, werden großformatige Belichtungsfolien zur Musterübertragung verwendet, um sicherzustellen, dass die Schaltungsmuster in den Chips genau und fehlerfrei sind. Mit dem Fortschritt der Halbleitertechnologie nehmen die Komplexität und Größe von Chipdesigns allmählich zu, und die Nachfrage nach großformatigen Belichtungsfolien wächst ebenfalls.

3. Display-Herstellung

Im Produktionsprozess von großformatigen Flüssigkristallanzeigen (LCDs) oder organischen Leuchtdioden (OLEDs) werden großformatige Belichtungsfolien zur Musterübertragung verwendet, um die Präzision von Schaltungen und Anzeigeeinheiten auf großen Bildschirmen zu gewährleisten. Dies ist entscheidend für hochauflösende Displays, Fernsehbildschirme und einige große Anzeigegeräte.

4. Herstellung optischer Geräte

Optische Geräte (wie optische Linsen, optische Komponenten von Projektoren usw.) erfordern die Verwendung von großformatigen Belichtungsfolien zur präzisen Übertragung optischer Muster während des Produktionsprozesses.

5. Herstellung von Solarzellen

Im Produktionsprozess von Solarmodulen werden großformatige Belichtungsfolien verwendet, um Details wie Elektrodenmuster zu übertragen, um die Leitfähigkeit und Effizienz von Solarzellen zu gewährleisten.

6. LED-Beleuchtung

Großformatige Belichtungsfolien werden auch häufig bei der Herstellung von LED-Panels eingesetzt, insbesondere in Anwendungsszenarien, die großformatige Leiterplatten und hochpräzise Musterübertragung erfordern.

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