OpenCV Schachbrett-Kalibrierungsbrett Glas-Metall-Materialien

Herstellungsprozess

Photolithographie

Glassubstrat

Quarzglas (geschmolzenes Siliziumdioxid)/Natronkalkglas

Minimale Linienbreite

1 µm / 0,55 µm

Transmissionsrate (@550nm)

>95%

Merkmalsgenauigkeit

±1 µm

Wärmeausdehnungskoeffizient

(20-200°C)

<5,0×10⁻⁷/K

Beschichtung

Gelbchrom, Glanzchrom

, Blauschrom (geringe Reflexion)

Ausdehnungsverhältnis (20-200°C)

0,00006% (0,6 µm/°C von 1 m)

Reflexionsgrad

< 13,4% @550nm

Oberflächenplanheit

<0,55 µm (Länge<50 mm)

< 1,8% @650nm

<2 µm (Länge<100 mm)

< 2,67% @750nm

100 mm)

Beschichtungsgenauigkeit

120 nm (±0,20 nm)

Oberflächenrauheit

<0,025 µm

Optische Dichte OD

Gelbchrom 3 (Blau 5)

Dicke

1 mm, 1,6 mm, 2,3 mm, 3 mm (±0,2 mm) (500*500*4,8)

Weißer Hintergrund

Minimale Linienbreite: 10 µm

Minimale/Maximale Größe

Min: 2×2 mm

Dicke des weißen Hintergrunds: 40 µm

(glatte weiße Beschichtung auf der Rückseite)

Max: 800×960 mm (±0,1 mm)

Positive und negative Formen

Positiv: Muster opak

Negativ: Muster transluzent

Aussehen und Form

Quadratisch

Herstellungsprozess

Lithographie

(Folienlithographiemaschine)

Anwendung

Verwendet für Transmission/Hintergrundbeleuchtung

/Funktionstests

Minimale Linienbreite

10 µm/30 µm optional

Ausdehnungskoeffizient

Folie schrumpft beim Erhitzen und dehnt sich beim Abkühlen aus

Merkmalsgenauigkeit

±10 µm

10 µm/°C von 1 m

Beschichtung

Silberbromid

Transmissionsrate (400~700nm)

>90% UltraviolettInfrarot

Beschichtungsdicke

2 µm

Dicke des Foliensubstrats

0,18 mm (±0,01 mm)

Optische Dichte OD

Maximale Größe

0,71×0,81 m (±0,1 mm) (minimale Linienbreite 10 µm)

1,68×3,5 m (±0,1 mm) (minimale Linienbreite 30 µm)

Farbe

Schwarz-Graustufen,

Sinus-Graustufen

Aussehen

Laserschnitt, gerade Kanten und kreisförmige Lochhohlräume sind verfügbar