Halcon Kalibrierplatte Wabenkalibrierplatte Minimale Linienbreite 1 µm / 0,55 µm

Ursprungsland

China

Markenbezeichnung

DFOPTIX

Zertifikat

ISO9001

MOQ

Zahlungs-Methode

T/T

Lieferkapazität

Die durchschnittliche monatliche Produktionskapazität für Kalibrierplatten und -folien beträgt 300.0

Produktdetails

Hervorheben:

Wabenkalibrierplatte

Halcon Kalibrierplatte 1 µM

Halcon Kalibrierplatte 0

Material: Glas, Keramik, Folie, Aluminium können individuell angepasst werden

Specification: Die Präzision kann 1 µm erreichen und die Größe kann je nach Material bis zu 1,68 * 3500 mm angepass

Shipping Option: FedEx und UPS

Produkt-Beschreibung

Detaillierte Spezifikationen & Funktionen

Halcon Honeycomb-Kalibrierplatte

Das Kreislaufpunktaklibrationsbrett ist ein hochpräzises Kalibrierwerkzeug für optische Systeme, das eine optimale Kalibrierung der Kamera, eine Korrektur der Objektivverzerrung und eine Bewertung der Systemleistung gewährleistet.Hergestellt unter Verwendung fortschrittlicher Photolithographie-Technologie, bietet eine außergewöhnliche Genauigkeit mit einer Präzision auf Mikronebene und ist somit ideal für hochauflösende Bildgebungssysteme und mikroskopische Anwendungen.Wärmebeständiges Material garantiert langfristige Stabilität, und das präzise Punktmuster sorgt für eine einheitliche Aufmachung der gesamten Platine, was zuverlässige Kalibrierungsergebnisse liefert.Das macht es perfekt für Industriekameras., Robotik und automatisierte Sehsysteme.

Merkmale des Produkts:Scharfe Kanten, hohe Positionsgenauigkeit, geringer Expansionskoeffizient, hohe Präzision (mit einer maximalen Genauigkeit von 1um) und Anpassungsunterstützung.

Anwendbare Szenarien:Kalibrierung der Bildverarbeitung (Sicherheits-, Film- und Fernsehtechnik, Medizin, Kamera, Drohnenkamera, Fotostudio, wissenschaftliche Forschungsinstrumente und andere Geräte).

Ausgangsmaterial:Das Grundmaterial der Punktkalibrierplatte ist optional und verschiedene Grundmaterialien (wie Glas, Keramik, Film, Aluminiumplatte usw.) können je nach unterschiedlichen Anwendungsszenarien angepasst werden.Umwelt, und Genauigkeitsanforderungen.

1. Parameter des Glassubstrats:

Entwurf		Substrat
Herstellungsprozess	Fotolithographie	Glasunterlage	Quarzglas (geschmolzenes Kieselsäureglas) / Sodaglas
Mindestleitungsbreite	1 μm / 0,55 μm	Übertragungsrate ((@550 nm)	> 95%
Genauigkeit der Merkmale	± 1 μm	Koeffizient der thermischen Ausdehnung (20 bis 200°C)	< 5,0 × 10−7/K
Beschichtung	Gelbes Chrom, helles Chrom , blaues Chrom (niedrige Reflexionsfähigkeit)	Ausdehnungsverhältnis ((20-200°C)	00,00006% (0,6 μm/°C von 1 m)
Reflexionsfähigkeit	< 13,4% @ 550 nm	Flachheit der Oberfläche	< 0,55 μm (Länge < 50 mm)
	< 1,8% @ 650 nm		< 2 μm (Länge < 100 mm)
	< 2,67% @ 750 nm		< 5 μm (Länge> 100 mm)
Genauigkeit der Beschichtung	120 nm (± 0,20 nm)	Oberflächenrauheit	< 0,025 μm
Optische Dichte OD	Gelb Chrom 3 (blau 5)	Stärke	1 mm,10,6 mm,2.3mm,3mm(±0.2mm) ((5005004.8)
Weißer Hintergrund	Mindestleitungsbreite:10μm	Mindest-/Mehrgröße	Min: 2 × 2 mm
Weißer Hintergrund	Weiße Hintergrunddicke: 40 μ m (glatte weiße Beschichtung auf der Rückseite)	Mindest-/Mehrgröße	Maximal: 800 × 960 mm (± 0,1 mm)
Positive und negative Formen	Positiv: Muster undurchsichtig Negativ: durchscheinendes Muster	Aussehen und Form	Quadrat

