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Plaque de calibration circulaire personnalisable avec points et revêtement en chrome
Plaque de calibration personnalisable avec points
,Plaque de calibration avec points et revêtement en chrome
Plaque de calibration à points circulaires
La plaque de calibration à points circulaires est un outil de calibration de haute précision conçu pour les systèmes optiques, garantissant une calibration optimale de la caméra, une correction de la distorsion de l'objectif et une évaluation des performances du système. Fabriquée à l'aide d'une technologie avancée de photolithographie, elle offre une précision exceptionnelle avec une résolution micrométrique, ce qui la rend idéale pour les systèmes d'imagerie haute résolution et les applications microscopiques. Son matériau durable et résistant à la chaleur garantit une stabilité à long terme, et le motif précis des points assure une uniformité sur toute la plaque, fournissant des résultats de calibration fiables. Cette plaque est entièrement personnalisable pour répondre à divers besoins de calibration, ce qui la rend parfaite pour les caméras industrielles, la robotique et les systèmes de vision automatisés.
Caractéristiques du produit :bords nets, haute précision de position, faible coefficient de dilatation, haute précision (avec une précision maximale de 1 µm) et prise en charge de la personnalisation.
Scénarios applicables :Calibration de la vision industrielle (sécurité, cinéma et télévision, médical, caméra, caméra drone, studio photo, instruments de recherche scientifique et autres équipements).
Matériau de base :Le matériau de base de la plaque de calibration à points est facultatif, et différents matériaux de base (tels que le verre, la céramique, le film, la plaque d'aluminium, etc.) peuvent être personnalisés en fonction des différents scénarios d'utilisation, environnements et exigences de précision.
1. Paramètres du substrat en verre :
| Conception |
Substrat |
||
|
Processus de fabrication |
Photolithographie |
Substrat en verre |
Verre de quartz (silice fondue)/verre sodocalcique |
|
Largeur de ligne minimale |
1 µm / 0,55 µm |
Taux de transmission (@550 nm) |
>95% |
|
Précision des caractéristiques |
±1 µm |
Coefficient de dilatation thermique (20-200 °C) |
<5,0×10⁻⁷/K |
|
Revêtement |
Chrome jaune, chrome brillant , chrome bleu (faible réflectivité) |
Taux d'expansion (20-200 °C) |
0,00006 % (0,6 µm/°C pour 1 m) |
|
Réflectance |
< 13,4 % @550 nm |
Planéité de surface |
<0,55 µm (longueur<50 mm) |
|
< 1,8 % @650 nm |
<2 µm (longueur<100 mm) |
||
|
< 2,67 % @750 nm |
100 mm) |
||
|
Précision du revêtement |
120 nm (±0,20 nm) |
Rugosité de surface |
<0,025 µm |
|
Densité optique OD |
Chrome jaune 3 (Bleu 5) |
Épaisseur |
1 mm, 1,6 mm, 2,3 mm, 3 mm (±0,2 mm) (500*500*4,8) |
|
Fond blanc |
Largeur de ligne minimale : 10 µm |
Taille minimale/maximale |
Min : 2 × 2 mm |
|
Épaisseur du fond blanc : 40 µm (revêtement blanc lisse au dos) |
Max : 800 × 960 mm (±0,1 mm) |
||
|
Formes positives et négatives |
Positif : motif opaque Négatif : motif translucide |
Apparence et forme |
Carré |
2. Paramètres du substrat en céramique :
|
Conception |
Substrat |
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|
Processus de fabrication |
Photolithographie |
Type |
Chrome mat sur céramique mate |
Chrome brillant sur céramique brillante |
|
|
|
Type |
Céramique mate |
Céramique brillante |
Substrat en céramique |
Zircone / Alumine |
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|
Largeur de ligne minimale |
4 µm |
2 µm |
Épaisseur |
1 mm (±0,1 mm, courant) |
2 mm (courant) |
3 mm (±0,1 mm) |
|
Précision des caractéristiques |
±2 µm |
±2 µm |
Planéité de surface |
<30 µm (longueur<100 mm) |
<60 µm (longueur<200 mm) |
|
|
Précision d'apparence |
±0,05 mm |
±0,05 mm |
Planéité de surface |
MIN : 2 × 2 mm (±0,1 mm) ; MAX : 228 × 228 mm (±0,1 mm) |
||
|
Revêtement |
Chrome |
Chrome |
Rugosité de surface |
<0,2-0,7 µm |
||
|
Revêtement clair/revêtement mat |
Revêtement chrome mat |
Revêtement chrome brillant |
Coefficient de dilatation thermique (40-400 °C) |
<6,7×10⁻⁶/K |
||
|
Réflectance |
< 12,88 % @550 nm |
< 9,56 % @550 nm |
Poids unitaire |
≥ 3,66 g/cm³ |
||
|
< 10,62 % @650 nm |
< 1,89 % @650 nm |
|||||
|
< 12,23 % @750 nm |
< 11,168 % @750 nm |
|||||
|
Épaisseur du revêtement |
100-120 nm |
100-120 nm |
Dureté Rockwell |
≥80 HRA |
||
|
Formes positives et négatives |
Film positif : motif opaque, Film négatif : motif transparent |
Apparence et forme |
Découpe laser de toute forme |
Carré |
Ellipse |
|
|
Couche protectrice |
Le film mince au-dessus de la couche de chrome rend le motif chromé plus durable |
Forme spéciale |
Poinçon |
Chanfrein |
Angle oblique |
|
3. Paramètres du substrat film :
|
Conception |
Substrat film |
||
|
Processus de fabrication |
Lithographie (Machine de lithographie sur film) |
Application |
Utilisé pour la transmission/rétroéclairage /tests fonctionnels |
|
Largeur de ligne minimale |
10 µm / 30 µm en option |
Coefficient de dilatation |
Le film se contracte lorsqu'il est chauffé et se dilate lorsqu'il est refroidi |
|
Précision des caractéristiques |
±10 µm |
10 µm/°C pour 1 m Lorsque la température relative est constante,
Lorsque l'humidité change de 1 °C,
Un film de 1 m de long changera de 10 µm (un dix-millième)
|
|
|
Revêtement |
Bromure d'argent |
Taux de transmission (400~700 nm) |
>90 % ultravioletinfrarouge |
|
Épaisseur du revêtement |
2 µm |
Épaisseur du substrat film |
0,18 mm (±0,01 mm) |
|
Densité optique OD |
OD>4 pour 100 % noir
(Valeur OD contrôlable en niveaux de gris)
|
Taille maximale |
0,71 × 0,81 m (±0,1 mm) (largeur de ligne minimale 10 µm) 1,68 × 3,5 m (±0,1 mm) (largeur de ligne minimale 30 µm) |
|
Couleur |
Niveaux de gris noir, niveaux de gris sinusoïdaux |
Apparence |
Découpe laser, découpe à bord droit et évidement de trous circulaires disponibles |
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