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Hikvision II QR-Code-Vision-Kalibrierungsziel Hoher Kontrast Nicht reflektierend

Hikvision II QR-Code-Vision-Kalibrierungsziel Hoher Kontrast Nicht reflektierend
Ursprungsland
China
Markenbezeichnung
DFOPTIX
Zertifikat
ISO9001
MOQ
1
Zahlungs-Methode
T/T
Lieferkapazität
Die durchschnittliche monatliche Produktionskapazität für Kalibrierplatten und -folien beträgt 300.0
Produktdetails
Hervorheben:

Vision-Kalibrierungsziel Hoher Kontrast

,

Vision-Kalibrierungsziel Nicht reflektierend

,

QR-Code-Kalibrierungsziel

Material: Glas, Keramik, Folie, Aluminium können individuell angepasst werden
Specification: Die Präzision kann 1 µm erreichen und die Größe kann je nach Material bis zu 1,68 * 3500 mm angepass
Shipping Option: FedEx und UPS
Produkt-Beschreibung
Detaillierte Spezifikationen & Funktionen

Hikvision II QR-Code-Kalibrierungsplatine

 

Produktmerkmale: Mikrometer-hohe Präzision, hoher Kontrast, nicht reflektierend, klar und leicht zu identifizieren, Hohe Präzision (mit einer maximalen Genauigkeit von 1 µm), unterstützt kundenspezifische Zeichnungen in mehreren Formaten

Anwendbare Szenarien: Maschinelles Sehen Kalibrierung (Sicherheit, Film und Fernsehen, Medizin, Kamera, Drohnenkamera, Fotostudio, wissenschaftliche Forschungsinstrumente und andere Geräte)

Substrat: Das Substrat für die QR-Code-Kalibrierungsplatte ist optional, und verschiedene Substrate (wie Glas, Keramik, Aluminiumplatte usw.) können je nach Einsatzszenario, Umgebung und Genauigkeitsanforderungen angepasst werden.

1. Parameter für Glas-Substrat:

Design

Substrat

Herstellungsprozess

Photolithographie

Glas-Substrat

Quarzglas (geschmolzenes Siliziumdioxid)/Natronkalkglas

Minimale Linienbreite

1µm / 0,55µm

Transmissionsrate(@550nm)

>95%

Merkmalsgenauigkeit

±1µm

Thermischer Ausdehnungskoeffizient

 (20-200°C)

<5,0×10⁻⁷/K

Beschichtung

Gelbchrom, Glanzchrom

, Blauchrom (geringe Reflexion)

Ausdehnungsverhältnis(20-200°C)

0,00006% (0,6µm/°C von 1m)

Reflexionsgrad

< 13,4% bei 550nm

Oberflächenplanheit

<0,55µm (Länge<50mm)

< 1,8% bei 650nm

<2µm (Länge<100mm)

< 2,67% bei 750nm

100mm)

Beschichtungsgenauigkeit

120nm (±0,20nm)

Oberflächenrauheit

<0,025µm

Optische Dichte OD

Gelbchrom 3 (Blau 5)

Dicke

1mm, 1,6mm, 2,3mm, 3mm (±0,2mm) (500*500*4,8)

Weißer Hintergrund

Minimale Linienbreite: 10µm

Minimale/Maximale Größe

Min: 2×2 mm

Dicke des weißen Hintergrunds: 40 µ m

(glatte weiße Beschichtung auf der Rückseite)

Max: 800×960mm (±0,1mm)

Positive und negative Formen

Positiv: Muster opak

Negativ: Muster transluzent

Aussehen und Form

Quadratisch

2. Parameter für Keramik-Substrat:

Design

Substrat

Herstellungsprozess

Photolithographie

Typ

Mattchrom auf matter Keramik

Glanzchrom auf glänzender Keramik

 

Typ

Matte Keramik

Glänzende Keramik

Keramik-Substrat

Zirkonoxid / Aluminiumoxid

Minimale Linienbreite

4µm

2µm

Dicke

1mm (±0,1mm, üblich)

2mm (üblich)

3mm (±0,1mm)

Merkmalsgenauigkeit

±2µm

±2µm

Oberflächenplanheit

<30µm (Länge<100mm)

<60µm (Länge<200mm)

Aussehen-Genauigkeit

±0,05mm

±0,05mm

Oberflächenplanheit

MIN: 2×2mm (±0,1mm);

MAX: 228×228mm (±0,1mm)

Beschichtung

Chrom

Chrom

Oberflächenrauheit

<0,2-0,7µm

Lichtbeschichtung/Mattbeschichtung

Mattchrombeschichtung

Glanzchrombeschichtung

Thermischer Ausdehnungskoeffizient

(40-400°C)

<6,7×10⁻⁶/K

Reflexionsgrad

< 12,88% bei 550nm

< 9,56% bei 550nm

Einheitsgewicht

≥ 3,66 g/cm³

< 10,62% bei 650nm

< 1,89% bei 650nm

< 12,23% bei 750nm

< 11,168% bei 750nm

Beschichtungsdicke

100-120nm

100-120nm

Rockwell-Härte

≥80 HRA

Positive und negative Formen

Positivfilm: opakes Muster,

Negativfilm: transparentes Muster

Aussehen und Form

Laserschnitt in beliebiger Form

Quadratisch

Ellipse

Schutzschicht

Die dünne Schicht über der Chromschicht

macht das Chrommuster haltbarer

Sonderform

Stanze

Fase

Schräger Winkel

3. Parameter für Film-Substrat:

Design

Film-Substrat

Herstellungsprozess

Lithographie

(Film-Lithographiemaschine)

Anwendung

Verwendet für Transmission/Hintergrundbeleuchtung

/Funktionstests

Minimale Linienbreite

10 µ m/30 µ m optional

Ausdehnungskoeffizient

Film schrumpft bei Erwärmung und dehnt sich bei Abkühlung aus

Merkmalsgenauigkeit

 

±10µm

10µm/°C von 1m

Bei konstanter relativer Temperatur,
Wenn sich die Luftfeuchtigkeit um 1 ° C ändert,
Ein Film von 1 m Länge ändert sich um 10 µ m (ein Zehntausendstel)

Beschichtung

Silberbromid

Transmissionsrate(400~700nm)

>90%      UltraviolettInfrarot

Beschichtungsdicke

2µm

Dicke des Film-Substrats

0,18mm  (±0,01mm)

Optische Dichte OD

 

OD>4 bei 100% Schwarz
(OD-Wert steuerbar in Graustufen)

 

Maximale Größe

0,71×0,81m (±0,1mm) (minimale Linienbreite 10µm)

1,68×3,5m (±0,1mm) (minimale Linienbreite 30µm)

Farbe

Schwarze Graustufen,

Sinus-Graustufen

Aussehen

Laserschnitt, gerade Kanten und kreisförmige Lochhohlräume sind verfügbar

 

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