Whatsapp
8618024302050

AprilGrid QR-Code Kalibrierungsplatine Mikrometer-Niveau hohe Präzision Anpassbare Größe

AprilGrid QR-Code Kalibrierungsplatine Mikrometer-Niveau hohe Präzision Anpassbare Größe
Ursprungsland
China
Markenbezeichnung
DFOPTIX
Zertifikat
ISO9001
MOQ
10
Zahlungs-Methode
T/T
Lieferkapazität
Die durchschnittliche monatliche Produktionskapazität für Kalibrierplatten und -folien beträgt 300.0
Produktdetails
Hervorheben:

QR-Code-Kalibrierungsplatine

,

AprilGrid Kalibrierungsplatine

,

Kalibrierungsplatine Anpassbare Größe

Material: Aluminium, Glas und Keramikmaterialien sind optional
Specification: Anpassbare Größe
Shipping Option: FedEx und UPS
Produkt-Beschreibung
Detaillierte Spezifikationen & Funktionen

QR-Code-Kalibrierungsboard

 

Das AprilGrid-Kalibrierungsboard verfügt über das AprilTag-Gittermuster für präzise Kamerakalibrierung, Korrektur von Linsenverzerrungen und Parameterschätzung. Die mitgelieferte Halterung sorgt für eine stabile Montage und macht es ideal für industrielle und robotische Anwendungen mit anpassbaren Größen für den Innen- und Außenbereich.

Produktmerkmale:Mikron-hohe Präzision, hoher Kontrast, nicht reflektierend, klar und leicht zu identifizieren, Hohe Präzision (mit einer maximalen Genauigkeit von 1 µm), unterstützt die Anpassung von Multi-Format-Zeichnungen

Anwendbare Szenarien:Maschinensehen-Kalibrierung (Sicherheit, Film und Fernsehen, Medizin, Kamera, Drohnenkamera, Fotostudio, wissenschaftliche Forschungsinstrumente und andere Geräte)

Substrat:Das Substrat für die QR-Code-Kalibrierungsplatte ist optional, und verschiedene Substrate (wie Glas, Keramik, Aluminiumplatte usw.) können je nach Einsatzszenario, Umgebung und Genauigkeitsanforderungen angepasst werden.

1. Parameter des Glassubstrats:

Design

Substrat

Herstellungsprozess

Photolithographie

Glassubstrat

Quarzglas (geschmolzenes Siliziumdioxid)/Natronkalkglas

Minimale Linienbreite

1 µm / 0,55 µm

Transmissionsrate (@550nm)

>95%

Merkmalsgenauigkeit

±1 µm

Thermischer Ausdehnungskoeffizient

(20-200°C)

<5,0×10⁻⁷/K

Beschichtung

Gelbchrom, Glanzchrom

, Blauchrom (geringe Reflexion)

Ausdehnungsverhältnis (20-200°C)

0,00006% (0,6 µm/°C von 1 m)

Reflexion

< 13,4 % @550nm

Oberflächenplanheit

<0,55 µm (Länge<50mm)

< 1,8 % @650nm

<2 µm (Länge<100mm)

< 2,67 % @750nm

100mm)

Beschichtungsgenauigkeit

120nm (±0,20nm)

Oberflächenrauheit

<0,025 µm

Optische Dichte OD

Gelbchrom 3 (Blau 5)

Dicke

1mm, 1,6mm, 2,3mm, 3mm (±0,2mm) (500*500*4,8)

Weißer Hintergrund

Minimale Linienbreite: 10 µm

Min./Max. Größe

Min: 2×2 mm

Dicke des weißen Hintergrunds: 40 µm

(glatte weiße Beschichtung auf der Rückseite)

Max: 800×960mm (±0,1mm)

Positive und negative Formen

Positiv: Muster opak

Negativ: Muster transluzent

Aussehen und Form

Quadratisch

2. Parameter des Keramiksubstrats:

Design

Substrat

Herstellungsprozess

Photolithographie

Typ

Mattchrom auf matter Keramik

Glanzchrom auf glänzender Keramik

 

Typ

Matte Keramik

Glänzende Keramik

Keramiksubstrat

Zirkonoxid / Aluminiumoxid

Minimale Linienbreite

4 µm

2 µm

Dicke

1mm (±0,1mm, üblich)

2mm (üblich)

3mm (±0,1mm)

Merkmalsgenauigkeit

±2 µm

±2 µm

Oberflächenplanheit

<30 µm (Länge<100mm)

<60 µm (Länge<200mm)

Aussehengenauigkeit

±0,05mm

±0,05mm

Oberflächenplanheit

MIN: 2×2mm (±0,1mm);

MAX: 228×228mm (±0,1mm)

Beschichtung

Chrom

Chrom

Oberflächenrauheit

<0,2-0,7 µm

Lichtbeschichtung/Mattbeschichtung

Mattchrombeschichtung

Glanzchrombeschichtung

Thermischer Ausdehnungskoeffizient

(40-400°C)

<6,7×10⁻⁶/K

Reflexion

< 12,88 % @550nm

< 9,56 % @550nm

Einheitsgewicht

≥ 3,66 g/cm³

< 10,62 % @650nm

< 1,89 % @650nm

< 12,23 % @750nm

< 11,168 % @750nm

Beschichtungsdicke

100-120nm

100-120nm

Rockwell-Härte

≥80 HRA

Positive und negative Formen

Positivfilm: opakes Muster,

Negativfilm: transparentes Muster

Aussehen und Form

Laserschnitt in beliebiger Form

Quadratisch

Ellipse

Schutzschicht

Die dünne Schicht über der Chromschicht

macht das Chrommuster haltbarer

Sonderform

Stanze

Fase

Schräger Winkel

3. Parameter des Foliensubstrats:

Design

Foliensubstrat

Herstellungsprozess

Lithographie

(Folienlithographiemaschine)

Anwendung

Verwendet für Transmission/Hintergrundbeleuchtung

/Funktionstests

Minimale Linienbreite

10 µm/30 µm optional

Ausdehnungskoeffizient

Folie schrumpft beim Erhitzen und dehnt sich beim Abkühlen aus

Merkmalsgenauigkeit

 

±10 µm

10 µm/°C von 1 m

Wenn die relative Temperatur konstant ist,
Wenn sich die Luftfeuchtigkeit um 1 °C ändert,
Eine Folie mit einer Länge von 1 m ändert sich um 10 µm (ein Zehntausendstel)

Beschichtung

Silberbromid

Transmissionsrate (400~700nm)

>90% UltraviolettInfrarot

Beschichtungsdicke

2 µm

Dicke des Foliensubstrats

0,18 mm (±0,01mm)

Optische Dichte OD

 

OD>4 bei 100% Schwarz
(OD-Wert in Graustufen steuerbar)

 

Maximale Größe

0,71×0,81m (±0,1mm) (minimale Linienbreite 10 µm)

1,68×3,5m (±0,1mm) (minimale Linienbreite 30 µm)

Farbe

Schwarze Graustufen,

Sinus-Graustufen

Aussehen

Laserschnitt, gerader Kantenschnitt und kreisförmige Lochhohlräume sind verfügbar

 

Verwandte Produkte
Treten Sie mit uns in Verbindung
Sie können uns jederzeit kontaktieren!