Whatsapp
8618024302050

Halcon Kalibratieplaat Honingkorf Kalibratiebord Minimale lijnbreedte 1μm / 0,55μm

Halcon Kalibratieplaat Honingkorf Kalibratiebord Minimale lijnbreedte 1μm / 0,55μm
land van herkomst
China
Merknaam
DFOPTIX
Certificaat
ISO9001
MOQ
1
Betalingswijze
T/T
Leveringscapaciteit
De gemiddelde maandelijkse productiecapaciteit voor kalibratieplaten en film bedraagt ​​300.000 stuk
Productdetails
Markeren:

Kalibratiebord voor honingraat

,

Halcon-kalibratiebord 1 μM

,

Halcon kalibratieplaat 0

Material: Glas, keramiek, film, aluminium kunnen worden aangepast
Specification: De precisie kan 1um bereiken en de grootte kan worden aangepast tot 1,68 * 3500 mm, afhankelijk van
Shipping Option: FedEx en UPS
Productomschrijving
Gedetailleerde specificaties en kenmerken

Halcon Honingraat Kalibratiebord

 

Een cirkelvormig dot-kalibratiebord is een uiterst nauwkeurig kalibratiegereedschap, ontworpen voor optische systemen. Het garandeert optimale camerakalibratie, correctie van lensvervorming en evaluatie van systeemprestaties. Vervaardigd met geavanceerde fotolithografietechnologie, biedt het uitzonderlijke nauwkeurigheid met precisie op micronniveau, waardoor het ideaal is voor beeldsystemen met hoge resolutie en microscopische toepassingen. Het duurzame, hittebestendige materiaal garandeert stabiliteit op lange termijn, en het precieze dotpatroon zorgt voor uniformiteit over het gehele bord, wat betrouwbare kalibratieresultaten oplevert. Dit bord is volledig aanpasbaar om aan diverse kalibratiebehoeften te voldoen, waardoor het perfect is voor industriële camera's, robotica en geautomatiseerde vision systemen.

Productkenmerken: scherpe randen, hoge positionele nauwkeurigheid, lage uitzettingscoëfficiënt, Hoge precisie (met een maximale nauwkeurigheid van 1 µm), en ondersteuning voor maatwerk.

Toepasselijke scenario's: Machine vision kalibratie (beveiliging, film en televisie, medisch, camera, dronecamera, fotostudio, wetenschappelijke onderzoeksinstrumenten en andere apparatuur).

Basismateriaal: Het basismateriaal van de dot-kalibratieplaat is optioneel, en verschillende basismaterialen (zoals glas, keramiek, film, aluminiumplaat, etc.) kunnen worden aangepast aan verschillende gebruiksscenario's, omgevingen en nauwkeurigheidseisen.

1. Glas substraat parameters:

Ontwerp

Substraat

Productieproces

Fotolithografie

Glas substraat

Kwartsgla (gesmolten silica)/sodaglas

Minimale lijnbreedte

1 µm / 0,55 µm

Transmissiegraad (@550nm)

>95%

Kenmerk nauwkeurigheid

±1 µm

Thermische uitzettingscoëfficiënt

(20-200°C)

<5,0×10⁻⁷/K

Coating

Geel chroom, helder chroom

, blauw chroom (lage reflectie)

Uitzettingsverhouding (20-200°C)

0,00006% (0,6 µm/°C van 1m)

Reflectie

< 13,4% @550nm

Oppervlakte vlakheid

<0,55 µm (lengte<50mm)

< 1,8% @650nm

<2 µm (lengte<100mm)

< 2,67% @750nm

100mm)

Coating nauwkeurigheid

120nm (±0,20nm)

Oppervlakte ruwheid

<0,025 µm

Optische dichtheid OD

Geel Chroom 3 (Blauw 5)

Dikte

1mm, 1,6mm, 2,3mm, 3mm (±0,2mm) (500*500*4,8)

Witte achtergrond

Minimale lijnbreedte: 10 µm

Minimale/maximale afmeting

Min: 2×2 mm

Witte achtergrond dikte: 40 µ m

(gladde witte coating aan de achterkant)

Max: 800×960mm (±0,1mm)

Positieve & negatieve vormen

Positief: patroon ondoorzichtig

Negatief: patroon doorschijnend

Uiterlijk en vorm

Vierkant

2. Keramische substraat parameters:

Ontwerp

Substraat

Productieproces

Fotolithografie

Type

Mat chroom op mat keramiek

Helder chroom op glanzend keramiek

 

Type

Mat keramiek

Glanzend keramiek

Keramisch substraat

Zirkoniumoxide / Aluminiumoxide

Minimale lijnbreedte

4 µm

2 µm

Dikte

1mm (±0,1mm, standaard)

2mm (standaard)

3mm (±0,1mm)

Kenmerk nauwkeurigheid

±2 µm

±2 µm

Oppervlakte vlakheid

<30 µm (lengte<100mm)

<60 µm (lengte<200mm)

Uiterlijk nauwkeurigheid

±0,05mm

±0,05mm

Oppervlakte vlakheid

MIN: 2×2mm (±0,1mm);

MAX: 228×228mm (±0,1mm)

Coating

Chroom

Chroom

Oppervlakte ruwheid

<0,2-0,7 µm

Lichte coating/matte coating

Matte chroom coating

Heldere chroom coating

Thermische uitzettingscoëfficiënt

(40-400°C)

<6,7×10⁻⁶/K

Reflectie

< 12,88% @550nm

< 9,56% @550nm

Eenheid gewicht

≥ 3,66 g/cm³

< 10,62% @650nm

< 1,89% @650nm

< 12,23% @750nm

< 11,168% @750nm

Coating dikte

100-120nm

100-120nm

Rockwell hardheid

≥80 HRA

Positieve en negatieve vormen

Positieve film: ondoorzichtig patroon,

Negatieve film: transparant patroon

Uiterlijk en vorm

Laser snijden van elke vorm

Vierkant

Ellips

Beschermlaag

De dunne film boven de chroomlaag

maakt het chroompatroon duurzamer

Speciale vorm

Stans

Afschuining

Schuine hoek

3. Film substraat parameters:

Ontwerp

Film substraat

Productieproces

Lithografie

(Film Lithografie Machine)

Toepassing

Gebruikt voor transmissie/achtergrondverlichting

/functionele tests

Minimale lijnbreedte

10 µ m/30 µ m optioneel

Uitzettingscoëfficiënt

Film krimpt bij verwarming en zet uit bij afkoeling

Kenmerk nauwkeurigheid

 

±10 µm

10 µm/°C van 1m

Wanneer de relatieve temperatuur constant is,
Wanneer de luchtvochtigheid met 1 °C verandert,
Een film van 1m lengte zal 10 µm veranderen (één tienduizendste)

Coating

Zilverbromide

Transmissiegraad (400~700nm)

>90%      ultravioletinfrarood

Coating dikte

2 µm

Film substraat dikte

0,18mm  (±0,01mm)

Optische dichtheid OD

 

OD>4 bij 100% zwart
(OD waarde controleerbaar in grijstinten)

 

Maximale afmeting

0,71×0,81m (±0,1mm) (minimale lijnbreedte 10 µm)

1,68×3,5m (±0,1mm) (minimale lijnbreedte 30 µm)

Kleur

Zwarte grijstinten,

sinusvormige grijstinten

Uiterlijk

Laser snijden, recht rand snijden en cirkelvormige gaten uithollen zijn beschikbaar

 

Verwante producten
Contacteer ons
U kunt ons op elk moment contacteren!