Schwarz-Weiß Schachbrett Kalibrierung Ziel / Kamera Kalibrierung Schachbrett

Ursprungsland

China

Markenbezeichnung

DFOPTIX

Zertifikat

ISO9001

MOQ

Zahlungs-Methode

T/T

Lieferkapazität

Die durchschnittliche monatliche Produktionskapazität für Kalibrierplatten und -folien beträgt 300.0

Produktdetails

Hervorheben:

Schwarz-Weiß Schachbrett Kalibrierungszweck

Keramisches Schachbrett Kalibrierziel

Schwarz-Weiß-Kamera Kalibrierung Schachbrett

Material: Glas, Keramik, Folie, Aluminium können individuell angepasst werden

Specification: Die Präzision kann 1 µm erreichen und die Größe kann je nach Material bis zu 1,68 * 3500 mm angepass

Shipping Option: FedEx und UPS

Produkt-Beschreibung

Detaillierte Spezifikationen & Funktionen

Schachbrettkalibrierbrett

Das Schachbrettkalibrierbrett ist eines der am weitesten verbreiteten Werkzeuge zur Kalibrierung von Kamera- und Bildsystemen.die eine genaue Schätzung der intrinsischen und extrinsischen Parameter ermöglichtDies gewährleistet eine effektive Korrektur der Objektivverzerrung und eine zuverlässige Ausrichtung von Mehrkamera- oder Kamera-roboter-Systemen.,Kompatibel mit beliebten Vision Bibliotheken wie OpenCV und Halcon, wird es häufig in der Robotik, 3D-Rekonstruktion,Industrieautomation, und Anwendungen für Bildverarbeitung, die eine hohe Kalibriergenauigkeit erfordern.

Eigenschaften des Produkts:Klare Musterwinkel, hohe Präzision, hoher Kontrast/nicht-reflektierende, hohe Präzision (mit einer maximalen Genauigkeit von 1um), unterstützt eine vielfältige Anpassung

Anwendbare Szenarien:Kalibrierung von Bildverarbeitung (Sicherheits-, Film- und Fernseh-, medizinische, Kamera-, Drohnenkameras, Fotostudios, wissenschaftliche Forschungsinstrumente und sonstige Geräte)

Ausgangsmaterial:Das Grundmaterial des Schachbrettkalibrierbrettes ist optional, und verschiedene Grundmaterialien (wie Glas, Keramik, Film, Aluminiumplatte usw.)) kann je nach verschiedenen Anwendungsfällen angepasst werden, Umgebungen und Genauigkeitsanforderungen.

1. Parameter des Glassubstrats:

Entwurf		Substrat
Herstellungsprozess	Fotolithographie	Glasunterlage	Quarzglas (geschmolzenes Kieselsäureglas) / Sodaglas
Mindestleitungsbreite	1 μm / 0,55 μm	Übertragungsrate ((@550 nm)	> 95%
Genauigkeit der Merkmale	± 1 μm	Koeffizient der thermischen Ausdehnung (20 bis 200°C)	< 5,0 × 10−7/K
Beschichtung	Gelbes Chrom, helles Chrom , blaues Chrom (niedrige Reflexionsfähigkeit)	Ausdehnungsverhältnis ((20-200°C)	00,00006% (0,6 μm/°C von 1 m)
Reflexionsfähigkeit	< 13,4% @ 550 nm	Flachheit der Oberfläche	< 0,55 μm (Länge < 50 mm)
	< 1,8% @ 650 nm		< 2 μm (Länge < 100 mm)
	< 2,67% @ 750 nm		< 5 μm (Länge> 100 mm)
Genauigkeit der Beschichtung	120 nm (± 0,20 nm)	Oberflächenrauheit	< 0,025 μm
Optische Dichte OD	Gelb Chrom 3 (blau 5)	Stärke	1 mm,10,6 mm,2.3mm,3mm(±0.2mm) ((5005004.8)
Weißer Hintergrund	Mindestleitungsbreite:10μm	Mindest-/Mehrgröße	Min: 2 × 2 mm
Weißer Hintergrund	Weiße Hintergrunddicke: 40 μ m (glatte weiße Beschichtung auf der Rückseite)	Mindest-/Mehrgröße	Maximal: 800 × 960 mm (± 0,1 mm)
Positive und negative Formen	Positiv: Muster undurchsichtig Negativ: durchscheinendes Muster	Aussehen und Form	Quadrat