2. Parameter des keramischen Substrats:

Entwurf			Substrat
Herstellungsprozess	Fotolithographie		Typ	Matte Chrom auf mattem Keramikwerk	Helle Chrom auf glänzender Keramik
Typ	Matte Keramik	mit einer Breite von nicht mehr als 15 mm	Keramische Substrate	Zirkonium / Aluminiumoxid
Mindestleitungsbreite	4 μm	2 μm	Stärke	1 mm (± 0,1 mm, üblich)	2 mm (alltäglich)	3 mm (± 0,1 mm)
Genauigkeit der Merkmale	± 2 μm	± 2 μm	Flachheit der Oberfläche	< 30 μm (Länge < 100 mm)	< 60 μm (Länge < 200 mm)
Genauigkeit des Erscheinungsbildes	± 0,05 mm	± 0,05 mm	Flachheit der Oberfläche	MIN: 2 × 2 mm (± 0,1 mm); Maximal: 228 × 228 mm (± 0,1 mm)
Beschichtung	Chrom	Chrom	Oberflächenrauheit	< 0,2-0,7 μm
Leichte/matte Beschichtung	Matte Chrombeschichtung	Lichtchrombeschichtung	Koeffizient der thermischen Ausdehnung (40 bis 400°C)	< 6,7 × 10−6/K
Reflexionen	< 12,88% @ 550 nm	< 9,56% @ 550 nm	Einheitsgewicht	≥ 3,66 g/cm3
	< 10,62% @650 nm	< 1,89% @ 650 nm
	< 12,23% @ 750 nm	< 11,168% @ 750 nm
Beschichtungsdicke	100 bis 120 nm	100 bis 120 nm	Rockwell-Härte	≥ 80 HRA
Positive und negative Formen	Positiver Film: undurchsichtiges Muster, Negativfilm: durchsichtiges Muster		Aussehen und Form	Laserschneiden, beliebiger Form	Quadrat	Ellipse
Schutzschicht	Der dünne Film über der Chromschicht macht das Chrommuster langlebiger		Besondere Form	Schlag	Schaum	Schrägwinkel

3. Parameter des Filmsubstrats:

Entwurf		Filmsubstrat
Herstellungsprozess	Lithographie (Film Lithographie Maschine)	Anwendung	Verwendet für Übertragung/Hintergrundbeleuchtung /Funktionstests
Mindestleitungsbreite	10 μm/30 μm nicht erwünscht	Expansionskoeffizient	Der Film schrumpft beim Erhitzen und dehnt sich beim Abkühlen aus
Genauigkeit der Merkmale	± 10 μm	Expansionskoeffizient	10 μm/°C von 1 m Wenn die relative Temperatur konstant ist, Wenn sich die Luftfeuchtigkeit um 1 °C ändert, Ein Film mit einer Länge von 1 m verändert sich um 10 μ m (ein Zehntausendstel)
Beschichtung	Silberbromid	Übertragungsgeschwindigkeit ((400 ~ 700 nm)	> 90% ultraviolett < 400 ~ 700 nm> Infrarot
Beschichtungsdicke	2 μm	Filmsubstratdicke	0.18 mm (± 0,01 mm)
Optische Dichte OD	OD> 4 bei 100% schwarz (OD-Wert in Graustufen steuerbar)	Höchstgröße	0.71 × 0,81 m (± 0,1 mm) (mindestens 10 μm Linienbreite) 1.68×3,5 m (±0,1 mm) (mindestens Linienbreite 30 μm)
Farbe	Schwarze Graustufen, Sinus-Graueskala	Aussehen	Laserschneiden, Gerade-Kanten-Schneiden und kreisförmiges Bohren sind erhältlich

Umbauten:

Maschinen-Vision-Kalibrierziel

Halcon-Kalibrierungsplatte

Präzisionskalibrierungsziel

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