Qualität Hochpräzise Quarzglasreticle Fotolithographie Reticle usine

Hochpräzise Quarzglasreticle Fotolithographie Reticle

Ursprungsland

China

Markenbezeichnung

DFOPTIX

Zertifikat

ISO9001

MOQ

Zahlungs-Methode

T/T

Lieferkapazität

Die durchschnittliche monatliche Produktionskapazität für Kalibrierplatten und -folien beträgt 300.0

Produktdetails

Hervorheben:

Hochpräzise Glasreticel

Quarzglasreticel

Glasphotolithographie Reticle

Material: Sodaglas/Quarzglas/kundenspezifisch

Specification: Minimale Größe: 1*1 mm, maximale Größe: 218,6*218,6/280*280 mm

Shipping Option: FedEx und UPS

Produkt-Beschreibung

Detaillierte Spezifikationen & Funktionen

Hochpräzisions-Retikel

Eigenschaften des Produkts:Hohe Präzision, hohe Stabilität, hoher Kontrast, gute Haltbarkeit, Durchlässigkeit 90% und kann auf verschiedene Weise angepasst werden;

Anwendungsbereiche:Optische Instrumente (Mikroskope, Teleskope, Zielerzeuger usw.), industrielle Vision (Positionierung der Maschinensicht, Kalibrierung des Bildes, Genauigkeitsdetektion), Kalibrierung und Detektion (Kamera-Kalibrierung,optische Kalibrierung, Genauigkeitsprüfung, Kalibrierung von Mehrsensorsystemen), wissenschaftliche Forschung und Experimente (optische Experimente, Präzisionsmessungen, Bildanalysen usw.).

Parameterinformationen	gewöhnliche Präzision	hohe Präzision
Material	Sodaglas/Quarzglas/auf maßgeschneiderte Weise	aus Quarzglas
Maximale Außenabmessungen	Stärkebezogen: 228,6*228,6 mm	127*127mm
Mindestgröße der Außenfläche	1*1 mm	2*2 mm
Maximale Mustergröße	Stärkebezogen 218.6218.6/280280mm	121*121mm
Flachheit	Größenbezogen/konventionell 10 μm	Größenbezogen
Dichtewert	Gelbes Chrom und helles Chrom sind im Allgemeinen ≥ 3,0/höchstens ≥ 6.0; Blaues Chrom ≥ 5.0	/
Stärke (anpassbar)	0.2/0.33/0.5/0.7/1/1.1/1.5/1.6/2.3/3 mm	2.3 mm
Positionsgenauigkeit	Herkömmliche 2 μm/höchstens 1 μm	0.5 μm
Genauigkeit der Linienbreite	Herkömmliche 0,2 μm/höchstens 0,1 μm	00,05 μm
Mindestlinienbreite	Herkömmliche 2 μm/höchstens 1 μm	0.5 μm
Mindestdurchmesser	Herkömmliche 2 μm/höchstens 1 μm	0.5 μm

Umbauten:

Fotolithographie Reticle

Optische Encoder-Scheibe

Optische Linienliner

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