2. Parameter des keramischen Substrats:

Entwurf			Substrat
Herstellungsprozess	Fotolithographie		Typ	Matte Chrom auf mattem Keramikwerk	Helle Chrom auf glänzender Keramik
Typ	Matte Keramik	mit einer Breite von nicht mehr als 15 mm	Keramische Substrate	Zirkonium / Aluminiumoxid
Mindestleitungsbreite	4 μm	2 μm	Stärke	1 mm (± 0,1 mm, üblich)	2 mm (alltäglich)	3 mm (± 0,1 mm)
Genauigkeit der Merkmale	± 2 μm	± 2 μm	Flachheit der Oberfläche	< 30 μm (Länge < 100 mm)	< 60 μm (Länge < 200 mm)
Genauigkeit des Erscheinungsbildes	± 0,05 mm	± 0,05 mm	Flachheit der Oberfläche	MIN: 2 × 2 mm (± 0,1 mm); Maximal: 228 × 228 mm (± 0,1 mm)
Beschichtung	Chrom	Chrom	Oberflächenrauheit	< 0,2-0,7 μm
Leichte/matte Beschichtung	Matte Chrombeschichtung	Lichtchrombeschichtung	Koeffizient der thermischen Ausdehnung (40 bis 400°C)	< 6,7 × 10−6/K
Reflexionen	< 12,88% @ 550 nm	< 9,56% @ 550 nm	Einheitsgewicht	≥ 3,66 g/cm3
	< 10,62% @650 nm	< 1,89% @ 650 nm
	< 12,23% @ 750 nm	< 11,168% @ 750 nm
Beschichtungsdicke	100 bis 120 nm	100 bis 120 nm	Rockwell-Härte	≥ 80 HRA
Positive und negative Formen	Positiver Film: undurchsichtiges Muster, Negativfilm: durchsichtiges Muster		Aussehen und Form	Laserschneiden, beliebiger Form	Quadrat	Ellipse
Schutzschicht	Der dünne Film über der Chromschicht macht das Chrommuster langlebiger		Besondere Form	Schlag	Schaum	Schrägwinkel

3. Parameter des Filmsubstrats:

Entwurf		Filmsubstrat
Herstellungsprozess	Lithographie (Film Lithographie Maschine)	Anwendung	Verwendet für Übertragung/Hintergrundbeleuchtung /Funktionstests
Mindestleitungsbreite	10 μm/30 μm nicht erwünscht	Expansionskoeffizient	Der Film schrumpft beim Erhitzen und dehnt sich beim Abkühlen aus
Genauigkeit der Merkmale	± 10 μm	Expansionskoeffizient	10 μm/°C von 1 m Wenn die relative Temperatur konstant ist, Wenn sich die Luftfeuchtigkeit um 1 °C ändert, Ein Film mit einer Länge von 1 m verändert sich um 10 μ m (ein Zehntausendstel)
Beschichtung	Silberbromid	Übertragungsgeschwindigkeit ((400 ~ 700 nm)	> 90% ultraviolett < 400 ~ 700 nm> Infrarot
Beschichtungsdicke	2 μm	Filmsubstratdicke	0.18 mm (± 0,01 mm)
Optische Dichte OD	OD> 4 bei 100% schwarz (OD-Wert in Graustufen steuerbar)	Höchstgröße	0.71 × 0,81 m (± 0,1 mm) (mindestens 10 μm Linienbreite) 1.68×3,5 m (±0,1 mm) (mindestens Linienbreite 30 μm)
Farbe	Schwarze Graustufen, Sinus-Graueskala	Aussehen	Laserschneiden, Gerade-Kanten-Schneiden und kreisförmiges Bohren sind erhältlich

Umbauten:

Maschinen-Vision-Kalibrierziel

Halcon-Kalibrierungsplatte

Präzisionskalibrierungsziel

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