AprilGrid QR Code Kalibratiebord Micron niveau hoge precisie Aanpasbare Grootte

Productieproces

Fotolithografie

Glazen substraat

Kwartsglas (fused silica)/sodaglas

Minimale lijnbreedte

1 µm / 0,55 µm

Overbrengingssnelheid (@550nm)

>95%

Nauwkeurigheid van kenmerken

±1 µm

Coëfficiënt van thermische uitzetting

(20-200°C)

<5,0×10⁻⁷/K

Coating

Geel chroom, helder chroom

, blauw chroom (laag reflectievermogen)

Uitbreidingsverhouding (20-200°C)

0,00006% (0,6 µm/°C van 1 m)

Reflectie

< 13,4% bij 550 nm

Oppervlakte vlakheid

<0,55 µm (lengte <50 mm)

< 1,8% bij 650 nm

<2 µm (lengte <100 mm)

<2,67% bij 750 nm

<5 µm (lengte>100 mm)

Nauwkeurigheid van coating

120 nm (± 0,20 nm)

Oppervlakteruwheid

<0,025 µm

Optische dichtheid OD

Geel Chroom 3 (Blauw 5)

Dikte

1 mm, 1,6 mm, 2,3 mm, 3 mm (± 0,2 mm) (500*500*4,8)

Witte achtergrond

Minimale lijnbreedte: 10 µm

Minimale/maximale grootte

Min: 2×2 mm

Dikte witte achtergrond: 40 µm

(gladde witte coating op de achterkant)

Maximaal: 800×960 mm (±0,1 mm)

Positieve en negatieve vormen

Positief: patroon ondoorzichtig

Negatief: patroon doorschijnend

Uiterlijk en vorm

Vierkant

Productieproces

Lithografie

(Filmlithografiemachine)

Sollicitatie

Gebruikt voor transmissie/achtergrondverlichting

/functioneel testen

Minimale lijnbreedte

10 µm/30 µm optioneel

Uitbreidingscoëfficiënt

Film krimpt bij verhitting en zet uit bij afkoeling

Nauwkeurigheid van kenmerken

±10 µm

10 µm/°C van 1 m

Coating

Zilverbromide

Overbrengingssnelheid (400 ~ 700 nm)

>90% ultraviolet<(400~700nm)>infrarood

Dikte van de coating

2 µm

Dikte van filmsubstraat

0,18 mm (± 0,01 mm)

Optische dichtheid OD

Maximale grootte

0,71×0,81 m (±0,1 mm) (minimale lijnbreedte 10 µm)

1,68 x 3,5 m (± 0,1 mm) (minimale lijnbreedte 30 µm)

kleur

Zwarte grijstinten,

sinus grijswaarden

Verschijning

Lasersnijden, snijden met rechte randen en uithollen van cirkelvormige gaten zijn beschikbaar