Halcon Kalibratieplaat Honingkorf Kalibratiebord Minimale lijnbreedte 1μm / 0,55μm
Kalibratiebord voor honingraat
,Halcon-kalibratiebord 1 μM
,Halcon kalibratieplaat 0
Halcon Honingraat Kalibratiebord
Een cirkelvormig dot-kalibratiebord is een uiterst nauwkeurig kalibratiegereedschap, ontworpen voor optische systemen. Het garandeert optimale camerakalibratie, correctie van lensvervorming en evaluatie van systeemprestaties. Vervaardigd met geavanceerde fotolithografietechnologie, biedt het uitzonderlijke nauwkeurigheid met precisie op micronniveau, waardoor het ideaal is voor beeldsystemen met hoge resolutie en microscopische toepassingen. Het duurzame, hittebestendige materiaal garandeert stabiliteit op lange termijn, en het precieze dotpatroon zorgt voor uniformiteit over het gehele bord, wat betrouwbare kalibratieresultaten oplevert. Dit bord is volledig aanpasbaar om aan diverse kalibratiebehoeften te voldoen, waardoor het perfect is voor industriële camera's, robotica en geautomatiseerde vision systemen.
Productkenmerken: scherpe randen, hoge positionele nauwkeurigheid, lage uitzettingscoëfficiënt, Hoge precisie (met een maximale nauwkeurigheid van 1 µm), en ondersteuning voor maatwerk.
Toepasselijke scenario's: Machine vision kalibratie (beveiliging, film en televisie, medisch, camera, dronecamera, fotostudio, wetenschappelijke onderzoeksinstrumenten en andere apparatuur).
Basismateriaal: Het basismateriaal van de dot-kalibratieplaat is optioneel, en verschillende basismaterialen (zoals glas, keramiek, film, aluminiumplaat, etc.) kunnen worden aangepast aan verschillende gebruiksscenario's, omgevingen en nauwkeurigheidseisen.
1. Glas substraat parameters:
| Ontwerp |
Substraat |
||
|
Productieproces |
Fotolithografie |
Glas substraat |
Kwartsgla (gesmolten silica)/sodaglas |
|
Minimale lijnbreedte |
1 µm / 0,55 µm |
Transmissiegraad (@550nm) |
>95% |
|
Kenmerk nauwkeurigheid |
±1 µm |
Thermische uitzettingscoëfficiënt (20-200°C) |
<5,0×10⁻⁷/K |
|
Coating |
Geel chroom, helder chroom , blauw chroom (lage reflectie) |
Uitzettingsverhouding (20-200°C) |
0,00006% (0,6 µm/°C van 1m) |
|
Reflectie |
< 13,4% @550nm |
Oppervlakte vlakheid |
<0,55 µm (lengte<50mm) |
|
< 1,8% @650nm |
<2 µm (lengte<100mm) |
||
|
< 2,67% @750nm |
100mm) |
||
|
Coating nauwkeurigheid |
120nm (±0,20nm) |
Oppervlakte ruwheid |
<0,025 µm |
|
Optische dichtheid OD |
Geel Chroom 3 (Blauw 5) |
Dikte |
1mm, 1,6mm, 2,3mm, 3mm (±0,2mm) (500*500*4,8) |
|
Witte achtergrond |
Minimale lijnbreedte: 10 µm |
Minimale/maximale afmeting |
Min: 2×2 mm |
|
Witte achtergrond dikte: 40 µ m (gladde witte coating aan de achterkant) |
Max: 800×960mm (±0,1mm) |
||
|
Positieve & negatieve vormen |
Positief: patroon ondoorzichtig Negatief: patroon doorschijnend |
Uiterlijk en vorm |
Vierkant |
2. Keramische substraat parameters:
|
Ontwerp |
Substraat |
|||||
|
Productieproces |
Fotolithografie |
Type |
Mat chroom op mat keramiek |
Helder chroom op glanzend keramiek |
|
|
|
Type |
Mat keramiek |
Glanzend keramiek |
Keramisch substraat |
Zirkoniumoxide / Aluminiumoxide |
||
|
Minimale lijnbreedte |
4 µm |
2 µm |
Dikte |
1mm (±0,1mm, standaard) |
2mm (standaard) |
3mm (±0,1mm) |
|
Kenmerk nauwkeurigheid |
±2 µm |
±2 µm |
Oppervlakte vlakheid |
<30 µm (lengte<100mm) |
<60 µm (lengte<200mm) |
|
|
Uiterlijk nauwkeurigheid |
±0,05mm |
±0,05mm |
Oppervlakte vlakheid |
MIN: 2×2mm (±0,1mm); MAX: 228×228mm (±0,1mm) |
||
|
Coating |
Chroom |
Chroom |
Oppervlakte ruwheid |
<0,2-0,7 µm |
||
|
Lichte coating/matte coating |
Matte chroom coating |
Heldere chroom coating |
Thermische uitzettingscoëfficiënt (40-400°C) |
<6,7×10⁻⁶/K |
||
|
Reflectie |
< 12,88% @550nm |
< 9,56% @550nm |
Eenheid gewicht |
≥ 3,66 g/cm³ |
||
|
< 10,62% @650nm |
< 1,89% @650nm |
|||||
|
< 12,23% @750nm |
< 11,168% @750nm |
|||||
|
Coating dikte |
100-120nm |
100-120nm |
Rockwell hardheid |
≥80 HRA |
||
|
Positieve en negatieve vormen |
Positieve film: ondoorzichtig patroon, Negatieve film: transparant patroon |
Uiterlijk en vorm |
Laser snijden van elke vorm |
Vierkant |
Ellips |
|
|
Beschermlaag |
De dunne film boven de chroomlaag maakt het chroompatroon duurzamer |
Speciale vorm |
Stans |
Afschuining |
Schuine hoek |
|
3. Film substraat parameters:
|
Ontwerp |
Film substraat |
||
|
Productieproces |
Lithografie (Film Lithografie Machine) |
Toepassing |
Gebruikt voor transmissie/achtergrondverlichting /functionele tests |
|
Minimale lijnbreedte |
10 µ m/30 µ m optioneel |
Uitzettingscoëfficiënt |
Film krimpt bij verwarming en zet uit bij afkoeling |
|
Kenmerk nauwkeurigheid
|
±10 µm |
10 µm/°C van 1m Wanneer de relatieve temperatuur constant is,
Wanneer de luchtvochtigheid met 1 °C verandert,
Een film van 1m lengte zal 10 µm veranderen (één tienduizendste)
|
|
|
Coating |
Zilverbromide |
Transmissiegraad (400~700nm) |
>90% ultravioletinfrarood |
|
Coating dikte |
2 µm |
Film substraat dikte |
0,18mm (±0,01mm) |
|
Optische dichtheid OD |
OD>4 bij 100% zwart
(OD waarde controleerbaar in grijstinten)
|
Maximale afmeting |
0,71×0,81m (±0,1mm) (minimale lijnbreedte 10 µm) 1,68×3,5m (±0,1mm) (minimale lijnbreedte 30 µm) |
|
Kleur |
Zwarte grijstinten, sinusvormige grijstinten |
Uiterlijk |
Laser snijden, recht rand snijden en cirkelvormige gaten uithollen zijn beschikbaar |