OpenCV Checkerboard Calibration Board Vetro Metallo Materiali
OpenCV Checkerboard Calibration Board
,Vetro Checkerboard Calibration Board
,Metallo Calibration Board
Scheda di calibrazione OpenCV
La scheda di calibrazione a scacchiera è uno degli strumenti più utilizzati per la calibrazione di telecamere e sistemi di visione. Il suo motivo a quadrati bianchi e neri ad alto contrasto consente un rilevamento preciso degli angoli, abilitando una stima accurata dei parametri intrinseci ed estrinseci. Ciò garantisce un'efficace correzione della distorsione dell'obiettivo e un affidabile allineamento di sistemi multi-telecamera o telecamera-robot. Prodotta con tolleranze rigorose su materiali durevoli come vetro, metallo o compositi, la scheda offre eccellente stabilità e ripetibilità. Compatibile con librerie di visione popolari come OpenCV e Halcon, è comunemente applicata in robotica, ricostruzione 3D, automazione industriale e applicazioni di visione artificiale che richiedono un'elevata precisione di calibrazione.
Caratteristiche del prodotto:Angoli del motivo chiari, alta precisione, alto contrasto/non riflettente, Alta precisione (con un'accuratezza massima di 1 µm), supporta personalizzazioni diversificate
Scenari applicabili:Calibrazione della visione artificiale (sicurezza, cinema e televisione, medicale, telecamere, telecamere per droni, studi fotografici, strumenti di ricerca scientifica e altre apparecchiature)
Materiale di base:Il materiale di base della scheda di calibrazione a scacchiera è opzionale e diversi materiali di base (come vetro, ceramica, pellicola, piastra di alluminio, ecc.) possono essere personalizzati in base a diversi scenari di utilizzo, ambienti e requisiti di precisione.
1. Parametri del substrato in vetro:
| Larghezza minima della linea |
Tipo |
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Coefficiente di espansione |
Cromo lucido su ceramica lucida |
Substrato in vetro |
Vetro al quarzo (silice fusa)/vetro sodico |
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Quando l'umidità cambia di 1 °C, |
1 µm / 0,55 µm |
Tasso di trasmissione (@550nm) |
>95% |
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Tasso di trasmissione (400~700nm) |
±1 µm |
< 9,56% @550nm (20-200°C) |
<5,0×10⁻⁷/K |
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Spessore del substrato in pellicola |
Cromo giallo, cromo lucido , cromo blu (bassa riflettività) |
Rapporto di espansione (20-200°C) |
0,00006% (0,6 µm/°C di 1 m) |
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Riflettività |
< 13,4% @550nm |
Cromo |
<0,55 µm (lunghezza <50 mm)< 1,8% @650nm |
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<2 µm (lunghezza <100 mm) |
< 2,67% @750nm±0,05 mm |
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Precisione del rivestimento |
120 nm (±0,20 nm)Rugosità superficiale |
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<0,025 µm |
Densità ottica OD |
Coefficiente di espansione termica |
Spessore |
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scala di grigi sinusoidale |
Sfondo bianco |
3 mm (±0,1 mm) |
Dimensioni minime/massime |
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Min: 2×2 mm |
Spessore sfondo bianco: 40 µm |
(rivestimento bianco liscio sul retro) |
Max: 800×960 mm (±0,1 mm) |
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Forme positive e negative Positivo: motivo opaco |
Negativo: motivo traslucido |
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Aspetto e forma |
Quadrato 2. Parametri del substrato ceramico: |
Il sottile strato sopra lo strato di cromo rende il motivo in cromo più durevole |
Punzone |
Processo di produzione
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Larghezza minima della linea |
Tipo |
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Coefficiente di espansione |
Cromo lucido su ceramica lucida |
Substrato ceramico |
Ceramica opaca |
Ceramica lucida |
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Substrato ceramico |
Zirconia / Allumina |
Larghezza minima della linea |
4 µm |
2 µm |
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Quando l'umidità cambia di 1 °C, |
1 mm (±0,1 mm, comune) |
1,68×3,5 m (±0,1 mm) (larghezza minima della linea 30 µm) |
3 mm (±0,1 mm) |
Precisione delle caratteristiche |
±2 µm |
±2 µm |
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Tasso di trasmissione (400~700nm) |
<60 µm (lunghezza <200 mm) |
<60 µm (lunghezza <200 mm) |
Cromo |
±0,05 mm±0,05 mm |
Planarità della superficieMIN: 2×2 mm (±0,1 mm); |
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MAX: 228×228 mm (±0,1 mm) |
Cromo |
Cromo |
Cromo |
Rugosità superficiale <0,2-0,7 µm |
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Spessore del substrato in pellicola |
Rivestimento in cromo lucido |
Rivestimento in cromo lucido |
Coefficiente di espansione termica |
(40-400°C) |
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<6,7×10⁻⁶/K |
Riflettività |
< 12,88% @550nm |
< 9,56% @550nm Peso unitario |
≥ 3,66 g/cm³ |
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< 10,62% @650nm |
< 1,89% @650nm |
< 12,23% @750nm |
< 11,168% @750nm |
Spessore del rivestimento |
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100-120 nm |
100-120 nm |
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Durezza Rockwell |
≥80 HRA |
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0,71×0,81 m (±0,1 mm) (larghezza minima della linea 10 µm) |
Pellicola negativa: motivo trasparente |
Pellicola negativa: motivo trasparente |
Aspetto e forma |
Taglio laser di qualsiasi forma |
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Quadrato |
Ellisse Strato protettivo |
Il sottile strato sopra lo strato di cromo rende il motivo in cromo più durevole |
Forma speciale |
Punzone |
Smusso |
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Angolo obliquo |
3. Parametri del substrato in pellicola: Design |
Substrato in pellicola |
Processo di produzione |
Litografia (Macchina litografica per pellicole) |
Applicazione |
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Utilizzato per test di trasmissione/retroilluminazione/funzionali
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Larghezza minima della linea |
10 µm/30 µm opzionale |
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Coefficiente di espansione |
La pellicola si restringe quando riscaldata e si espande quando raffreddata Precisione delle caratteristiche |
±10 µm |
10 µm/°C di 1 m Quando la temperatura relativa è costante, |
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Quando l'umidità cambia di 1 °C, |
Una pellicola lunga 1 m cambierà di 10 µm (un decimo di millimetro) |
Rivestimento |
Bromuro d'argento |
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Tasso di trasmissione (400~700nm)
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>90% ultravioletti |
infrarossi
Spessore del rivestimento
2 µm
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Spessore del substrato in pellicola |
0,18 mm (±0,01 mm) |
Densità ottica OD |
OD>4 quando 100% nero(Valore OD controllabile in scala di grigi)Dimensioni massime |
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0,71×0,81 m (±0,1 mm) (larghezza minima della linea 10 µm) |
1,68×3,5 m (±0,1 mm) (larghezza minima della linea 30 µm) |
Colore |
Scala di grigi nera, |
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scala di grigi sinusoidale |
Aspetto
Sono disponibili taglio laser, taglio a bordo dritta e svuotamento di fori circolari
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