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Anpassungsfähiges Kreispunkte-Kalibrierungstafeln mit Chrombeschichtung

Anpassungsfähiges Kreispunkte-Kalibrierungstafeln mit Chrombeschichtung
Ursprungsland
China
Markenbezeichnung
DFOPTIX
Zertifikat
ISO9001
Produktmodell
DF-GR400-7.5
MOQ
5
Zahlungs-Methode
T/T
Lieferkapazität
Die durchschnittliche monatliche Produktionskapazität für Kalibrierplatten und -folien beträgt 300.0
Produktdetails
Hervorheben:

Anpassungsfähiges Punktkalibrierbrett

,

Chrombeschichtung auf der Punktkalibrierplatte

Material: Quarzglas, Aluminium und Keramikmaterialien sind optional
Specification: Anpassbare Größe
Shipping Option: FedEx und UPS
Produkt-Beschreibung
Detaillierte Spezifikationen & Funktionen

Kreisförmiges Punktkalibrierbrett


Das Punkte-Kalibrierungsraster ist eines der am häufigsten verwendeten hochpräzisen Kalibrierwerkzeuge für Bildverarbeitung, industrielle Messtechnik,und Computervision (gleich mit dem Schachbrett-Kalibrierungsraster)Es besteht aus einem Array von kreisförmigen schwarzen und weißen Punkten, die typischerweise als symmetrische oder asymmetrische Punktenarrays eingestuft werden.

1Hauptvorteile und Merkmale

(1) Extrem hohe Subpixelgenauigkeit:Die Punkte besitzen eine natürliche geometrische Symmetrie.Der Algorithmus kann Informationen aus Hunderten oder Tausenden von Pixeln zusammenfassen, um die Mittelposition zu bestimmen., die eine Positionsgenauigkeit erzielt, die im Allgemeinen den herkömmlichen Eckpunkten (z. B. Schachbrett-Eckpunkten) überlegen ist.

(2) Starke Verzerrungsbeständigkeit:Unter Bedingungen großer Betrachtungswinkel oder starker Linsenverzerrungen ist die Merkmalentnahme aus Punkt-Arrays stabiler als aus quadratischen Eckpunkten.Verringerung der Wahrscheinlichkeit einer Abweichung von Merkmalpunkten oder einer falschen Identifizierung.

(3) Diskriminierung aufgrund der hohen Orientierung:Das asymmetrische Kreisraster ermöglicht es dem Algorithmus, durch die Einführung einer einzigartigen Asymmetrie in der Punkteanordnung, die Ausrichtung des Kalibrierrasters in einem einzigen Bild automatisch zu bestimmen.Vermeidung von Berechnungsfehlern durch Orientierungsumkehr.

2. Hauptanwendungsszenarien

(1) Kameraorientierte Verzerrungskalibrierung:Wird verwendet, um die Brennweite der Kamera, den optischen Mittelpunkt und den Objektivverzerrungskoeffizienten vor der 3D-Rekonstruktion von Maschinensicht, der binokulären Stereo-Sicht oder der monokulären Abmessung genau zu berechnen.

(2) Industrielle Hochpräzisionsmessungen und Fotogrammetrie:Häufig in der Luftfotografie, der 3D-Messung großer Werkstücke und der Automobilindustrie, wo hohe Präzision erforderlich ist.

(3) Kalibrierung von Roboter-Auge-Hand:In Verbindung mit der End-Effektor-Kamera verwendet, um präzise mathematische Transformationen zwischen dem Kamera-Koordinatensystem und dem Roboterarm-Koordinatensystem herzustellen.

3. Anpassungsdienste (Parameter und Materialien können angepasst werden; auch kundenspezifische Entwürfe auf der Grundlage der bereitgestellten Zeichnungen sind verfügbar)

Das Punktkalibrierungsplattensubstrat ist optional. Verschiedene Substrate (wie Glas, Keramik, Film, Aluminiumplatten usw.) können nach verschiedenen Anwendungsszenarien angepasst werden,Umwelt, und Präzisionsanforderungen.

Im Folgenden sind einige häufig verwendete Informationen zu Substratparametern aufgeführt:

1. Parameter des Glassubstrats:

Entwurf

Substrat

Herstellungsprozess

Fotolithographie

Glasunterlage

Quarzglas (geschmolzenes Kieselsäureglas) / Sodaglas

Mindestleitungsbreite

1 μm / 0,55 μm

Übertragungsrate ((@550 nm)

> 95%

Genauigkeit der Merkmale

± 1 μm

Koeffizient der thermischen Ausdehnung

(20 bis 200°C)

< 5,0 × 10−7/K

Beschichtung

Gelbes Chrom, helles Chrom

, blaues Chrom (niedrige Reflexionsfähigkeit)

Ausdehnungsverhältnis ((20-200°C)

