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Hikvision II Code QR Calibration de la vision cible Contraste élevé Non réfléchissante

Hikvision II Code QR Calibration de la vision cible Contraste élevé Non réfléchissante
pays d'origine
Chine
Nom de marque
DFOPTIX
Certificat
ISO9001
MOQ
1
Méthode de paiement
T/T
Capacité d'approvisionnement
La capacité de production mensuelle moyenne de plaques et de films d'étalonnage est de 300 000 p
Détails de produit
Mettre en évidence:

Calibration de la vision cible Contraste élevé

,

Objectif d'étalonnage de la vision non réfléchissant

,

Cible d'étalonnage du code QR

Material: Le verre, la céramique, le film et l'aluminium peuvent être personnalisés
Specification: La précision peut atteindre 1 um et la taille peut être personnalisée jusqu'à 1,68*3500 mm selon
Shipping Option: FedEx et UPS
Description de produit
Spécifications détaillées et caractéristiques

Panneau de calibration QR Code Hikvision II

 

Caractéristiques du produit :Haute précision au micron près, contraste élevé, non réfléchissant, clair et facile à identifier, Haute précision (avec une précision maximale de 1 µm), prend en charge la personnalisation de dessins multi-formats

Scénarios applicables :Calibration de vision industrielle (sécurité, cinéma, médical, appareil photo, caméra drone, studio photo, instruments de recherche scientifique et autres équipements)

Substrat : Le substrat de la plaque de calibration QR Code est facultatif, et différents substrats (tels que verre, céramique, plaque d'aluminium, etc.) peuvent être personnalisés en fonction des différents scénarios d'utilisation, environnements et exigences de précision.

1. Paramètres du substrat en verre :

Conception

Substrat

Processus de fabrication

Photolithographie

Substrat en verre

Verre de quartz (silice fondue)/verre sodocalcique

Largeur de ligne minimale

1 µm / 0,55 µm

Taux de transmission (@550 nm)

>95 %

Précision des caractéristiques

±1 µm

Coefficient de dilatation thermique

 (20-200 °C)

<5,0 × 10⁻⁷/K

Revêtement

Chrome jaune, chrome brillant

, chrome bleu (faible réflectivité)

Rapport d'expansion (20-200 °C)

0,00006 % (0,6 µm/°C sur 1 m)

Réflectance

< 13,4 % @550 nm

Planéité de surface

<0,55 µm (longueur<50 mm)

< 1,8 % @650 nm

<2 µm (longueur<100 mm)

< 2,67 % @750 nm

100 mm)

Précision du revêtement

120 nm (±0,20 nm)

Rugosité de surface

<0,025 µm

Densité optique OD

Chrome jaune 3 (Bleu 5)

Épaisseur

1 mm, 1,6 mm, 2,3 mm, 3 mm (±0,2 mm) (500*500*4,8)

Fond blanc

Largeur de ligne minimale : 10 µm

Taille minimale/maximale

Min : 2 × 2 mm

Épaisseur du fond blanc : 40 µm

(revêtement blanc lisse au dos)

Max : 800 × 960 mm (±0,1 mm)

Formes positives et négatives

Positif : motif opaque

Négatif : motif translucide

Apparence et forme

Carré

2. Paramètres du substrat en céramique :

Conception

Substrat

Processus de fabrication

Photolithographie

Type

Chrome mat sur céramique mate

Chrome brillant sur céramique brillante

 

Type

Céramique mate

Céramique brillante

Substrat en céramique

Zircone / Alumine

Largeur de ligne minimale

4 µm

2 µm

Épaisseur

1 mm (±0,1 mm, courant)

2 mm (courant)

3 mm (±0,1 mm)

Précision des caractéristiques

±2 µm

±2 µm

Planéité de surface

<30 µm (longueur<100 mm)

<60 µm (longueur<200 mm)

Précision d'apparence

±0,05 mm

±0,05 mm

Planéité de surface

MIN : 2 × 2 mm (±0,1 mm) ;

MAX : 228 × 228 mm (±0,1 mm)

Revêtement

Chrome

Chrome

Rugosité de surface

<0,2-0,7 µm

Revêtement clair/revêtement mat

Revêtement chrome mat

Revêtement chrome brillant

Coefficient de dilatation thermique

(40-400 °C)

<6,7 × 10⁻⁶/K

Réflectance

< 12,88 % @550 nm

< 9,56 % @550 nm

Poids unitaire

≥ 3,66 g/cm³

< 10,62 % @650 nm

< 1,89 % @650 nm

< 12,23 % @750 nm

< 11,168 % @750 nm

Épaisseur du revêtement

100-120 nm

100-120 nm

Dureté Rockwell

≥80 HRA

Formes positives et négatives

Film positif : motif opaque,

Film négatif : motif transparent

Apparence et forme

Découpe laser de toute forme

Carré

Ellipse

Couche protectrice

Le film mince au-dessus de la couche de chrome

rend le motif chromé plus durable

Forme spéciale

Poinçon

Biseautage

Angle oblique

3. Paramètres du substrat film :

Conception

Substrat film

Processus de fabrication

Lithographie

(Machine de lithographie sur film)

Application

Utilisé pour la transmission/rétroéclairage

/tests fonctionnels

Largeur de ligne minimale

10 µm/30 µm en option

Coefficient de dilatation

Le film se contracte lorsqu'il est chauffé et se dilate lorsqu'il est refroidi

Précision des caractéristiques

 

±10 µm

10 µm/°C sur 1 m

Lorsque la température relative est constante,
Lorsque l'humidité change de 1 °C,
Un film d'une longueur de 1 m changera de 10 µm (un dix-millième)

Revêtement

Bromure d'argent

Taux de transmission (400~700 nm)

>90 %      ultravioletinfrarouge

Épaisseur du revêtement

2 µm

Épaisseur du substrat film

0,18 mm (±0,01 mm)

Densité optique OD

 

OD>4 à 100 % noir
(Valeur OD contrôlable en niveaux de gris)

 

Taille maximale

0,71 × 0,81 m (±0,1 mm) (largeur de ligne minimale 10 µm)

1,68 × 3,5 m (±0,1 mm) (largeur de ligne minimale 30 µm)

Couleur

Niveaux de gris noir,

niveaux de gris sinusoïdaux

Apparence

Découpe laser, découpe à bord droit et évidement de trous circulaires disponibles

 

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