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Tableau d'étalonnage de codes QR AprilGrid haute précision au niveau des microns Taille personnalisable

Tableau d'étalonnage de codes QR AprilGrid haute précision au niveau des microns Taille personnalisable
pays d'origine
Chine
Nom de marque
DFOPTIX
Certificat
ISO9001
MOQ
10
Méthode de paiement
T/T
Capacité d'approvisionnement
La capacité de production mensuelle moyenne de plaques et de films d'étalonnage est de 300 000 p
Détails de produit
Mettre en évidence:

Tableau d'étalonnage des codes QR

,

Tableau d'étalonnage AprilGrid

,

Taille personnalisable de la carte d'étalonnage

Material: Les matériaux en aluminium, en verre et en céramique sont facultatifs
Specification: Taille personnalisable
Shipping Option: FedEx et UPS
Description de produit
Spécifications détaillées et caractéristiques

Plaque de calibration QR Code

 

La plaque de calibration AprilGrid présente le motif de grille AprilTag pour un calibrage précis de la caméra, une correction de la distorsion de l'objectif et une estimation des paramètres. Le support inclus assure un montage stable, ce qui le rend idéal pour les applications industrielles et robotiques avec des tailles personnalisables pour une utilisation intérieure et extérieure.

Caractéristiques du produit :Haute précision au micron près, contraste élevé, non réfléchissant, clair et facile à identifier, Haute précision (avec une précision maximale de 1 µm), prend en charge la personnalisation du dessin multi-formats

Scénarios applicables :Calibrage de la vision machine (sécurité, cinéma et télévision, médical, caméra, caméra drone, studio photo, instruments de recherche scientifique et autres équipements)

Substrat :Le substrat de la plaque de calibration QR code est optionnel, et différents substrats (tels que le verre, la céramique, la plaque d'aluminium, etc.) peuvent être personnalisés en fonction des différents scénarios d'utilisation, environnements et exigences de précision.

1. Paramètres du substrat en verre :

Largeur de ligne minimale

Type

Coefficient de dilatation

Chrome brillant sur céramique brillante

Substrat en verre

Verre de quartz (silice fondue) / verre sodocalcique

Lorsque l'humidité change de 1 °C,

1 µm / 0,55 µm

Taux de transmission (@550nm)

>95%

Taux de transmission (400~700nm)

±1 µm

< 9,56 % @550nm

(20-200°C)

<5.0×10⁻⁷/K

Épaisseur du substrat film

Chrome jaune, chrome brillant

, chrome bleu (faible réflectivité)

Taux d'expansion (20-200°C)

0,00006% (0,6 µm/°C pour 1 m)

Réflectance

< 13,4 % @550nm

Chrome

<0,55 µm (longueur <50 mm)< 1,8 % @650nm

<2 µm (longueur <100 mm)

< 2,67 % @750nm±0,05 mm

Précision du revêtement

120 nm (±0,20 nm)Rugosité de surface

<0,025 µm

Densité optique OD

Coefficient de dilatation thermique

Épaisseur

niveaux de gris sinusoïdaux

Fond blanc

3 mm (±0,1 mm)

Taille minimale/maximale

Min : 2×2 mm

Épaisseur du fond blanc : 40 µm

(revêtement blanc lisse au dos)

Max : 800×960 mm (±0,1 mm)

Formes positives et négatives

Positif : motif opaque

Négatif : motif translucide

Apparence et forme

Carré

2. Paramètres du substrat en céramique :

Le film mince au-dessus de la couche de chrome rend le motif chromé plus durable

Poinçon

Processus de fabrication

Largeur de ligne minimale

Type

Coefficient de dilatation

Chrome brillant sur céramique brillante

Substrat en céramique

Céramique mate

Céramique brillante

 

Substrat en céramique

Zircone / Alumine

Largeur de ligne minimale

4 µm

2 µm

Lorsque l'humidité change de 1 °C,

1 mm (±0,1 mm, courant)

1,68×3,5 m (±0,1 mm) (largeur de ligne minimale 30 µm)

3 mm (±0,1 mm)

Précision des caractéristiques

±2 µm

±2 µm

Taux de transmission (400~700nm)

<60 µm (longueur <200 mm)

<60 µm (longueur <200 mm)

Chrome

±0,05 mm±0,05 mm

Planéité de surfaceMIN : 2×2 mm (±0,1 mm) ;

MAX : 228×228 mm (±0,1 mm)

Chrome

Chrome

Chrome

Rugosité de surface

<0,2-0,7 µm

Épaisseur du substrat film

Revêtement chrome brillant

Revêtement chrome brillant

Coefficient de dilatation thermique

(40-400°C)

<6.7×10⁻⁶/K

Réflectance

< 12,88 % @550nm

< 9,56 % @550nm

Poids unitaire

≥ 3,66 g/cm³

< 10,62 % @650nm

< 1,89 % @650nm

< 12,23 % @750nm

< 11,168 % @750nm

Épaisseur du revêtement

100-120 nm

100-120 nm

Dureté Rockwell

≥80 HRA

0,71×0,81 m (±0,1 mm) (largeur de ligne minimale 10 µm)

Film négatif : motif transparent

Film négatif : motif transparent

Apparence et forme

Découpe laser de toute forme

Carré

Ellipse

Couche protectrice

Le film mince au-dessus de la couche de chrome rend le motif chromé plus durable

Forme spéciale

Poinçon

Biseautage

Angle oblique

3. Paramètres du substrat film :

Conception

Substrat film

Processus de fabrication

Lithographie (Machine de lithographie de film)

Application

Utilisé pour les tests de transmission/rétroéclairage/fonctionnels

Largeur de ligne minimale

10 µm / 30 µm en option

Coefficient de dilatation

Le film se contracte lorsqu'il est chauffé et se dilate lorsqu'il est refroidi

Précision des caractéristiques

±10 µm

10 µm/°C pour 1 m

Lorsque la température relative est constante,

Lorsque l'humidité change de 1 °C,

Un film d'une longueur de 1 m changera de 10 µm (un dix-millième)

Revêtement

Bromure d'argent

Taux de transmission (400~700nm)

 

>90% ultraviolet

infrarouge
Épaisseur du revêtement
2 µm

Épaisseur du substrat film

0,18 mm (±0,01 mm)

Densité optique OD

OD>4 pour 100% noir(Valeur OD contrôlable en niveaux de gris)Taille maximale

0,71×0,81 m (±0,1 mm) (largeur de ligne minimale 10 µm)

1,68×3,5 m (±0,1 mm) (largeur de ligne minimale 30 µm)

Couleur

Niveaux de gris noir,

niveaux de gris sinusoïdaux

 

Apparence
Découpe laser, découpe à bord droit et évidement de trous circulaires disponibles

 

 

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