Placa de calibração Halcon Painel de calibração Honeycomb Largura mínima da linha 1μm / 0,55μm

país de origem

China

Nome da marca

DFOPTIX

Certificado

ISO9001

MOQ

Método do pagamento

T/T

Capacidade de fornecimento

A capacidade média mensal de produção de placas e filmes de calibração é de 300 mil peças

Detalhes do produto

Destacar:

Placa de Calibração em Favo de Mel

Placa de Calibração Halcon 1µM

Placa de Calibração Halcon 0.55µM

Material: Vidro, cerâmica, filme, alumínio podem ser personalizados

Specification: A precisão pode chegar a 1um e o tamanho pode ser personalizado em até 1,68 * 3500 mm de acordo com

Shipping Option: FedEx e UPS

Descrição do produto

Especificações e características pormenorizadas

Placa de Calibração de Favo de Mel Halcon

A placa de calibração de pontos circulares é uma ferramenta de calibração de alta precisão projetada para sistemas ópticos, garantindo calibração ideal da câmera, correção de distorção da lente e avaliação de desempenho do sistema. Fabricada com tecnologia avançada de fotolitografia, oferece precisão excepcional com resolução em nível de mícron, tornando-a ideal para sistemas de imagem de alta resolução e aplicações microscópicas. Seu material durável e resistente ao calor garante estabilidade a longo prazo, e o padrão preciso de pontos garante uniformidade em toda a placa, proporcionando resultados de calibração confiáveis. Esta placa é totalmente personalizável para atender a diversas necessidades de calibração, tornando-a perfeita para câmeras industriais, robótica e sistemas de visão automatizada.

Recursos do produto: bordas nítidas, alta precisão posicional, baixo coeficiente de expansão, Alta precisão (com precisão máxima de 1um) e suporte de personalização.

Cenários aplicáveis: Calibração de visão computacional (segurança, cinema e televisão, médico, câmera, câmera de drone, estúdio de fotografia, instrumentos de pesquisa científica e outros equipamentos).

Material base: O material base da placa de calibração de pontos é opcional, e diferentes materiais base (como vidro, cerâmica, filme, placa de alumínio, etc.) podem ser personalizados de acordo com diferentes cenários de uso, ambientes e requisitos de precisão.

1. Parâmetros do substrato de vidro:

Projeto		Substrato
Processo de Fabricação	Fotolitografia	Substrato de vidro	Vidro de quartzo (sílica fundida)/vidro de soda
Largura mínima da linha	1µm / 0,55µm	Taxa de transmitância (@550nm)	>95%
Precisão do recurso	±1µm	Coeficiente de expansão térmica (20-200°C)	<5,0×10⁻⁷/K
Revestimento	Cromo amarelo, cromo brilhante , cromo azul (baixa refletividade)	Razão de expansão (20-200°C)	0,00006% (0,6µm/°C de 1m)
Reflexão	< 13,4% @550nm	Planicidade da superfície	<0,55µm (comprimento<50mm)
	< 1,8% @650nm		<2µm (comprimento<100mm)
	< 2,67% @750nm		100mm)
Precisão do revestimento	120nm (±0,20nm)	Rugosidade da superfície	<0,025µm
Densidade óptica OD	Cromo Amarelo 3 (Azul 5)	Espessura	1mm,1,6mm,2,3mm,3mm(±0,2mm)(5005004,8)
Fundo branco	Largura mínima da linha: 10µm	Tamanho mínimo/máximo	Mín: 2×2 mm
Fundo branco	Espessura do fundo branco: 40 µm (revestimento branco liso no verso)	Tamanho mínimo/máximo	Máx: 800×960mm (±0,1mm)
Formas positiva e negativa	Positivo: padrão opaco Negativo: padrão translúcido	Aparência e forma	Quadrado

2. Parâmetros do substrato cerâmico:

Projeto			Substrato
Processo de Fabricação	Fotolitografia		Tipo	Cromo fosco em cerâmica fosca	Cromo brilhante em cerâmica brilhante
Tipo	Cerâmica fosca	Cerâmica brilhante	Substrato cerâmico	Zircônia / Alumina
Largura mínima da linha	4µm	2µm	Espessura	1mm (±0,1mm, comum)	2mm (comum)	3mm (±0,1mm)
Precisão do recurso	±2µm	±2µm	Planicidade da superfície	<30µm (comprimento<100mm)	<60µm (comprimento<200mm)
Precisão da aparência	±0,05mm	±0,05mm	Planicidade da superfície	MÍN: 2×2mm (±0,1mm); MÁX: 228×228mm (±0,1mm)
Revestimento	Cromo	Cromo	Rugosidade da superfície	<0,2-0,7µm
Revestimento claro/revestimento fosco	Revestimento de cromo fosco	Revestimento de cromo brilhante	Coeficiente de expansão térmica (40-400°C)	<6,7×10⁻⁶/K
Reflexão	< 12,88% @550nm	< 9,56% @550nm	Peso unitário	≥ 3,66 g/cm³
	< 10,62% @650nm	< 1,89% @650nm
	< 12,23% @750nm	< 11,168% @750nm
Espessura do revestimento	100-120nm	100-120nm	Dureza Rockwell	≥80 HRA
Formas positiva e negativa	Filme positivo: padrão opaco, Filme negativo: padrão transparente		Aparência e forma	Corte a laser de qualquer forma	Quadrado	Elipse
Camada protetora	A película fina acima da camada de cromo torna o padrão de cromo mais durável		Forma especial	Punção	Chanfro	Ângulo oblíquo

3. Parâmetros do substrato de filme:

Projeto		Substrato de filme
Processo de Fabricação	Litografia (Máquina de Litografia de Filme)	Aplicação	Usado para transmissão/luz de fundo /teste funcional
Largura mínima da linha	10 µm/30 µm opcional	Coeficiente de expansão	O filme encolhe quando aquecido e expande quando resfriado
Precisão do recurso	±10µm	Coeficiente de expansão	10µm/°C de 1m Quando a temperatura relativa é constante, Quando a umidade muda em 1 °C, Um filme com 1m de comprimento mudará 10 µm (um décimo de milésimo)
Revestimento	Brometo de prata	Taxa de transmitância (400~700nm)	>90% ultravioletainfravermelho
Espessura do revestimento	2µm	Espessura do substrato de filme	0,18mm (±0,01mm)
Densidade óptica OD	OD>4 quando 100% preto (valor OD controlável em escala de cinza)	Tamanho máximo	0,71×0,81m (±0,1mm)(largura mínima da linha 10µm) 1,68×3,5m (±0,1mm)(largura mínima da linha 30µm)
Cor	Escala de cinza preta, escala de cinza senoidal	Aparência	Corte a laser, corte de borda reta e esvaziamento de orifício circular estão disponíveis

Etiquetas:

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