00,00006% (0,6 μm/°C von 1 m)

Reflexionsfähigkeit

< 13,4% @ 550 nm

Flachheit der Oberfläche

< 0,55 μm (Länge < 50 mm)

< 1,8% @ 650 nm

< 2 μm (Länge < 100 mm)

< 2,67% @ 750 nm

< 5 μm (Länge> 100 mm)

Genauigkeit der Beschichtung

120 nm (± 0,20 nm)

Oberflächenrauheit

< 0,025 μm

Optische Dichte OD

Gelb Chrom 3 (blau 5)

Stärke

1 mm,10,6 mm,2.3mm,3mm(±0.2mm) ((500*500*4.8)

Weißer Hintergrund

Mindestleitungsbreite:10μm

Mindest-/Mehrgröße

Min: 2 × 2 mm

Weiße Hintergrunddicke: 40 μ m

(glatte weiße Beschichtung auf der Rückseite)

Maximal: 800 × 960 mm (± 0,1 mm)

Positive und negative Formen

Positiv: Muster undurchsichtig

Negativ: durchscheinendes Muster

Aussehen und Form

Quadrat

2. Parameter des keramischen Substrats:

Entwurf

Substrat

Herstellungsprozess

Fotolithographie

Typ

Matte Chrom auf mattem Keramikwerk

Helle Chrom auf glänzender Keramik

 

Typ

Matte Keramik

mit einer Breite von nicht mehr als 15 mm

Keramische Substrate

Zirkonium / Aluminiumoxid

Mindestleitungsbreite

4 μm

2 μm

Stärke

1 mm (± 0,1 mm, üblich)

2 mm (alltäglich)

3 mm (± 0,1 mm)

Genauigkeit der Merkmale

± 2 μm

± 2 μm

Flachheit der Oberfläche

< 30 μm (Länge < 100 mm)

< 60 μm (Länge < 200 mm)

Genauigkeit des Erscheinungsbildes

± 0,05 mm

± 0,05 mm

Flachheit der Oberfläche

MIN: 2 × 2 mm (± 0,1 mm);

Maximal: 228 × 228 mm (± 0,1 mm)

Beschichtung

Chrom

Chrom

Oberflächenrauheit

< 0,2-0,7 μm

Leichte/matte Beschichtung

Matte Chrombeschichtung

Lichtchrombeschichtung

Koeffizient der thermischen Ausdehnung

(40 bis 400°C)

< 6,7 × 10−6/K

Reflexionen

< 12,88% @ 550 nm

< 9,56% @ 550 nm

Einheitsgewicht

≥ 3,66 g/cm3

< 10,62% @650 nm

< 1,89% @ 650 nm

< 12,23% @ 750 nm

< 11,168% @ 750 nm

Beschichtungsdicke

100 bis 120 nm

100 bis 120 nm

Rockwell-Härte

≥ 80 HRA

Positive und negative Formen

Positiver Film: undurchsichtiges Muster,

Negativfilm: durchsichtiges Muster

Aussehen und Form

Laserschneiden, beliebiger Form

Quadrat

Ellipse

Schutzschicht

Der dünne Film über der Chromschicht

macht das Chrommuster langlebiger

Besondere Form

Schlag

Schaum

Schrägwinkel

3. Parameter des Filmsubstrats:

Entwurf

Filmsubstrat

Herstellungsprozess

Lithographie

(Film Lithographie Maschine)

Anwendung

Verwendet für Übertragung/Hintergrundbeleuchtung

/Funktionstests

Mindestleitungsbreite

10 μm/30 μm nicht erwünscht

Expansionskoeffizient

Der Film schrumpft beim Erhitzen und dehnt sich beim Abkühlen aus

Genauigkeit der Merkmale


± 10 μm

10 μm/°C von 1 m

Wenn die relative Temperatur konstant ist,
Wenn sich die Luftfeuchtigkeit um 1 °C ändert,
Ein Film mit einer Länge von 1 m verändert sich um 10 μ m (ein Zehntausendstel)

Beschichtung

Silberbromid

Übertragungsgeschwindigkeit ((400 ~ 700 nm)

> 90% ultraviolett < 400 ~ 700 nm> Infrarot

Beschichtungsdicke

2 μm

Filmsubstratdicke

0.18 mm (± 0,01 mm)

Optische Dichte OD

 

OD> 4 bei 100% schwarz
(OD-Wert in Graustufen steuerbar)

 

Höchstgröße

0.71 × 0,81 m (± 0,1 mm) (mindestens 10 μm Linienbreite)

1.68×3,5 m (±0,1 mm) (mindestens Linienbreite 30 μm)

Farbe

Schwarze Graustufen,

Sinus-Graueskala

Aussehen

Laserschneiden, Gerade-Kanten-Schneiden und kreisförmiges Bohren sind erhältlich


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