Tablero de calibración de ajedrez OpenCV Materiales metálicos de vidrio

Proceso de fabricación

Fotolitografía

Sustrato de vidrio

Vidrio de cuarzo (sílice fundida)/vidrio de sosa

Ancho de línea mínimo

1 µm / 0,55 µm

Tasa de transmitancia (@550nm)

>95%

Precisión de características

±1 µm

Coeficiente de expansión térmica

(20-200 °C)

<5,0×10⁻⁷/K

Recubrimiento

Cromo amarillo, cromo brillante

, cromo azul (baja reflectividad)

Relación de expansión (20-200 °C)

0,00006% (0,6 µm/°C de 1 m)

Reflectancia

< 13,4% @550nm

Planitud de la superficie

<0,55 µm (longitud<50 mm)

< 1,8% @650nm

<2 µm (longitud<100 mm)

< 2,67% @750nm

100 mm)

Precisión del recubrimiento

120 nm (±0,20 nm)

Rugosidad de la superficie

<0,025 µm

Densidad óptica OD

Cromo Amarillo 3 (Azul 5)

Espesor

1 mm, 1,6 mm, 2,3 mm, 3 mm (±0,2 mm) (500*500*4,8)

Fondo blanco

Ancho de línea mínimo: 10 µm

Tamaño mínimo/máximo

Mín: 2×2 mm

Espesor del fondo blanco: 40 µm

(recubrimiento blanco liso en la parte posterior)

Máx: 800×960 mm (±0,1 mm)

Formas positiva y negativa

Positivo: patrón opaco

Negativo: patrón translúcido

Apariencia y forma

Cuadrado

Proceso de fabricación

Litografía

(Máquina de litografía de película)

Aplicación

Se utiliza para transmisión/retroiluminación

/pruebas funcionales

Ancho de línea mínimo

10 µm/30 µm opcional

Coeficiente de expansión

La película se encoge al calentarse y se expande al enfriarse

Precisión de características

±10 µm

10 µm/°C de 1 m

Recubrimiento

Bromuro de plata

Tasa de transmitancia (400~700nm)

>90% ultravioletainfrarrojo

Espesor del recubrimiento

2 µm

Espesor del sustrato de película

0,18 mm (±0,01 mm)

Densidad óptica OD

Tamaño máximo

0,71×0,81 m (±0,1 mm) (ancho de línea mínimo 10 µm)

1,68×3,5 m (±0,1 mm) (ancho de línea mínimo 30 µm)

Color

Escala de grises negra,

escala de grises sinusoidal

Apariencia

Disponibles corte por láser, corte de borde recto y ahuecado de orificios circulares