Hochpräzises Maschinen-Vision-Kalibrierziel mit kreisförmigen Punkten

Herstellungsprozess

Fotolithographie

Glassubstrat

Quarzglas (Fused Silica)/Natronglas

Mindestlinienbreite

1 µm / 0,55 µm

Transmissionsrate(@550nm)

>95 %

Funktionsgenauigkeit

±1µm

Wärmeausdehnungskoeffizient

(20-200°C)

<5,0×10⁻⁷/K

Beschichtung

Gelbes Chrom, helles Chrom

, blaues Chrom (geringes Reflexionsvermögen)

Expansionsverhältnis (20–200 °C)

0,00006 % (0,6 µm/°C von 1 m)

Reflexion

< 13,4 % bei 550 nm

Ebenheit der Oberfläche

<0,55µm (Länge<50mm)

< 1,8 % bei 650 nm

<2µm (Länge<100mm)

< 2,67 % bei 750 nm

<5µm (Länge>100mm)

Beschichtungsgenauigkeit

120 nm (±0,20 nm)

Oberflächenrauheit

<0,025 µm

Optische Dichte OD

Gelbes Chrom 3 (Blau 5)

Dicke

1 mm, 1,6 mm, 2,3 mm, 3 mm (± 0,2 mm) (500 * 500 * 4,8)

Weißer Hintergrund

Mindestlinienbreite: 10 µm

Minimale/maximale Größe

Min.: 2×2 mm

Weiße Hintergrundstärke: 40 µm

(glatte weiße Beschichtung auf der Rückseite)

Maximal: 800×960mm (±0,1mm)

Positive und negative Formen

Positiv: Muster undurchsichtig

Negativ: Muster durchscheinend

Aussehen und Form

Quadrat

Herstellungsprozess

Lithografie

(Filmlithographiemaschine)

Anwendung

Wird für Übertragung/Hintergrundbeleuchtung verwendet

/Funktionstests

Mindestlinienbreite

10 µm/30 µm optional

Ausdehnungskoeffizient

Beim Erhitzen schrumpft die Folie und beim Abkühlen dehnt sie sich aus

Funktionsgenauigkeit

±10µm

10µm/°C von 1m

Beschichtung

Silberbromid

Transmissionsrate (400–700 nm)

>90 % Ultraviolett<(400~700 nm)>Infrarot

Beschichtungsdicke

2µm

Dicke des Filmsubstrats

0,18 mm (±0,01 mm)

Optische Dichte OD

Maximale Größe

0,71×0,81m (±0,1mm) (minimale Linienbreite 10µm)

1,68×3,5m (±0,1mm) (Mindestlinienbreite 30µm)

Farbe

Schwarze Graustufen,

Sinus-Graustufen

Aussehen

Es stehen Laserschneiden, Schneiden mit geraden Kanten und Aushöhlen kreisförmiger Löcher zur Verfügung