Hochpräzise Quarzglasreticle Fotolithographie Reticle

2. Grundstruktur und Materialien

(1) Konzentrische Kreis Muster (normalerweise mit Fadenkreuzen) werden typischerweise auf der Oberfläche eines transparenten optischen Substrats (wie optisches Glas, Quarz usw.) mittels Vakuumabscheidung (wie einer hochreflektierenden Chromschicht) oder Photolithographie erzeugt.

(2) Transmissionsdesign: Dies bedeutet, dass es hauptsächlich im Lichtpfad der Transmission arbeitet und Licht durch den transparenten Bereich zur Bildgebung lässt. Je nach Verfahren kann es in positive Marken (das Muster selbst ist eine opake Chromschicht) und negative Marken (der Musterbereich ist für die Lichtdurchlässigkeit offen gelassen, während der Rest beschichtet ist) unterteilt werden.

(3) Größenspezifikationen: Die Ringe haben normalerweise feste Durchmesserabstände (z. B. 0,5 mm, 1 mm usw. pro Ebene) und sind nummeriert oder haben ein zentrales Fadenkreuz zur Ausrichtungshilfe.

3. Hauptanwendungsszenarien

(1) Kalibrierung von Mikroskopsystemen: Schnelle Kalibrierung der Vergrößerungskorrespondenz nach dem Wechsel von Objektiven und Korrektur von Messablesefehlern ist ein gängiges Kalibrierungswerkzeug für routinemäßige Labortests.

(2) Ausrichtung optischer Systeme: Dient als Kollimationstarget für Strahlen, unterstützt die Koaxialitätsanpassung von Laserlichtwegen und bestimmt schnell, ob der Strahl mit der optischen Achse des Systems übereinstimmt.

(3) Kalibrierung industrieller Bildverarbeitung: Wird zur Korrektur radialer Verzerrungen von Kameras verwendet, bietet Positionierungsreferenzen auf Sub-Pixel-Ebene, weit verbreitet bei der Erkennung von Defekten auf Halbleiterwafern, der Messung von Bohrkoordinaten auf Leiterplatten und anderen Szenarien.

(4) Unterstützung von Präzisionsoptikgeräten: Installiert auf der Bildebene von Zielfernrohren und Teleskopen, unterstützt die Ausrichtung des Zielmittelpunkts und die Messung von Winkelabweichungen.

4.Hauptparameterinformationen