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AprilGrid QRコード校正ボード マイクロンレベルの高精度 サイズをカスタマイズできる

AprilGrid QRコード校正ボード マイクロンレベルの高精度 サイズをカスタマイズできる
原産国
中国
ブランド名
DFOPTIX
証明書
ISO9001
MOQ
10
支払方法
T/T
供給能力
校正板とフィルムの月平均生産能力は30万枚
製品詳細
ハイライト:

QR コード カリブレーションボード

,

AprilGrid カリブレーションボード

,

カリブレーションボード サイズ調整可能

Material: アルミニウム、ガラス、セラミック材料はオプションです
Specification: カスタマイズ可能なサイズ
Shipping Option: フェデックスと UPS
製品の説明
詳細な仕様と特徴

QRコードキャリブレーションボード

 

AprilGridキャリブレーションボードは、正確なカメラキャリブレーション、レンズ歪み補正、パラメータ推定のためのAprilTagグリッドパターンを特徴としています。付属のブラケットは安定した取り付けを保証し、屋内および屋外での使用に対応するカスタマイズ可能なサイズで、産業用およびロボット用途に最適です。

製品の特徴:ミクロンレベルの高精度、高コントラスト、非反射性、鮮明で識別しやすい、高精度(最大精度1μm)、マルチフォーマット描画カスタマイズをサポート

適用シナリオ:マシンビジョンキャリブレーション(セキュリティ、映画・テレビ、医療、カメラ、ドローンカメラ、写真スタジオ、科学研究機器、その他の機器)

基板:QRコードキャリブレーションプレートの基板はオプションであり、異なる使用シナリオ、環境、精度要件に応じて、ガラス、セラミック、アルミニウムプレートなどの異なる基板をカスタマイズできます。

1. ガラス基板パラメータ:

設計

基板

製造プロセス

フォトリソグラフィ

ガラス基板

石英ガラス(溶融シリカ)/ソーダガラス

最小線幅

1μm / 0.55μm

透過率(@550nm)

>95%

特徴精度

±1μm

熱膨張係数

(20-200℃)

<5.0×10⁻⁷/K

コーティング

イエロークロム、ブライトクロム

、ブルークロム(低反射率)

膨張率(20-200℃)

0.00006%(1mあたり0.6μm/℃)

反射率

< 13.4% @550nm

表面平坦度

<0.55μm(長さ<50mm)

< 1.8% @650nm

<2μm(長さ<100mm)

< 2.67% @750nm

100mm)

コーティング精度

120nm(±0.20nm)

表面粗さ

<0.025μm

光学密度OD

イエロークロム 3(ブルー 5)

厚さ

1mm、1.6mm、2.3mm、3mm(±0.2mm)(500*500*4.8)

白い背景

最小線幅:10μm

最小/最大サイズ

最小:2×2 mm

白い背景の厚さ:40μm

(裏面に滑らかな白いコーティング)

最大:800×960mm(±0.1mm)

正像と反転像

正像:パターン不透明

反転像:パターン半透明

外観と形状

正方形

2. セラミック基板パラメータ:

設計

基板

製造プロセス

フォトリソグラフィ

タイプ

マットセラミック上のマットクロム

光沢セラミック上のブライトクロム

 

タイプ

マットセラミック

光沢セラミック

セラミック基板

ジルコニア/アルミナ

最小線幅

4μm

2μm

厚さ

1mm(±0.1mm、一般的)

2mm(一般的)

3mm(±0.1mm)

特徴精度

±2μm

±2μm

表面平坦度

<30μm(長さ<100mm)

<60μm(長さ<200mm)

外観精度

±0.05mm

±0.05mm

表面平坦度

最小:2×2mm(±0.1mm)

最大:228×228mm(±0.1mm)

コーティング

クロム

クロム

表面粗さ

<0.2-0.7μm

ライトコーティング/マットコーティング

マットクロムコーティング

ブライトクロムコーティング

熱膨張係数

(40-400℃)

<6.7×10⁻⁶/K

反射率

< 12.88% @550nm

< 9.56% @550nm

単位重量

≥ 3.66 g/cm³

< 10.62% @650nm

< 1.89% @650nm

< 12.23% @750nm

< 11.168% @750nm

コーティング厚さ

100-120nm

100-120nm

ロックウェル硬度

≥80 HRA

正像と反転像

正像フィルム:不透明パターン、

反転像フィルム:透明パターン

外観と形状

レーザーカットによる任意の形状

正方形

楕円

保護層

クロム層上の薄膜

によりクロムパターンがより耐久性になります

特殊形状

パンチ

面取り

斜角

3. フィルム基板パラメータ:

設計

フィルム基板

製造プロセス

リソグラフィ

(フィルムリソグラフィマシン)

用途

透過/バックライト用

/機能テスト用

最小線幅

10μm/30μm(オプション)

膨張係数

フィルムは加熱時に収縮し、冷却時に膨張します

特徴精度

 

±10μm

10μm/℃(1mあたり)

相対温度が一定の場合、
湿度変化が1℃の場合、
長さ1mのフィルムは10μm(1万分の1)変化します

コーティング

臭化銀

透過率(400〜700nm)

>90% 紫外線赤外線

コーティング厚さ

2μm

フィルム基板厚さ

0.18mm(±0.01mm)

光学密度OD

 

100%黒の場合OD>4
(OD値はグレースケールで制御可能)

 

最大サイズ

0.71×0.81m(±0.1mm)(最小線幅10μm)

1.68×3.5m(±0.1mm)(最小線幅30μm)

黒グレースケール、

サイングレースケール

外観

レーザーカット、直線カット、円形穴くり抜きが可能

 

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