Halcon円形ドットキャリブレーションボード 高精度 カメラロボティクス用
Halcon円形ドットキャリブレーションボード
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ハルコンキャリブレーションボード
円形ドットキャリブレーションボードは、光学システム向けの高精度キャリブレーションツールであり、最適なカメラキャリブレーション、レンズ歪み補正、およびシステムパフォーマンス評価を保証します。高度なフォトリソグラフィ技術を使用して製造されており、ミクロンレベルの精度で卓越した精度を提供するため、高解像度イメージングシステムや顕微鏡アプリケーションに最適です。耐久性のある耐熱性素材は長期的な安定性を保証し、正確なドットパターンはボード全体にわたる均一性を保証し、信頼性の高いキャリブレーション結果を提供します。このボードは、さまざまなキャリブレーションニーズに対応するために完全にカスタマイズ可能であり、産業用カメラ、ロボット工学、および自動化されたビジョンシステムに最適です。
製品の特徴:シャープなエッジ、高い位置精度、低い膨張係数、高精度(最大精度1μm)、カスタマイズサポート。
適用シナリオ:マシンビジョンキャリブレーション(セキュリティ、映画・テレビ、医療、カメラ、ドローンカメラ、写真スタジオ、科学研究機器、その他の機器)。
基材:ドットキャリブレーションプレートの基材はオプションであり、さまざまな使用シナリオ、環境、および精度要件に応じて、ガラス、セラミック、フィルム、アルミニウムプレートなどの異なる基材をカスタマイズできます。
1. ガラス基板パラメータ:
| 設計 |
基板 |
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製造プロセス |
フォトリソグラフィ |
ガラス基板 |
石英ガラス(溶融シリカ)/ソーダガラス |
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最小線幅 |
1μm / 0.55μm |
透過率(@550nm) |
>95% |
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特徴精度 |
±1μm |
熱膨張係数 (20-200℃) |
<5.0×10⁻⁷/K |
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コーティング |
イエロークロム、ブライトクロム 、ブルークロム(低反射率) |
膨張率(20-200℃) |
0.00006%(1mあたり0.6μm/℃) |
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反射率 |
< 13.4% @550nm |
表面平坦度 |
<0.55μm(長さ<50mm) |
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< 1.8% @650nm |
<2μm(長さ<100mm) |
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< 2.67% @750nm |
100mm) |
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コーティング精度 |
120nm(±0.20nm) |
表面粗さ |
<0.025μm |
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光学密度 OD |
イエロークロム 3(ブルー 5) |
厚さ |
1mm、1.6mm、2.3mm、3mm(±0.2mm)(500*500*4.8) |
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白い背景 |
最小線幅:10μm |
最小/最大サイズ |
最小:2×2 mm |
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白い背景の厚さ:40μm (裏面に滑らかな白いコーティング) |
最大:800×960mm(±0.1mm) |
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正像と反転像 |
正像:パターン不透明 反転像:パターン半透明 |
外観と形状 |
正方形 |
2. セラミック基板パラメータ:
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設計 |
基板 |
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製造プロセス |
フォトリソグラフィ |
タイプ |
マットセラミック上のマットクロム |
光沢セラミック上のブライトクロム |
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タイプ |
マットセラミック |
光沢セラミック |
セラミック基板 |
ジルコニア / アルミナ |
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最小線幅 |
4μm |
2μm |
厚さ |
1mm(±0.1mm、一般的) |
2mm(一般的) |
3mm(±0.1mm) |
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特徴精度 |
±2μm |
±2μm |
表面平坦度 |
<30μm(長さ<100mm) |
<60μm(長さ<200mm) |
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外観精度 |
±0.05mm |
±0.05mm |
表面平坦度 |
最小:2×2mm(±0.1mm); 最大:228×228mm(±0.1mm) |
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コーティング |
クロム |
クロム |
表面粗さ |
<0.2-0.7μm |
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ライトコーティング/マットコーティング |
マットクロムコーティング |
ブライトクロムコーティング |
熱膨張係数 (40-400℃) |
<6.7×10⁻⁶/K |
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反射率 |
< 12.88% @550nm |
< 9.56% @550nm |
単位重量 |
≥ 3.66 g/cm³ |
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< 10.62% @650nm |
< 1.89% @650nm |
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< 12.23% @750nm |
< 11.168% @750nm |
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コーティング厚さ |
100-120nm |
100-120nm |
ロックウェル硬度 |
≥80 HRA |
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正像と反転像 |
正像フィルム:不透明パターン、 反転像フィルム:透明パターン |
外観と形状 |
任意の形状のレーザーカット |
正方形 |
楕円 |
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保護層 |
クロム層上の薄膜 クロムパターンをより耐久性のあるものにします |
特殊形状 |
パンチ |
面取り |
斜角 |
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3. フィルム基板パラメータ:
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設計 |
フィルム基板 |
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製造プロセス |
リソグラフィ (フィルムリソグラフィマシン) |
用途 |
透過/バックライト用 /機能テスト |
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最小線幅 |
10μm/30μmオプション |
膨張係数 |
フィルムは加熱時に収縮し、冷却時に膨張します |
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特徴精度
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±10μm |
10μm/℃(1mあたり) 相対温度が一定の場合、
湿度変化が1℃の場合、
長さ1mのフィルムは10μm(1万分の1)変化します
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コーティング |
臭化銀 |
透過率(400〜700nm) |
>90% 超紫外線(400〜700nm)<赤外線 |
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コーティング厚さ |
2μm |
フィルム基板厚さ |
0.18mm(±0.01mm) |
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光学密度 OD |
100%黒の場合OD>4
(OD値はグレースケールで制御可能)
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最大サイズ |
0.71×0.81m(±0.1mm)(最小線幅10μm) 1.68×3.5m(±0.1mm)(最小線幅30μm) |
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色 |
黒グレースケール、 サイン波グレースケール |
外観 |
レーザーカット、直線カット、円形穴くり抜きが可能です |