Reticolo di vetro al quarzo ad alta precisione Reticolo di fotolitografia

2. Struttura e materiali di base

(1) I motivi a cerchio concentrico (solitamente accompagnati da reticoli) vengono tipicamente creati sulla superficie di un substrato ottico trasparente (come vetro ottico, quarzo, ecc.) utilizzando rivestimento sottovuoto (come un film di cromo ad alta riflettività) o fotolitografia.

(2) Design trasmissivo: ciò significa che opera principalmente nel percorso della luce di trasmissione, consentendo alla luce di passare attraverso l'area trasparente per l'imaging. A seconda del processo, può essere suddiviso in reticoli positivi (il motivo stesso è uno strato di cromo opaco) e reticoli negativi (l'area del motivo viene lasciata aperta per la trasmissione della luce, mentre il resto è rivestito).

(3) Specifiche delle dimensioni: gli anelli hanno solitamente spaziatura fissa del diametro (ad esempio, 0,5 mm, 1 mm, ecc. per livello) e sono numerati o hanno un reticolo centrale per facilitare l'allineamento.

3. Principali scenari applicativi

(1) Calibrazione del sistema microscopico: Calibrazione rapida della corrispondenza di ingrandimento dopo aver cambiato gli obiettivi e correzione delle deviazioni di lettura delle misurazioni è uno strumento di calibrazione comunemente utilizzato per i test di laboratorio di routine.

(2) Allineamento del sistema ottico: Serve come bersaglio di collimazione del fascio, assistendo nella regolazione della coassialità del percorso ottico del laser e determinando rapidamente se il fascio coincide con il centro dell'asse ottico del sistema.

(3) Calibrazione della visione industriale: Utilizzato per la correzione della distorsione radiale della telecamera, fornendo riferimenti di posizionamento a livello di sub-pixel, ampiamente applicato nel rilevamento di difetti di wafer di semiconduttori, misurazione delle coordinate dei fori delle schede PCB e altri scenari.

(4) Supporto per strumenti ottici di precisione: Installato sul piano dell'immagine di mirini e telescopi, assistendo nell'allineamento del centro del bersaglio e nella misurazione della deviazione angolare.

4.Informazioni sui parametri principali