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Alvo de Calibração de Tabuleiro de Xadrez Preto e Branco / Tabuleiro de Xadrez de Calibração de Câmera

Alvo de Calibração de Tabuleiro de Xadrez Preto e Branco / Tabuleiro de Xadrez de Calibração de Câmera
país de origem
China
Nome da marca
DFOPTIX
Certificado
ISO9001
MOQ
1
Método do pagamento
T/T
Capacidade de fornecimento
A capacidade média mensal de produção de placas e filmes de calibração é de 300 mil peças
Detalhes do produto
Destacar:

Alvo de Calibração de Tabuleiro de Xadrez Preto e Branco

,

Alvo de Calibração de Tabuleiro de Xadrez Cerâmico

,

Tabuleiro de Xadrez de Calibração de Câmera Preto e Branco

Material: Vidro, cerâmica, filme, alumínio podem ser personalizados
Specification: A precisão pode chegar a 1um e o tamanho pode ser personalizado em até 1,68 * 3500 mm de acordo com
Shipping Option: FedEx e UPS
Descrição do produto
Especificações e características pormenorizadas

Placa de Calibração de Tabuleiro de Xadrez

 

A Placa de Calibração de Tabuleiro de Xadrez é uma das ferramentas mais utilizadas para calibração de câmeras e sistemas de visão. Seu padrão de quadrados pretos e brancos de alto contraste permite a detecção precisa de cantos, possibilitando a estimativa precisa de parâmetros intrínsecos e extrínsecos. Isso garante a correção eficaz da distorção da lente e o alinhamento confiável de sistemas multi-câmera ou câmera-robô. Fabricada com tolerâncias rigorosas em materiais duráveis como vidro, metal ou compósitos, a placa oferece excelente estabilidade e repetibilidade. Compatível com bibliotecas de visão populares como OpenCV e Halcon, é comumente aplicada em robótica, reconstrução 3D, automação industrial e aplicações de visão computacional que exigem alta precisão de calibração.

Recursos do Produto: Cantos de padrão claros, alta precisão, alto contraste/não reflexivo, Alta precisão (com precisão máxima de 1um), suporta personalização diversificada

Cenários aplicáveis: Calibração de visão computacional (segurança, cinema e televisão, médica, câmeras, câmeras de drones, estúdios de fotografia, instrumentos de pesquisa científica e outros equipamentos)

Material base: O material base da placa de calibração de tabuleiro de xadrez é opcional, e diferentes materiais base (como vidro, cerâmica, filme, placa de alumínio, etc.) podem ser personalizados de acordo com diferentes cenários de uso, ambientes e requisitos de precisão.

1. Parâmetros do substrato de vidro:

Design

Substrato

Processo de Fabricação

Fotolitografia

Substrato de vidro

Vidro de quartzo (sílica fundida)/vidro de soda

Largura mínima da linha

1µm / 0.55µm

Taxa de transmitância (@550nm)

>95%

Precisão do recurso

±1µm

Coeficiente de expansão térmica

(20-200°C)

<5.0×10⁻⁷/K

Revestimento

Cromo amarelo, cromo brilhante

, cromo azul (baixa refletividade)

Razão de expansão (20-200°C)

0.00006% (0.6µm/°C de 1m)

Refletividade

< 13.4% @550nm

Planicidade da superfície

<0.55µm (comprimento<50mm)

< 1.8% @650nm

<2µm (comprimento<100mm)

< 2.67% @750nm

100mm)

Precisão do revestimento

120nm (±0.20nm)

Rugosidade da superfície

<0.025µm

Densidade óptica OD

Cromo Amarelo 3 (Azul 5)

Espessura

1mm,1.6mm,2.3mm,3mm(±0.2mm)(500*500*4.8)

Fundo branco

Largura mínima da linha: 10µm

Tamanho mínimo/máximo

Mín: 2×2 mm

Espessura do fundo branco: 40 µm

(revestimento branco liso no verso)

Máx: 800×960mm (±0.1mm)

Formas positiva e negativa

Positivo: padrão opaco

Negativo: padrão translúcido

Aparência e forma

Quadrado

2. Parâmetros do substrato cerâmico:

Design

Substrato

Processo de Fabricação

Fotolitografia

Tipo

Cromo fosco em cerâmica fosca

Cromo brilhante em cerâmica brilhante

 

Tipo

Cerâmica fosca

Cerâmica brilhante

Substrato cerâmico

Zircônia / Alumina

Largura mínima da linha

4µm

2µm

Espessura

1mm (±0.1mm, comum)

2mm (comum)

3mm (±0.1mm)

Precisão do recurso

±2µm

±2µm

Planicidade da superfície

<30µm (comprimento<100mm)

<60µm (comprimento<200mm)

Precisão da aparência

±0.05mm

±0.05mm

Planicidade da superfície

MÍN: 2×2mm (±0.1mm);

MÁX: 228×228mm (±0.1mm)

Revestimento

Cromo

Cromo

Rugosidade da superfície

<0.2-0.7µm

Revestimento claro/revestimento fosco

Revestimento de cromo fosco

Revestimento de cromo brilhante

Coeficiente de expansão térmica

(40-400°C)

<6.7×10⁻⁶/K

Refletância

< 12.88% @550nm

< 9.56% @550nm

Peso unitário

≥ 3.66 g/cm³

< 10.62% @650nm

< 1.89% @650nm

< 12.23% @750nm

< 11.168% @750nm

Espessura do revestimento

100-120nm

100-120nm

Dureza Rockwell

≥80 HRA

Formas positiva e negativa

Filme positivo: padrão opaco,

Filme negativo: padrão transparente

Aparência e forma

Corte a laser de qualquer forma

Quadrado

Elipse

Camada protetora

A fina camada acima da camada de cromo

torna o padrão de cromo mais durável

Forma especial

Punção

Chanfro

Ângulo oblíquo

3. Parâmetros do substrato de filme:

Design

Substrato de filme

Processo de Fabricação

Litografia

(Máquina de Litografia de Filme)

Aplicação

Usado para transmissão/luz de fundo

/teste funcional

Largura mínima da linha

10 µm/30 µm opcional

Coeficiente de expansão

O filme encolhe quando aquecido e expande quando resfriado

Precisão do recurso

 

±10µm

10µm/°C de 1m

Quando a temperatura relativa é constante,
Quando a umidade muda em 1 °C,
Um filme com 1m de comprimento mudará 10 µm (um décimo de milésimo)

Revestimento

Brometo de prata

Taxa de transmitância (400~700nm)

>90% ultravioletainfravermelho

Espessura do revestimento

2µm

Espessura do substrato de filme

0.18mm (±0.01mm)

Densidade óptica OD

 

OD>4 quando 100% preto
(Valor OD controlável em escala de cinza)

 

Tamanho máximo

0.71×0.81m (±0.1mm)(largura mínima da linha 10µm)

1.68×3.5m (±0.1mm)(largura mínima da linha 30µm)

Cor

Escala de cinza preta,

escala de cinza senoidal

Aparência

Corte a laser, corte de borda reta e esvaziamento de orifício circular estão disponíveis

 

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