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クロムコーティング付きのカスタマイズ可能な円点校正板
カスタマイズ可能なドット校正ボード
,ドット校正板 クロムコーティング
円形ドットキャリブレーションボード
ドットキャリブレーショングリッドは、マシンビジョン、産業計測、コンピュータビジョンにおいて、チェッカーボードキャリブレーショングリッドと同等に最も一般的に使用される高精度キャリブレーションツールの一つです。円形の黒と白のドットのアレイで構成され、通常、対称または非対称のドットアレイに分類されます。
1. コアの利点と特徴
(1) 極めて高いサブピクセル精度：ドットは自然な幾何学的対称性を持ちます。円全体の境界をフィッティングするか、重心を計算することにより、アルゴリズムは数百または数千ピクセルからの情報を集約して中心位置を決定でき、従来のコーナーポイント（チェッカーボードのコーナーポイントなど）よりも一般的に優れた位置決め精度を実現します。
(2) 優れた耐歪み能力：広視野角またはレンズ歪みが大きい条件下では、ドットアレイからの特徴抽出は正方形のコーナーポイントからの特徴抽出よりも安定しており、特徴点のドリフトや誤認識の可能性を低減します。
(3) 高い配向識別能力：非対称円グリッドは、ドット配置に独自の非対称性を導入することにより、アルゴリズムが単一画像内のキャリブレーショングリッドの配向を自動的に決定できるようにし、配向反転による計算エラーを回避します。
2. 主な応用シナリオ
(1) カメラベースの歪みキャリブレーション：マシンビジョン3D再構成、ステレオビジョン、または単眼測距の前に、カメラの焦点距離、光学中心、レンズ歪み係数を正確に計算するために使用されます。
(2) 産業用高精度計測およびフォトグラメトリ：高精度が要求される航空写真、大型ワークピースの3D計測、自動車製造などで一般的に使用されます。
(3) ロボットアイハンドキャリブレーション：エンドエフェクタカメラと組み合わせて、カメラ座標系とロボットアーム座標系間の正確な数学的変換を確立するために使用されます。
3. カスタマイズサービス（パラメータと材料はカスタマイズ可能。提供された図面に基づくカスタムデザインも可能）
ドットキャリブレーションプレートの基板はオプションです。異なる基板（ガラス、セラミック、フィルム、アルミニウムプレートなど）は、異なる応用シナリオ、環境、精度要件に応じてカスタマイズできます。
以下に、一般的に使用される基板パラメータ情報を示します：
1. ガラス基板パラメータ：
| 設計 |
基板 |
||
|
製造プロセス |
フォトリソグラフィ |
ガラス基板 |
石英ガラス（溶融シリカ）/ソーダガラス |
|
最小線幅 |
1μm / 0.55μm |
透過率（@550nm） |
>95% |
|
特徴精度 |
±1μm |
熱膨張係数 （20-200℃） |
<5.0×10⁻⁷/K |
|
コーティング |
黄クロム、ブライトクロム 、青クロム（低反射率） |
膨張率（20-200℃） |
0.00006%（1mあたり0.6μm/℃） |
|
反射率 |
< 13.4% @550nm |
表面平坦度 |
<0.55μm（長さ<50mm） |
|
< 1.8% @650nm |
<2μm（長さ<100mm） |
||
|
< 2.67% @750nm |
100mm） |
||
|
コーティング精度 |
120nm（±0.20nm） |
表面粗さ |
<0.025μm |
|
光学密度OD |
黄クロム 3（青 5） |
厚さ |
1mm、1.6mm、2.3mm、3mm（±0.2mm）（500*500*4.8） |
|
白背景 |
最小線幅：10μm |
最小/最大サイズ |
最小：2×2 mm |
|
白背景厚さ：40μm （裏面に滑らかな白色コーティング） |
最大：800×960mm（±0.1mm） |
||
|
正像・反転形状 |
正像：パターン不透明 反転：パターン半透明 |
外観と形状 |
正方形 |
2. セラミック基板パラメータ：
|
設計 |
基板 |
|||||
|
製造プロセス |
フォトリソグラフィ |
タイプ |
マットセラミック上のマットクロム |
光沢セラミック上のブライトクロム |
|
|
|
タイプ |
マットセラミック |
光沢セラミック |
セラミック基板 |
ジルコニア / アルミナ |
||
|
最小線幅 |
4μm |
2μm |
厚さ |
1mm（±0.1mm、一般的） |
2mm（一般的） |
3mm（±0.1mm） |
|
特徴精度 |
±2μm |
±2μm |
表面平坦度 |
<30μm（長さ<100mm） |
<60μm（長さ<200mm） |
|
|
外観精度 |
±0.05mm |
±0.05mm |
表面平坦度 |
最小：2×2mm（±0.1mm） 最大：228×228mm（±0.1mm） |
||
|
コーティング |
クロム |
クロム |
表面粗さ |
<0.2-0.7μm |
||
|
ライトコーティング/マットコーティング |
マットクロムコーティング |
ブライトクロムコーティング |
熱膨張係数 （40-400℃） |
<6.7×10⁻⁶/K |
||
|
反射率 |
< 12.88% @550nm |
< 9.56% @550nm |
単位重量 |
≥ 3.66 g/cm³ |
||
|
< 10.62% @650nm |
< 1.89% @650nm |
|||||
|
< 12.23% @750nm |
< 11.168% @750nm |
|||||
|
コーティング厚さ |
100-120nm |
100-120nm |
ロックウェル硬度 |
≥80 HRA |
||
|
正像・反転形状 |
正像フィルム：不透明パターン 反転フィルム：透明パターン |
外観と形状 |
任意の形状のレーザーカット |
正方形 |
楕円 |
|
|
保護層 |
クロム層上の薄膜 クロムパターンをより耐久性のあるものにします |
特殊形状 |
パンチ |
面取り |
斜角 |
|
3. フィルム基板パラメータ：
|
設計 |
フィルム基板 |
||
|
製造プロセス |
リソグラフィ （フィルムリソグラフィマシン） |
応用 |
透過/バックライト /機能テストに使用 |
|
最小線幅 |
10μm/30μm（オプション） |
膨張係数 |
フィルムは加熱時に収縮し、冷却時に膨張します |
|
特徴精度 |
±10μm |
1mあたり10μm/℃ 相対温度が一定の場合、
湿度が1℃変化すると、
長さ1mのフィルムは10μm（一万分の一）変化します
|
|
|
コーティング |
臭化銀 |
透過率（400〜700nm） |
>90% 超紫外線赤外線 |
|
コーティング厚さ |
2μm |
フィルム基板厚さ |
0.18mm（±0.01mm） |
|
光学密度OD |
100%黒の場合OD>4
（OD値はグレースケールで制御可能）
|
最大サイズ |
0.71×0.81m（±0.1mm）（最小線幅10μm） 1.68×3.5m（±0.1mm）（最小線幅30μm） |
|
色 |
黒グレースケール、 サイン波グレースケール |
外観 |
レーザーカット、直線カット、円形穴くり抜きが可能 |
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