Alvo de Calibração de Visão Hikvision II QR Code Alto Contraste Não Refletivo
Alvo de Calibração de Visão Alto Contraste
,Alvo de Calibração de Visão Não Refletivo
,Alvo de Calibração QR Code
Placa de Calibração de Código QR Hikvision II
Recursos do Produto: Precisão de nível de mícrons, alto contraste, não reflexivo, claro e fácil de identificar, Alta precisão (com precisão máxima de 1um), suporta personalização de desenho em vários formatos
Cenários aplicáveis: Calibração de visão computacional (segurança, cinema e televisão, medicina, câmeras, câmeras de drones, estúdios de fotografia, instrumentos de pesquisa científica e outros equipamentos)
Substrato: O substrato para a placa de calibração de código QR é opcional, e diferentes substratos (como vidro, cerâmica, placa de alumínio, etc.) podem ser personalizados de acordo com diferentes cenários de uso, ambientes e requisitos de precisão.
1. Parâmetros do substrato de vidro:
| Design |
Substrato |
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Processo de Fabricação |
Fotolitografia |
Substrato de vidro |
Vidro de quartzo (sílica fundida)/vidro de soda |
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Largura mínima da linha |
1µm / 0,55µm |
Taxa de transmitância(@550nm) |
>95% |
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Precisão do recurso |
±1µm |
Coeficiente de expansão térmica (20-200°C) |
<5,0×10⁻⁷/K |
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Revestimento |
Cromo amarelo, cromo brilhante , cromo azul (baixa refletividade) |
Razão de expansão(20-200°C) |
0,00006% (0,6µm/°C de 1m) |
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Refletividade |
< 13,4% @550nm |
Planicidade da superfície |
<0,55µm (comprimento<50mm) |
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< 1,8% @650nm |
<2µm (comprimento<100mm) |
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< 2,67% @750nm |
100mm) |
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Precisão do revestimento |
120nm (±0,20nm) |
Rugosidade da superfície |
<0,025µm |
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Densidade óptica OD |
Cromo Amarelo 3 (Azul 5) |
Espessura |
1mm,1,6mm,2,3mm,3mm(±0,2mm)(500*500*4,8) |
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Fundo branco |
Largura mínima da linha: 10µm |
Tamanho mínimo/máximo |
Mín: 2×2 mm |
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Espessura do fundo branco: 40 µ m (revestimento branco liso no verso) |
Máx: 800×960mm (±0,1mm) |
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Formas positiva e negativa |
Positivo: padrão opaco Negativo: padrão translúcido |
Aparência e forma |
Quadrado |
2. Parâmetros do substrato cerâmico:
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Design |
Substrato |
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Processo de Fabricação |
Fotolitografia |
Tipo |
Cromo fosco em cerâmica fosca |
Cromo brilhante em cerâmica brilhante |
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Tipo |
Cerâmica fosca |
Cerâmica brilhante |
Substrato cerâmico |
Zircônia / Alumina |
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Largura mínima da linha |
4µm |
2µm |
Espessura |
1mm (±0,1mm, comum) |
2mm (comum) |
3mm (±0,1mm) |
|
Precisão do recurso |
±2µm |
±2µm |
Planicidade da superfície |
<30µm (comprimento<100mm) |
<60µm (comprimento<200mm) |
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Precisão da aparência |
±0,05mm |
±0,05mm |
Planicidade da superfície |
MÍN: 2×2mm (±0,1mm); MÁX: 228×228mm (±0,1mm) |
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Revestimento |
Cromo |
Cromo |
Rugosidade da superfície |
<0,2-0,7µm |
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Revestimento claro/revestimento fosco |
Revestimento de cromo fosco |
Revestimento de cromo brilhante |
Coeficiente de expansão térmica (40-400°C) |
<6,7×10⁻⁶/K |
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Refletância |
< 12,88% @550nm |
< 9,56% @550nm |
Peso unitário |
≥ 3,66 g/cm³ |
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< 10,62% @650nm |
< 1,89% @650nm |
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< 12,23% @750nm |
< 11,168% @750nm |
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Espessura do revestimento |
100-120nm |
100-120nm |
Dureza Rockwell |
≥80 HRA |
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Formas positiva e negativa |
Filme positivo: padrão opaco, Filme negativo: padrão transparente |
Aparência e forma |
Corte a laser de qualquer forma |
Quadrado |
Elipse |
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Camada protetora |
A fina camada acima da camada de cromo torna o padrão de cromo mais durável |
Forma especial |
Punção |
Chanfro |
Ângulo oblíquo |
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3. Parâmetros do substrato de filme:
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Design |
Substrato de filme |
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Processo de Fabricação |
Litografia (Máquina de Litografia de Filme) |
Aplicação |
Usado para transmissão/luz de fundo /teste funcional |
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Largura mínima da linha |
10 µ m/30 µ m opcional |
Coeficiente de expansão |
O filme encolhe quando aquecido e expande quando resfriado |
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Precisão do recurso
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±10µm |
10µm/°C de 1m Quando a temperatura relativa é constante,
Quando a umidade muda em 1 °C,
Um filme com 1m de comprimento mudará 10 µ m (um décimo de milésimo)
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Revestimento |
Brometo de prata |
Taxa de transmitância(400~700nm) |
>90% ultravioletainfravermelho |
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Espessura do revestimento |
2µm |
Espessura do substrato de filme |
0,18mm (±0,01mm) |
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Densidade óptica OD |
OD>4 quando 100% preto
(Valor OD controlável em escala de cinza)
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Tamanho máximo |
0,71×0,81m (±0,1mm)(largura mínima da linha 10µm) 1,68×3,5m (±0,1mm)(largura mínima da linha 30µm) |
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Cor |
Escala de cinza preta, escala de cinza senoidal |
Aparência |
Corte a laser, corte de borda reta e esvaziamento de orifício circular estão disponíveis |