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ハルコンキャリブレーションプレート ハニカムキャリブレーションボード 最小線幅 1μm / 0.55μm

ハルコンキャリブレーションプレート ハニカムキャリブレーションボード 最小線幅 1μm / 0.55μm
原産国
中国
ブランド名
DFOPTIX
証明書
ISO9001
MOQ
1
支払方法
T/T
供給能力
校正板とフィルムの月平均生産能力は30万枚
製品詳細
ハイライト:

ハニカムキャリブレーションボード

,

ハルコンキャリブレーションボード 1μM

,

ハルコンキャリブレーションプレート 0.55μM

Material: ガラス、セラミック、フィルム、アルミニウムのカスタマイズが可能
Specification: 精度は1umに達し、サイズはさまざまな材料に応じて最大1.68*3500mmまでカスタマイズできます。
Shipping Option: フェデックスと UPS
製品の説明
詳細な仕様と特徴

ハルコン ハンニコブ カリブレーションボード

 

円点校正板は,光学システム向けに設計された高精度校正ツールで,最適なカメラ校正,レンズ歪みの訂正,システム性能評価を保証する.高級な光石印刷技術で作られました高解像度画像システムや顕微鏡用アプリケーションに最適です. 耐久性があり,耐熱材料は長期にわたって安定性を保証しますこのボードは,様々な校正ニーズを満たすために完全にカスタマイズできます.産業用カメラに最適ですロボットや自動視覚システムです

製品の特徴:鋭い刃,高い位置精度,低い膨張係数,高精度 (最大精度1um),カスタマイズサポート.

適用可能なシナリオ:マシンビジョン校正 (セキュリティ,映画,テレビ,医療,カメラ,ドローンカメラ,写真スタジオ,科学研究機器,その他の機器)

ベース材料:点校正プレートの基材はオプションで,異なる使用シナリオに応じて異なる基材 (ガラス,セラミック,フィルム,アルミプレートなど) をカスタマイズすることができます.環境, 精度要件

1ガラス基板のパラメータ:

デザイン

基板

製造プロセス

フォトリトグラフィー

ガラス基板

クォーツガラス (溶解シリカ) /ソーダガラス

最小ライン幅

1μm/0.55μm

伝播率 ((@550nm)

>95%

特徴の精度

±1μm

熱膨張係数

(20〜200°C)

<5.0×10−7/K

コーティング

黄色いクロム,明るいクロム

青いクロム (反射性が低い)

膨張比 ((20~200°C)

0.00006% (0.6μm/°C 1m)

反射力

< 13.4% @ 550nm

表面の平らさ

<0.55μm (長さ<50mm)

<1.8% @650nm

<2μm (長さ<100mm)

< 2.67% @750nm

<5μm (長さ>100mm)

コーティング精度

120nm (±0.20nm)

表面の荒さ

<0.025μm

オプティカル密度 OD

黄色クロム3 (青色5)

厚さ

1mm1.6mm2.3mm,3mm(±0.2mm) ((500*500*4.8)

白い背景

最小線幅:10μm

最小/最大サイズ

ミニ: 2×2mm

白い背景の厚さ: 40 μ m

(裏側には滑らかな白いコーティング)

最大: 800×960mm (±0.1mm)

ポジティブとネガティブな形

陽性: パターン不透明

ネガティブ: 半透明のパターン

外見と形状

スクエア

2陶器基板のパラメータ:

デザイン

基板

製造プロセス

フォトリトグラフィー

タイプ

マットセラミックのマットクロム

輝くセラミックの明るいクロム

 

タイプ

マットセラミック

輝くセラミック

セラミック基板

シルコニア/アルミニウム

最小ライン幅

4μm

2μm

厚さ

1mm (±0.1mm,普通)

2mm (普通)

3mm (±0.1mm)

特徴の精度

±2μm

±2μm

表面の平らさ

<30μm (長さ<100mm)

<60μm (長さ<200mm)

外観の正確さ

±0.05mm

±0.05mm

表面の平らさ

MIN: 2×2mm (±0.1mm)

マックス: 228×228mm (±0.1mm)

コーティング

クロム

クロム

表面の荒さ

<0.2-0.7μm

薄いコーティング/マットコーティング

マットクロムコーティング

鮮やかなクロムコーティング

熱膨張係数

(40~400°C)

<6.7×10−6/K

反射する

< 12.88% @ 550nm

< 9.56% @ 550nm

単位重量

≥ 3.66 g/cm3

< 10.62% @650nm

< 1.89% @650nm

< 12.23% @ 750nm

< 11.168% @750nm

厚さ

100~120nm

100~120nm

ロックウェル硬さ

≥80 HRA

ポジティブとネガティブな形

陽性フィルム:不透明なパターン

ネガティブフィルム:透明なパターン

外見と形状

レーザー切削

スクエア

エリプス

保護層

クロム層の上の薄膜

クロムのパターンをより耐久させる

特殊な形

パンチ

シャムファー

斜角

3フィルム基板のパラメータ:

デザイン

フィルム基板

製造プロセス

リトグラフィ

(フィルムリトグラフィーマシン)

適用する

トランスミッション/バックライトに使用

/機能試験

最小ライン幅

10 μ m/30 μ m 選択可能

拡大係数

フィルム は,加熱 する と 収縮 し,冷却 する と 膨張 する

特徴の精度

 

±10μm

1m の 10μm/°C

相対温度が一定であるとき
湿度が1°C変化すると
1mの長さのフィルムは10μm (一万分の") に変化します.

コーティング

シルバーブロマイド

伝播速度は ((400~700nm)

>90%紫外線<400~700nm>赤外線

厚さ

2μm

フィルム基板の厚さ

0.18mm (±0.01mm)

オプティカル密度 OD

 

OD>4 100%黒色の場合
(OD値がグレースケールで制御可能)

 

最大サイズ

0.71×0.81m (±0.1mm) (最小線幅は10μm)

1.68×3.5m (±0.1mm) (最小線幅30μm)

黒い灰色

シヌスグレースケール

外見

レーザー 切断,直角切断,円形穴空洞化 は利用可能

 

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