Hoogprecisie kwartsglas retikel fotolithografie retikel

2. Basale structuur en materialen

(1) Concentrische cirkelpatronen (meestal vergezeld van dradenkruis) worden typisch gecreëerd op het oppervlak van een transparant optisch substraat (zoals optisch glas, kwarts, enz.) met behulp van vacuümcoating (zoals een hoogreflecterende chroomfilm) of fotolithografie.

(2) Transmissief ontwerp: Dit betekent dat het voornamelijk werkt in het transmissielichtpad, waardoor licht door het transparante gebied kan gaan voor beeldvorming. Afhankelijk van het proces kan het worden onderverdeeld in positieve reticles (het patroon zelf is een ondoorzichtige chroomlaag) en negatieve reticles (het patroongebied is open gelaten voor lichttransmissie, terwijl de rest is gecoat).

(3) Maatspecificaties: De ringen hebben meestal vaste diameterafstanden (bijv. 0,5 mm, 1 mm, enz. per niveau) en zijn genummerd of hebben een centraal dradenkruis om de uitlijning te vergemakkelijken.

3. Belangrijkste toepassingsscenario's

(1) Kalibratie van microscoopsystemen: Het snel kalibreren van de vergrotingscorrespondentie na het wisselen van objectieven en het corrigeren van afwijkingen in meetuitlezingen is een veelgebruikt kalibratiemiddel voor routinematige laboratoriumtests.

(2) Uitlijning van optische systemen: Dient als een collimatietarget voor bundels, helpt bij de coaxiale aanpassing van laseroptische paden en bepaalt snel of de bundel samenvalt met het optische ascentrum van het systeem.

(3) Kalibratie van industriële visie: Gebruikt voor correctie van radiale vervorming van camera's, biedt positioneringsreferenties op sub-pixelniveau, breed toegepast in defectdetectie van halfgeleiderwafers, meting van PCB-bordgatcoördinaten en andere scenario's.

(4) Ondersteuning van precisie optische instrumenten: Geïnstalleerd op het beeldvlak van vizieren en telescopen, helpt bij de uitlijning van het doelwitcentrum en de meting van hoekafwijkingen.

4.Belangrijkste parameterinformatie