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Hikvision II Codice QR Calibrazione della visione Obiettivo Contrasto elevato Non riflettente
Calibrazione della visione Obiettivo alto contrasto
,Visore di calibrazione non riflettente
,Obiettivo di calibrazione del codice QR
Scheda di calibrazione QR Code Hikvision II
Caratteristiche del prodotto: Alta precisione al micron, alto contrasto, non riflettente, chiaro e facile da identificare, Alta precisione (con un'accuratezza massima di 1um), supporta la personalizzazione di disegni multi-formato
Scenari applicabili: Calibrazione della visione artificiale (sicurezza, film e televisione, medico, fotocamera, fotocamera per droni, studio fotografico, strumenti di ricerca scientifica e altre apparecchiature)
Substrato: Il substrato per la piastra di calibrazione QR code è opzionale e diversi substrati (come vetro, ceramica, piastra di alluminio, ecc.) possono essere personalizzati in base a diversi scenari di utilizzo, ambienti e requisiti di precisione.
1. Parametri del substrato in vetro:
| Design |
Substrato |
||
|
Processo di produzione |
Fotolitografia |
Substrato in vetro |
Vetro di quarzo (silice fusa)/vetro sodico |
|
Larghezza minima della linea |
1µm / 0.55µm |
Tasso di trasmissione(@550nm) |
>95% |
|
Accuratezza delle caratteristiche |
±1µm |
Coefficiente di espansione termica (20-200°C) |
<5.0×10⁻⁷/K |
|
Rivestimento |
Cromo giallo, cromo brillante , cromo blu (bassa riflettività) |
Rapporto di espansione (20-200°C) |
0,00006% (0,6µm/°C di 1m) |
|
Riflettività |
< 13,4% @550nm |
Planarità della superficie |
<0,55µm (lunghezza<50mm) |
|
< 1,8% @650nm |
<2µm (lunghezza<100mm) |
||
|
< 2,67% @750nm |
100mm) |
||
|
Accuratezza del rivestimento |
120nm (±0,20nm) |
Rugosità superficiale |
<0,025µm |
|
Densità ottica OD |
Cromo giallo 3 (Blu 5) |
Spessore |
1mm,1,6mm,2,3mm,3mm(±0,2mm)(500*500*4,8) |
|
Sfondo bianco |
Larghezza minima della linea: 10µm |
Dimensioni minime/massime |
Min: 2×2 mm |
|
Spessore dello sfondo bianco: 40 µ m (rivestimento bianco liscio sul retro) |
Max: 800×960mm (±0,1mm) |
||
|
Forme positive e negative |
Positivo: motivo opaco Negativo: motivo traslucido |
Aspetto e forma |
Quadrato |
2. Parametri del substrato ceramico:
|
Design |
Substrato |
|||||
|
Processo di produzione |
Fotolitografia |
Tipo |
Cromo opaco su ceramica opaca |
Cromo brillante su ceramica lucida |
|
|
|
Tipo |
Ceramica opaca |
Ceramica lucida |
Substrato ceramico |
Zirconia / Allumina |
||
|
Larghezza minima della linea |
4µm |
2µm |
Spessore |
1mm (±0,1mm, comune) |
2mm (comune) |
3mm (±0,1mm) |
|
Accuratezza delle caratteristiche |
±2µm |
±2µm |
Planarità della superficie |
<30µm (lunghezza<100mm) |
<60µm (lunghezza<200mm) |
|
|
Accuratezza dell'aspetto |
±0,05mm |
±0,05mm |
Planarità della superficie |
MIN: 2×2mm (±0,1mm); MAX: 228×228mm (±0,1mm) |
||
|
Rivestimento |
Cromo |
Cromo |
Rugosità superficiale |
<0,2-0,7µm |
||
|
Rivestimento chiaro/rivestimento opaco |
Rivestimento in cromo opaco |
Rivestimento in cromo brillante |
Coefficiente di espansione termica (40-400°C) |
<6,7×10⁻⁶/K |
||
|
Riflettività |
< 12,88% @550nm |
< 9,56% @550nm |
Peso unitario |
≥ 3,66 g/cm³ |
||
|
< 10,62% @650nm |
< 1,89% @650nm |
|||||
|
< 12,23% @750nm |
< 11,168% @750nm |
|||||
|
Spessore del rivestimento |
100-120nm |
100-120nm |
Durezza Rockwell |
≥80 HRA |
||
|
Forme positive e negative |
Film positivo: motivo opaco, Film negativo: motivo trasparente |
Aspetto e forma |
Taglio laser di qualsiasi forma |
Quadrato |
Ellisse |
|
|
Strato protettivo |
Il sottile strato sopra lo strato di cromo rende il motivo in cromo più durevole |
Forma speciale |
Punzone |
Smusso |
Angolo obliquo |
|
3. Parametri del substrato in film:
|
Design |
Substrato in film |
||
|
Processo di produzione |
Litografia (Macchina litografica per film) |
Applicazione |
Utilizzato per trasmissione/retroilluminazione /test funzionali |
|
Larghezza minima della linea |
10 µ m/30 µ m opzionale |
Coefficiente di espansione |
Il film si restringe quando riscaldato e si espande quando raffreddato |
|
Accuratezza delle caratteristiche
|
±10µm |
10µm/°C di 1m Quando la temperatura relativa è costante,
Quando l'umidità cambia di 1 ° C,
Un film lungo 1 m cambierà di 10 µ m (un decimo di millesimo)
|
|
|
Rivestimento |
Bromuro d'argento |
Tasso di trasmissione (400~700nm) |
>90% ultraviolettoinfrarosso |
|
Spessore del rivestimento |
2µm |
Spessore del substrato in film |
0,18mm (±0,01mm) |
|
Densità ottica OD |
OD>4 al 100% nero
(Valore OD controllabile in scala di grigi)
|
Dimensioni massime |
0,71×0,81m (±0,1mm)(larghezza minima della linea 10µm) 1,68×3,5m (±0,1mm)(larghezza minima della linea 30µm) |
|
colore |
Scala di grigi nera, scala di grigi sinusoidale |
Aspetto |
Sono disponibili taglio laser, taglio a bordo dritta e svuotamento di fori circolari |
Reticolo di vetro al quarzo ad alta precisione Reticolo di fotolitografia
Reticolo ad alta precisione Caratteristiche del prodotto:Alta precisione, alta stabilità, alto contrasto, buona durata, trasmissione del 90% e personalizzabile in vari modi; Aree di applicazione: Strumenti ottici (microscopi, telescopi, mirini, ecc.), visione industriale (posizionamento visione ...
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