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クロムコーティング付きのカスタマイズ可能な円点校正板

クロムコーティング付きのカスタマイズ可能な円点校正板
原産国
中国
ブランド名
DFOPTIX
証明書
ISO9001
製品型式
DF-GR400-7.5
MOQ
5
支払方法
T/T
供給能力
校正板とフィルムの月平均生産能力は30万枚
製品詳細
ハイライト:

カスタマイズ可能なドット校正ボード

,

ドット校正板 クロムコーティング

Material: 石英ガラス、アルミニウム、セラミック材料はオプションです
Specification: カスタマイズ可能なサイズ
Shipping Option: フェデックスと UPS
製品の説明
詳細な仕様と特徴

円形ドットキャリブレーションボード


円形ドットキャリブレーションボードは、光学システムの高精度キャリブレーションツールであり、最適なカメラキャリブレーション、レンズ歪み補正、およびシステム性能評価を保証します。高度なフォトリソグラフィ技術を使用して製造されており、ミクロンレベルの精度で卓越した精度を提供するため、高解像度イメージングシステムや顕微鏡アプリケーションに最適です。耐久性のある耐熱性素材は長期的な安定性を保証し、正確なドットパターンはボード全体にわたる均一性を確保し、信頼性の高いキャリブレーション結果を提供します。このボードは、さまざまなキャリブレーションニーズに合わせて完全にカスタマイズ可能であり、産業用カメラ、ロボット工学、および自動化されたビジョンシステムに最適です。

製品の特徴:シャープなエッジ、高位置精度、低膨張係数、高精度(最大精度1μm)、カスタマイズサポート。

適用シナリオ:マシンビジョンキャリブレーション(セキュリティ、映画・テレビ、医療、カメラ、ドローンカメラ、写真スタジオ、科学研究機器、その他の機器)。

基材:ドットキャリブレーションプレートの基材はオプションであり、さまざまな使用シナリオ、環境、および精度要件に応じて、ガラス、セラミック、フィルム、アルミニウムプレートなどの異なる基材をカスタマイズできます。

1. ガラス基板パラメータ:

設計

基板

製造プロセス

フォトリソグラフィ

ガラス基板

石英ガラス(溶融シリカ)/ソーダガラス

最小線幅

1μm / 0.55μm

透過率(@550nm)

>95%

特徴精度

±1μm

熱膨張係数

(20-200℃)

<5.0×10⁻⁷/K

コーティング

黄クロム、光沢クロム

、青クロム(低反射率)

膨張率(20-200℃)

0.00006%(1mあたり0.6μm/℃)

反射率

< 13.4% @550nm

表面平坦度

<0.55μm(長さ<50mm)

< 1.8% @650nm

<2μm(長さ<100mm)

< 2.67% @750nm

100mm)

コーティング精度

120nm(±0.20nm)

表面粗さ

<0.025μm

光学密度OD

黄クロム 3(青 5)

厚さ

1mm、1.6mm、2.3mm、3mm(±0.2mm)(500*500*4.8)

白い背景

最小線幅:10μm

最小/最大サイズ

最小:2×2 mm

白い背景の厚さ:40μm

(裏面に滑らかな白いコーティング)

最大:800×960mm(±0.1mm)

正像と反転像

正像:パターン不透明

反転像:パターン半透明

外観と形状

正方形

2. セラミック基板パラメータ:

設計

基板

製造プロセス

フォトリソグラフィ

タイプ

マットセラミック上のマットクロム

光沢セラミック上の光沢クロム

 

タイプ

マットセラミック

光沢セラミック

セラミック基板

ジルコニア / アルミナ

最小線幅

4μm

2μm

厚さ

1mm(±0.1mm、一般的)

2mm(一般的)

3mm(±0.1mm)

特徴精度

±2μm

±2μm

表面平坦度

<30μm(長さ<100mm)

<60μm(長さ<200mm)

外観精度

±0.05mm

±0.05mm

表面平坦度

最小:2×2mm(±0.1mm);

最大:228×228mm(±0.1mm)

コーティング

クロム

クロム

表面粗さ

<0.2-0.7μm

ライトコーティング/マットコーティング

マットクロムコーティング

光沢クロムコーティング

熱膨張係数

(40-400℃)

<6.7×10⁻⁶/K

反射率

< 12.88% @550nm

< 9.56% @550nm

単位重量

≥ 3.66 g/cm³

< 10.62% @650nm

< 1.89% @650nm

< 12.23% @750nm

< 11.168% @750nm

コーティング厚さ

100-120nm

100-120nm

ロックウェル硬度

≥80 HRA

正像と反転像

正像フィルム:不透明パターン、

反転像フィルム:透明パターン

外観と形状

レーザーカットによる任意の形状

正方形

楕円

保護層

クロム層上の薄膜

によりクロムパターンがより耐久性になります

特殊形状

パンチ

面取り

斜角

3. フィルム基板パラメータ:

設計

フィルム基板

製造プロセス

リソグラフィ

(フィルムリソグラフィマシン)

応用

透過/バックライト

/機能テストに使用

最小線幅

10μm / 30μm オプション

膨張係数

フィルムは加熱時に収縮し、冷却時に膨張します

特徴精度


±10μm

10μm/℃(1mあたり)

相対温度が一定の場合、
湿度変化が1℃の場合、
長さ1mのフィルムは10μm(1万分の1)変化します

コーティング

臭化銀

透過率(400〜700nm)

>90% 紫外線赤外線

コーティング厚さ

2μm

フィルム基板厚さ

0.18mm(±0.01mm)

光学密度OD

 

100%黒の場合OD>4
(OD値はグレースケールで制御可能)

 

最大サイズ

0.71×0.81m(±0.1mm)(最小線幅10μm)

1.68×3.5m(±0.1mm)(最小線幅30μm)

黒グレースケール、

サイン波グレースケール

外観

レーザーカット、直線カット、円形穴くり抜きが可能


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