Placa de Calibração QR Code AprilGrid Nível Micrométrico Alta Precisão Tamanho Personalizável

país de origem

China

Nome da marca

DFOPTIX

Certificado

ISO9001

MOQ

Método do pagamento

T/T

Capacidade de fornecimento

A capacidade média mensal de produção de placas e filmes de calibração é de 300 mil peças

Detalhes do produto

Destacar:

Placa de Calibração QR Code

Placa de Calibração AprilGrid

Placa de Calibração Tamanho Personalizável

Material: Alumínio, vidro e materiais cerâmicos são opcionais

Specification: Tamanho personalizável

Shipping Option: FedEx e UPS

Descrição do produto

Especificações e características pormenorizadas

Quadro de calibração de código QR

O AprilGrid Calibration Board possui o padrão de grade AprilTag para calibração precisa da câmera, correção de distorção da lente e estimativa de parâmetros.tornando-o ideal para aplicações industriais e robóticas com tamanhos personalizáveis para uso interno e externo.

Características do produto:Alta precisão a nível de micrômetro, alto contraste, não-refletor, claro e fácil de identificar, Alta precisão (com uma precisão máxima de 1um), suporta a personalização de desenhos em vários formatos

Cenários aplicáveis:Calibração da visão por máquina (segurança, cinema e televisão, equipamento médico, câmara, câmara de drones, estúdio fotográfico, instrumentos de investigação científica e outros equipamentos)

Substrato:O substrato para a placa de calibração do código QR é opcional e diferentes substratos (como vidro, cerâmica, placa de alumínio, etc.) podem ser personalizados de acordo com diferentes cenários de utilização,ambientes, e requisitos de precisão.

1Parâmetros do substrato de vidro:

Projeto		Substrato
Processo de Fabricação	Fotolitografia	Substrato de vidro	Vidro de quartzo (sílica fundida) / vidro de soda
Largura mínima da linha	1 μm / 0,55 μm	Taxa de transmissão ((@ 550 nm)	> 95%
Precisão das características	± 1 μm	Coeficiente de expansão térmica (20-200°C)	< 5,0 × 10−7/K
Revestimento	Cromo amarelo, cromo brilhante , cromo azul (baixa reflectância)	Relação de expansão ((20-200°C)	00,00006% (0,6 μm/°C de 1 m)
Reflexão	< 13,4% @ 550 nm	Planura da superfície	< 0,55 μm (com comprimento < 50 mm)
	< 1,8% @ 650 nm		< 2 μm (com comprimento < 100 mm)
	< 2,67% @ 750 nm		< 5 μm (longo> 100 mm)
Precisão do revestimento	120 nm (± 0,20 nm)	A rugosidade da superfície	< 0,025 μm
Densidade óptica OD	Cromia amarelo 3 (azul 5)	Espessura	1 mm,10,6 mm,2.3mm,3mm(±0.2mm) ((5005004.8)
Fundo branco	Largura mínima da linha:10μm	Tamanho mínimo/máximo	Min: 2 × 2 mm
Fundo branco	Espessura do fundo branco: 40 μ m (Cobertura branca lisa na parte de trás)	Tamanho mínimo/máximo	Max: 800 × 960 mm (± 0,1 mm)
Formas positivas e negativas	Positivo: padrão opaco Negativo: modelo translúcido	Aparência e forma	Quadrado

2Parâmetros do substrato cerâmico:

Projeto			Substrato
Processo de Fabricação	Fotolitografia		Tipo	Cromo fosco em cerâmica fosca	Cromo brilhante em cerâmica brilhante
Tipo	Cerâmica fosca	Cerâmica brilhante	Substrato cerâmico	Circónio / alumínio
Largura mínima da linha	4 μm	2 μm	Espessura	1 mm (± 0,1 mm, comum)	2 mm (comuns)	3 mm (± 0,1 mm)
Precisão das características	± 2 μm	± 2 μm	Planura da superfície	< 30 μm (com comprimento < 100 mm)	< 60 μm (com comprimento < 200 mm)
Precisão da aparência	± 0,05 mm	± 0,05 mm	Planura da superfície	Min: 2 × 2 mm (± 0,1 mm); Max: 228×228 mm (± 0,1 mm)
Revestimento	Cloreto de sódio	Cloreto de sódio	A rugosidade da superfície	< 0,2-0,7 μm
Revestimento leve/revestimento fosco	Revestimento de cromo mate	Revestimento cromado brilhante	Coeficiente de expansão térmica (40-400°C)	< 6,7 × 10−6/K
Reflexão	< 12,88% @ 550 nm	< 9,56% @ 550 nm	Peso unitário	≥ 3,66 g/cm3
	< 10,62% @ 650 nm	< 1,89% @ 650 nm
	< 12,23% @ 750 nm	< 11,168% @ 750 nm
Espessura do revestimento	100-120 nm	100-120 nm	Dureza de Rockwell	≥ 80 HRA
Formas positivas e negativas	Película positiva: padrão opaco, Filme negativo: padrão transparente		Aparência e forma	Cortes a laser de qualquer forma	Quadrado	Elípsis
Camada protetora	A película fina acima da camada de cromo torna o padrão de cromo mais durável		Forma especial	Punch	Chamfer	Ângulo de inclinação

3Parâmetros do substrato de película:

Projeto		Substrato de película
Processo de Fabricação	Litografia (Máquina de Litografia de Filme)	Aplicação	Utilizado para transmissão/iluminação de fundo /ensaios funcionais
Largura mínima da linha	10 μ m/30 μ m opcional	Coeficiente de expansão	O filme encolhe quando aquecido e se expande quando resfriado
Precisão das características	± 10 μm	Coeficiente de expansão	10 μm/°C de 1 m Quando a temperatura relativa é constante, Quando a humidade mudar 1 °C, Um filme com um comprimento de 1 m mudará 10 μ m (um décimo de milésimo)
Revestimento	Brometo de prata	Taxa de transmissão ((400~700nm)	> 90% ultravioleta < 400 ~ 700 nm> infravermelho
Espessura do revestimento	2 μm	Espessura do substrato da película	0.18 mm (± 0,01 mm)
Densidade óptica OD	OD> 4 quando 100% preto (valor DO controlável em escala de cinza)	Tamanho máximo	0.71×0,81m (±0,1mm) (largura mínima da linha 10μm) 1.68 × 3,5 m (± 0,1 mm) ((largura mínima da linha 30 μm)
cor	Escala de cinza preta, Escala de cinza sinusoidal	Aparência	Corte a laser, corte de borda reta e ocultação de buracos circulares estão disponíveis

Etiquetas:

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