Tableau d'étalonnage de codes QR AprilGrid haute précision au niveau des microns Taille personnalisable
Tableau d'étalonnage des codes QR
,Tableau d'étalonnage AprilGrid
,Taille personnalisable de la carte d'étalonnage
Plaque de calibration QR Code
La plaque de calibration AprilGrid présente le motif de grille AprilTag pour un calibrage précis de la caméra, une correction de la distorsion de l'objectif et une estimation des paramètres. Le support inclus assure un montage stable, ce qui le rend idéal pour les applications industrielles et robotiques avec des tailles personnalisables pour une utilisation intérieure et extérieure.
Caractéristiques du produit :Haute précision au micron près, contraste élevé, non réfléchissant, clair et facile à identifier, Haute précision (avec une précision maximale de 1 µm), prend en charge la personnalisation du dessin multi-formats
Scénarios applicables :Calibrage de la vision machine (sécurité, cinéma et télévision, médical, caméra, caméra drone, studio photo, instruments de recherche scientifique et autres équipements)
Substrat :Le substrat de la plaque de calibration QR code est optionnel, et différents substrats (tels que le verre, la céramique, la plaque d'aluminium, etc.) peuvent être personnalisés en fonction des différents scénarios d'utilisation, environnements et exigences de précision.
1. Paramètres du substrat en verre :
| Largeur de ligne minimale |
Type |
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Coefficient de dilatation |
Chrome brillant sur céramique brillante |
Substrat en verre |
Verre de quartz (silice fondue) / verre sodocalcique |
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Lorsque l'humidité change de 1 °C, |
1 µm / 0,55 µm |
Taux de transmission (@550nm) |
>95% |
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Taux de transmission (400~700nm) |
±1 µm |
< 9,56 % @550nm (20-200°C) |
<5.0×10⁻⁷/K |
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Épaisseur du substrat film |
Chrome jaune, chrome brillant , chrome bleu (faible réflectivité) |
Taux d'expansion (20-200°C) |
0,00006% (0,6 µm/°C pour 1 m) |
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Réflectance |
< 13,4 % @550nm |
Chrome |
<0,55 µm (longueur <50 mm)< 1,8 % @650nm |
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<2 µm (longueur <100 mm) |
< 2,67 % @750nm±0,05 mm |
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Précision du revêtement |
120 nm (±0,20 nm)Rugosité de surface |
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<0,025 µm |
Densité optique OD |
Coefficient de dilatation thermique |
Épaisseur |
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niveaux de gris sinusoïdaux |
Fond blanc |
3 mm (±0,1 mm) |
Taille minimale/maximale |
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Min : 2×2 mm |
Épaisseur du fond blanc : 40 µm |
(revêtement blanc lisse au dos) |
Max : 800×960 mm (±0,1 mm) |
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Formes positives et négatives Positif : motif opaque |
Négatif : motif translucide |
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|
Apparence et forme |
Carré 2. Paramètres du substrat en céramique : |
Le film mince au-dessus de la couche de chrome rend le motif chromé plus durable |
Poinçon |
Processus de fabrication
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Largeur de ligne minimale |
Type |
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Coefficient de dilatation |
Chrome brillant sur céramique brillante |
Substrat en céramique |
Céramique mate |
Céramique brillante |
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Substrat en céramique |
Zircone / Alumine |
Largeur de ligne minimale |
4 µm |
2 µm |
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Lorsque l'humidité change de 1 °C, |
1 mm (±0,1 mm, courant) |
1,68×3,5 m (±0,1 mm) (largeur de ligne minimale 30 µm) |
3 mm (±0,1 mm) |
Précision des caractéristiques |
±2 µm |
±2 µm |
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Taux de transmission (400~700nm) |
<60 µm (longueur <200 mm) |
<60 µm (longueur <200 mm) |
Chrome |
±0,05 mm±0,05 mm |
Planéité de surfaceMIN : 2×2 mm (±0,1 mm) ; |
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MAX : 228×228 mm (±0,1 mm) |
Chrome |
Chrome |
Chrome |
Rugosité de surface <0,2-0,7 µm |
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Épaisseur du substrat film |
Revêtement chrome brillant |
Revêtement chrome brillant |
Coefficient de dilatation thermique |
(40-400°C) |
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|
<6.7×10⁻⁶/K |
Réflectance |
< 12,88 % @550nm |
< 9,56 % @550nm Poids unitaire |
≥ 3,66 g/cm³ |
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|
< 10,62 % @650nm |
< 1,89 % @650nm |
< 12,23 % @750nm |
< 11,168 % @750nm |
Épaisseur du revêtement |
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100-120 nm |
100-120 nm |
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Dureté Rockwell |
≥80 HRA |
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0,71×0,81 m (±0,1 mm) (largeur de ligne minimale 10 µm) |
Film négatif : motif transparent |
Film négatif : motif transparent |
Apparence et forme |
Découpe laser de toute forme |
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Carré |
Ellipse Couche protectrice |
Le film mince au-dessus de la couche de chrome rend le motif chromé plus durable |
Forme spéciale |
Poinçon |
Biseautage |
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Angle oblique |
3. Paramètres du substrat film : Conception |
Substrat film |
Processus de fabrication |
Lithographie (Machine de lithographie de film) |
Application |
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Utilisé pour les tests de transmission/rétroéclairage/fonctionnels
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Largeur de ligne minimale |
10 µm / 30 µm en option |
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Coefficient de dilatation |
Le film se contracte lorsqu'il est chauffé et se dilate lorsqu'il est refroidi Précision des caractéristiques |
±10 µm |
10 µm/°C pour 1 m Lorsque la température relative est constante, |
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Lorsque l'humidité change de 1 °C, |
Un film d'une longueur de 1 m changera de 10 µm (un dix-millième) |
Revêtement |
Bromure d'argent |
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Taux de transmission (400~700nm)
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>90% ultraviolet |
infrarouge
Épaisseur du revêtement
2 µm
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Épaisseur du substrat film |
0,18 mm (±0,01 mm) |
Densité optique OD |
OD>4 pour 100% noir(Valeur OD contrôlable en niveaux de gris)Taille maximale |
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0,71×0,81 m (±0,1 mm) (largeur de ligne minimale 10 µm) |
1,68×3,5 m (±0,1 mm) (largeur de ligne minimale 30 µm) |
Couleur |
Niveaux de gris noir, |
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niveaux de gris sinusoïdaux |
Apparence
Découpe laser, découpe à bord droit et évidement de trous circulaires disponibles
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