AprilGrid Tabella di calibrazione dei codici QR livello micron alta precisione Dimensione personalizzabile

paese di origine

Cina

Marchio

DFOPTIX

Certificato

ISO9001

MOQ

Metodo di pagamento

T/T

Capacità di fornitura

La capacità produttiva media mensile di piastre e pellicole di calibrazione è di 300.000 pezzi

Dettagli del prodotto

Evidenziare:

Tabella di calibrazione del codice QR

Pannello di calibrazione AprilGrid

Dimensioni personalizzabili della scheda di taratura

Material: Alluminio, vetro e materiali ceramici sono opzionali

Specification: Dimensioni personalizzabili

Shipping Option: FedEx e UPS

Descrizione di prodotto

Specifiche e Caratteristiche Dettagliate

Scheda di Calibrazione QR Code

La scheda di calibrazione AprilGrid presenta il pattern a griglia AprilTag per una calibrazione accurata della fotocamera, correzione della distorsione dell'obiettivo e stima dei parametri. La staffa inclusa garantisce un montaggio stabile, rendendola ideale per applicazioni industriali e robotiche con dimensioni personalizzabili sia per uso interno che esterno.

Caratteristiche del Prodotto:Alta precisione a livello di micron, alto contrasto, non riflettente, chiaro e facile da identificare, Alta precisione (con un'accuratezza massima di 1um), supporta la personalizzazione del disegno multi-formato

Scenari Applicabili:Calibrazione della visione artificiale (sicurezza, cinema e televisione, medicale, fotocamera, fotocamera drone, studio fotografico, strumenti di ricerca scientifica e altre apparecchiature)

Substrato: Il substrato per la piastra di calibrazione del codice QR è opzionale e diversi substrati (come vetro, ceramica, piastra di alluminio, ecc.) possono essere personalizzati in base a diversi scenari di utilizzo, ambienti e requisiti di accuratezza.

1. Parametri del substrato in vetro:

Design		Substrato
Processo di Fabbricazione	Fotolitografia	Substrato in vetro	Vetro di quarzo (silice fusa)/vetro sodico
Larghezza minima della linea	1µm / 0.55µm	Tasso di trasmissione (@550nm)	>95%
Accuratezza delle caratteristiche	±1µm	Coefficiente di espansione termica (20-200°C)	<5.0×10⁻⁷/K
Rivestimento	Cromo giallo, cromo lucido , cromo blu (bassa riflettività)	Rapporto di espansione (20-200°C)	0,00006% (0,6µm/°C di 1m)
Riflettività	< 13,4% @550nm	Planarità della superficie	<0,55µm (lunghezza<50mm)
	< 1,8% @650nm		<2µm (lunghezza<100mm)
	< 2,67% @750nm		100mm)
Accuratezza del rivestimento	120nm (±0,20nm)	Rugosità superficiale	<0,025µm
Densità ottica OD	Cromo giallo 3 (Blu 5)	Spessore	1mm,1,6mm,2,3mm,3mm(±0,2mm)(5005004,8)
Sfondo bianco	Larghezza minima della linea: 10µm	Dimensione minima/massima	Min: 2×2 mm
Sfondo bianco	Spessore dello sfondo bianco: 40 µ m (rivestimento bianco liscio sul retro)	Dimensione minima/massima	Max: 800×960mm (±0,1mm)
Forme positive e negative	Positivo: motivo opaco Negativo: motivo traslucido	Aspetto e forma	Quadrato

2. Parametri del substrato ceramico:

Design			Substrato
Processo di Fabbricazione	Fotolitografia		Tipo	Cromo opaco su ceramica opaca	Cromo lucido su ceramica lucida
Tipo	Ceramica opaca	Ceramica lucida	Substrato ceramico	Zirconia / Allumina
Larghezza minima della linea	4µm	2µm	Spessore	1mm (±0,1mm, comune)	2mm (comune)	3mm (±0,1mm)
Accuratezza delle caratteristiche	±2µm	±2µm	Planarità della superficie	<30µm (lunghezza<100mm)	<60µm (lunghezza<200mm)
Accuratezza dell'aspetto	±0,05mm	±0,05mm	Planarità della superficie	MIN: 2×2mm (±0,1mm); MAX: 228×228mm (±0,1mm)
Rivestimento	Cromo	Cromo	Rugosità superficiale	<0,2-0,7µm
Rivestimento chiaro/rivestimento opaco	Rivestimento in cromo opaco	Rivestimento in cromo lucido	Coefficiente di espansione termica (40-400°C)	<6,7×10⁻⁶/K
Riflettività	< 12,88% @550nm	< 9,56% @550nm	Peso unitario	≥ 3,66 g/cm³
	< 10,62% @650nm	< 1,89% @650nm
	< 12,23% @750nm	< 11,168% @750nm
Spessore del rivestimento	100-120nm	100-120nm	Durezza Rockwell	≥80 HRA
Forme positive e negative	Film positivo: motivo opaco, Film negativo: motivo trasparente		Aspetto e forma	Taglio laser di qualsiasi forma	Quadrato	Ellisse
Strato protettivo	Il sottile strato sopra lo strato di cromo rende il motivo in cromo più durevole		Forma speciale	Punzone	Smusso	Angolo obliquo

3. Parametri del substrato in film:

Design		Substrato in film
Processo di Fabbricazione	Litografia (Macchina per litografia su film)	Applicazione	Utilizzato per trasmissione/retroilluminazione /test funzionali
Larghezza minima della linea	10 µ m/30 µ m opzionale	Coefficiente di espansione	Il film si restringe quando riscaldato e si espande quando raffreddato
Accuratezza delle caratteristiche	±10µm	Coefficiente di espansione	10µm/°C di 1m Quando la temperatura relativa è costante, Quando l'umidità cambia di 1 ° C, Un film lungo 1 m cambierà di 10 µ m (un decimo di millimetro)
Rivestimento	Bromuro d'argento	Tasso di trasmissione (400~700nm)	>90% ultraviolettoinfrarosso
Spessore del rivestimento	2µm	Spessore del substrato in film	0,18mm (±0,01mm)
Densità ottica OD	OD>4 al 100% nero (Valore OD controllabile in scala di grigi)	Dimensione massima	0,71×0,81m (±0,1mm)(larghezza minima della linea 10µm) 1,68×3,5m (±0,1mm)(larghezza minima della linea 30µm)
Colore	Scala di grigi nera, scala di grigi sinusoidale	Aspetto	Sono disponibili taglio laser, taglio a bordo dritto e svuotamento di fori circolari

Etichette:

Bersaglio di calibrazione per visione artificiale

Piastra di calibrazione Halcon

Bersaglio di calibrazione di precisione

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