Placa de Calibración Halcon Tablero de Calibración de Panal Ancho Mínimo de Línea 1 µm / 0.55 µm
Tablero de Calibración de Panal
,Tablero de Calibración Halcon 1 µM
,Placa de Calibración Halcon 0.55 µM
Tablero de Calibración de Panal de Halcón
El tablero de calibración de puntos circulares es una herramienta de calibración de alta precisión diseñada para sistemas ópticos, que garantiza una calibración óptima de la cámara, corrección de distorsión de la lente y evaluación del rendimiento del sistema. Fabricado con tecnología avanzada de fotolitografía, ofrece una precisión excepcional con precisión a nivel de micrón, lo que lo hace ideal para sistemas de imágenes de alta resolución y aplicaciones microscópicas. Su material duradero y resistente al calor garantiza una estabilidad a largo plazo, y el patrón de puntos preciso garantiza la uniformidad en todo el tablero, proporcionando resultados de calibración fiables. Este tablero es totalmente personalizable para satisfacer diversas necesidades de calibración, lo que lo hace perfecto para cámaras industriales, robótica y sistemas de visión automatizados.
Características del producto: bordes afilados, alta precisión posicional, bajo coeficiente de expansión, Alta precisión (con una precisión máxima de 1um) y soporte de personalización.
Escenarios aplicables: Calibración de visión artificial (seguridad, cine y televisión, medicina, cámaras, cámaras de drones, estudios de fotografía, instrumentos de investigación científica y otros equipos).
Material base: El material base de la placa de calibración de puntos es opcional, y se pueden personalizar diferentes materiales base (como vidrio, cerámica, película, placa de aluminio, etc.) según los diferentes escenarios de uso, entornos y requisitos de precisión.
1. Parámetros del sustrato de vidrio:
| Diseño |
Sustrato |
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Proceso de fabricación |
Fotolitografía |
Sustrato de vidrio |
Vidrio de cuarzo (sílice fundida)/vidrio de sosa |
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Ancho de línea mínimo |
1 µm / 0,55 µm |
Tasa de transmitancia (@550nm) |
>95% |
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Precisión de características |
±1 µm |
Coeficiente de expansión térmica (20-200 °C) |
<5,0×10⁻⁷/K |
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Recubrimiento |
Cromo amarillo, cromo brillante , cromo azul (baja reflectividad) |
Relación de expansión (20-200 °C) |
0,00006% (0,6 µm/°C de 1 m) |
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Reflectancia |
< 13,4% @550nm |
Planitud de la superficie |
<0,55 µm (longitud<50 mm) |
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< 1,8% @650nm |
<2 µm (longitud<100 mm) |
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< 2,67% @750nm |
100 mm) |
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Precisión del recubrimiento |
120 nm (±0,20 nm) |
Rugosidad de la superficie |
<0,025 µm |
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Densidad óptica OD |
Cromo Amarillo 3 (Azul 5) |
Espesor |
1 mm, 1,6 mm, 2,3 mm, 3 mm (±0,2 mm) (500*500*4,8) |
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Fondo blanco |
Ancho de línea mínimo: 10 µm |
Tamaño mínimo/máximo |
Mín: 2×2 mm |
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Espesor del fondo blanco: 40 µm (recubrimiento blanco liso en la parte posterior) |
Máx: 800×960 mm (±0,1 mm) |
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Formas positiva y negativa |
Positivo: patrón opaco Negativo: patrón translúcido |
Apariencia y forma |
Cuadrado |
2. Parámetros del sustrato cerámico:
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Diseño |
Sustrato |
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Proceso de fabricación |
Fotolitografía |
Tipo |
Cromo mate sobre cerámica mate |
Cromo brillante sobre cerámica brillante |
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Tipo |
Cerámica mate |
Cerámica brillante |
Sustrato cerámico |
Zirconia / Alúmina |
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Ancho de línea mínimo |
4 µm |
2 µm |
Espesor |
1 mm (±0,1 mm, común) |
2 mm (común) |
3 mm (±0,1 mm) |
|
Precisión de características |
±2 µm |
±2 µm |
Planitud de la superficie |
<30 µm (longitud<100 mm) |
<60 µm (longitud<200 mm) |
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Precisión de apariencia |
±0,05 mm |
±0,05 mm |
Planitud de la superficie |
MÍN: 2×2 mm (±0,1 mm); MÁX: 228×228 mm (±0,1 mm) |
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Recubrimiento |
Cromo |
Cromo |
Rugosidad de la superficie |
<0,2-0,7 µm |
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Recubrimiento claro/recubrimiento mate |
Recubrimiento de cromo mate |
Recubrimiento de cromo brillante |
Coeficiente de expansión térmica (40-400 °C) |
<6,7×10⁻⁶/K |
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Reflectancia |
< 12,88% @550nm |
< 9,56% @550nm |
Peso unitario |
≥ 3,66 g/cm³ |
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< 10,62% @650nm |
< 1,89% @650nm |
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< 12,23% @750nm |
< 11,168% @750nm |
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Espesor del recubrimiento |
100-120 nm |
100-120 nm |
Dureza Rockwell |
≥80 HRA |
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Formas positiva y negativa |
Película positiva: patrón opaco, Película negativa: patrón transparente |
Apariencia y forma |
Corte por láser de cualquier forma |
Cuadrado |
Elipse |
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Capa protectora |
La película delgada sobre la capa de cromo hace que el patrón de cromo sea más duradero |
Forma especial |
Perforación |
Bisel |
Ángulo oblicuo |
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3. Parámetros del sustrato de película:
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Diseño |
Sustrato de película |
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Proceso de fabricación |
Litografía (Máquina de litografía de película) |
Aplicación |
Se utiliza para transmisión/retroiluminación /pruebas funcionales |
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Ancho de línea mínimo |
10 µm/30 µm opcional |
Coeficiente de expansión |
La película se encoge al calentarse y se expande al enfriarse |
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Precisión de características
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±10 µm |
10 µm/°C de 1 m Cuando la temperatura relativa es constante,
Cuando la humedad cambia en 1 °C,
Una película de 1 m de longitud cambiará 10 µm (una diezmilésima parte)
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Recubrimiento |
Bromuro de plata |
Tasa de transmitancia (400~700nm) |
>90% ultravioletainfrarrojo |
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Espesor del recubrimiento |
2 µm |
Espesor del sustrato de película |
0,18 mm (±0,01 mm) |
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Densidad óptica OD |
OD>4 cuando es 100% negro
(Valor OD controlable en escala de grises)
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Tamaño máximo |
0,71×0,81 m (±0,1 mm) (ancho de línea mínimo 10 µm) 1,68×3,5 m (±0,1 mm) (ancho de línea mínimo 30 µm) |
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Color |
Escala de grises negra, escala de grises sinusoidal |
Apariencia |
Corte por láser, corte de borde recto y ahuecado de orificios circulares disponibles |