Alvo de Calibração de Tabuleiro de Xadrez Preto e Branco / Tabuleiro de Xadrez de Calibração de Câmera
Alvo de Calibração de Tabuleiro de Xadrez Preto e Branco
,Alvo de Calibração de Tabuleiro de Xadrez Cerâmico
,Tabuleiro de Xadrez de Calibração de Câmera Preto e Branco
Placa de Calibração de Tabuleiro de Xadrez
A Placa de Calibração de Tabuleiro de Xadrez é uma das ferramentas mais utilizadas para calibração de câmeras e sistemas de visão. Seu padrão de quadrados pretos e brancos de alto contraste permite a detecção precisa de cantos, possibilitando a estimativa precisa de parâmetros intrínsecos e extrínsecos. Isso garante a correção eficaz da distorção da lente e o alinhamento confiável de sistemas multi-câmera ou câmera-robô. Fabricada com tolerâncias rigorosas em materiais duráveis como vidro, metal ou compósitos, a placa oferece excelente estabilidade e repetibilidade. Compatível com bibliotecas de visão populares como OpenCV e Halcon, é comumente aplicada em robótica, reconstrução 3D, automação industrial e aplicações de visão computacional que exigem alta precisão de calibração.
Recursos do Produto: Cantos de padrão claros, alta precisão, alto contraste/não reflexivo, Alta precisão (com precisão máxima de 1um), suporta personalização diversificada
Cenários aplicáveis: Calibração de visão computacional (segurança, cinema e televisão, médica, câmeras, câmeras de drones, estúdios de fotografia, instrumentos de pesquisa científica e outros equipamentos)
Material base: O material base da placa de calibração de tabuleiro de xadrez é opcional, e diferentes materiais base (como vidro, cerâmica, filme, placa de alumínio, etc.) podem ser personalizados de acordo com diferentes cenários de uso, ambientes e requisitos de precisão.
1. Parâmetros do substrato de vidro:
| Design |
Substrato |
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Processo de Fabricação |
Fotolitografia |
Substrato de vidro |
Vidro de quartzo (sílica fundida)/vidro de soda |
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Largura mínima da linha |
1µm / 0.55µm |
Taxa de transmitância (@550nm) |
>95% |
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Precisão do recurso |
±1µm |
Coeficiente de expansão térmica (20-200°C) |
<5.0×10⁻⁷/K |
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Revestimento |
Cromo amarelo, cromo brilhante , cromo azul (baixa refletividade) |
Razão de expansão (20-200°C) |
0.00006% (0.6µm/°C de 1m) |
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Refletividade |
< 13.4% @550nm |
Planicidade da superfície |
<0.55µm (comprimento<50mm) |
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< 1.8% @650nm |
<2µm (comprimento<100mm) |
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< 2.67% @750nm |
100mm) |
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Precisão do revestimento |
120nm (±0.20nm) |
Rugosidade da superfície |
<0.025µm |
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Densidade óptica OD |
Cromo Amarelo 3 (Azul 5) |
Espessura |
1mm,1.6mm,2.3mm,3mm(±0.2mm)(500*500*4.8) |
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Fundo branco |
Largura mínima da linha: 10µm |
Tamanho mínimo/máximo |
Mín: 2×2 mm |
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Espessura do fundo branco: 40 µm (revestimento branco liso no verso) |
Máx: 800×960mm (±0.1mm) |
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Formas positiva e negativa |
Positivo: padrão opaco Negativo: padrão translúcido |
Aparência e forma |
Quadrado |
2. Parâmetros do substrato cerâmico:
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Design |
Substrato |
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Processo de Fabricação |
Fotolitografia |
Tipo |
Cromo fosco em cerâmica fosca |
Cromo brilhante em cerâmica brilhante |
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Tipo |
Cerâmica fosca |
Cerâmica brilhante |
Substrato cerâmico |
Zircônia / Alumina |
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Largura mínima da linha |
4µm |
2µm |
Espessura |
1mm (±0.1mm, comum) |
2mm (comum) |
3mm (±0.1mm) |
|
Precisão do recurso |
±2µm |
±2µm |
Planicidade da superfície |
<30µm (comprimento<100mm) |
<60µm (comprimento<200mm) |
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Precisão da aparência |
±0.05mm |
±0.05mm |
Planicidade da superfície |
MÍN: 2×2mm (±0.1mm); MÁX: 228×228mm (±0.1mm) |
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Revestimento |
Cromo |
Cromo |
Rugosidade da superfície |
<0.2-0.7µm |
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Revestimento claro/revestimento fosco |
Revestimento de cromo fosco |
Revestimento de cromo brilhante |
Coeficiente de expansão térmica (40-400°C) |
<6.7×10⁻⁶/K |
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Refletância |
< 12.88% @550nm |
< 9.56% @550nm |
Peso unitário |
≥ 3.66 g/cm³ |
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< 10.62% @650nm |
< 1.89% @650nm |
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< 12.23% @750nm |
< 11.168% @750nm |
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Espessura do revestimento |
100-120nm |
100-120nm |
Dureza Rockwell |
≥80 HRA |
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Formas positiva e negativa |
Filme positivo: padrão opaco, Filme negativo: padrão transparente |
Aparência e forma |
Corte a laser de qualquer forma |
Quadrado |
Elipse |
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Camada protetora |
A fina camada acima da camada de cromo torna o padrão de cromo mais durável |
Forma especial |
Punção |
Chanfro |
Ângulo oblíquo |
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3. Parâmetros do substrato de filme:
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Design |
Substrato de filme |
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Processo de Fabricação |
Litografia (Máquina de Litografia de Filme) |
Aplicação |
Usado para transmissão/luz de fundo /teste funcional |
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Largura mínima da linha |
10 µm/30 µm opcional |
Coeficiente de expansão |
O filme encolhe quando aquecido e expande quando resfriado |
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Precisão do recurso
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±10µm |
10µm/°C de 1m Quando a temperatura relativa é constante,
Quando a umidade muda em 1 °C,
Um filme com 1m de comprimento mudará 10 µm (um décimo de milésimo)
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Revestimento |
Brometo de prata |
Taxa de transmitância (400~700nm) |
>90% ultravioletainfravermelho |
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Espessura do revestimento |
2µm |
Espessura do substrato de filme |
0.18mm (±0.01mm) |
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Densidade óptica OD |
OD>4 quando 100% preto
(Valor OD controlável em escala de cinza)
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Tamanho máximo |
0.71×0.81m (±0.1mm)(largura mínima da linha 10µm) 1.68×3.5m (±0.1mm)(largura mínima da linha 30µm) |
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Cor |
Escala de cinza preta, escala de cinza senoidal |
Aparência |
Corte a laser, corte de borda reta e esvaziamento de orifício circular estão disponíveis |