Tavola di calibrazione a punti circolari personalizzabile con rivestimento in cromo
Tavola di calibrazione a punti personalizzabile
,Tavola di taratura a punti rivestita di cromo
Scheda di calibrazione dei punti circolare
La scheda di calibrazione dei punti circolari è uno strumento di calibrazione ad alta precisione progettato per sistemi ottici, che garantisce una calibrazione ottimale della fotocamera, la correzione della distorsione dell'obiettivo e la valutazione delle prestazioni del sistema. Realizzato utilizzando la tecnologia avanzata della fotolitografia, offre un'accuratezza eccezionale con precisione a livello di micron, rendendolo ideale per sistemi di imaging ad alta risoluzione e applicazioni microscopiche. Il suo materiale durevole e resistente al calore garantisce stabilità a lungo termine e il modello di punti preciso garantisce uniformità su tutta la scheda, offrendo risultati di calibrazione affidabili. Questa scheda è completamente personalizzabile per soddisfare varie esigenze di calibrazione, rendendola perfetta per telecamere industriali, robotica e sistemi di visione automatizzati.
Caratteristiche del prodotto:spigoli vivi, elevata precisione di posizionamento, basso coefficiente di espansione, alta precisione (con una precisione massima di 1um) e supporto per la personalizzazione.
Scenari applicabili:Calibrazione della visione artificiale (sicurezza, cinema e televisione, medicina, fotocamera, fotocamera per droni, studio fotografico, strumenti di ricerca scientifica e altre apparecchiature).
Materiale di base:Il materiale di base della piastra di calibrazione dei punti è opzionale e diversi materiali di base (come vetro, ceramica, pellicola, piastra di alluminio, ecc.) possono essere personalizzati in base a diversi scenari di utilizzo, ambienti e requisiti di precisione.
1. Parametri del substrato di vetro:
| Progetto |
Substrato |
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Processo di produzione |
Fotolitografia |
Substrato di vetro |
Vetro al quarzo (silice fusa)/vetro soda |
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Larghezza minima della linea |
1μm / 0,55μm |
Tasso di trasmissione (@ 550nm) |
>95% |
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Precisione delle caratteristiche |
±1 µm |
Coefficiente di dilatazione termica (20-200°C) |
<5,0×10⁻⁷/K |
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Rivestimento |
Cromo giallo, cromo lucido , cromo blu (bassa riflettività) |
Rapporto di espansione (20-200°C) |
0,00006% (0,6 µm/°C di 1 m) |
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Riflettanza |
<13,4% a 550 nm |
Planarità della superficie |
<0,55 µm (lunghezza <50 mm) |
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<1,8% a 650 nm |
<2μm (lunghezza <100mm) |
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<2,67% a 750 nm |
<5μm (lunghezza>100mm) |
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Precisione del rivestimento |
120 nm (±0,20 nm) |
Rugosità superficiale |
<0,025 µm |
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Densità ottica OD |
Giallo Cromo 3 (Blu 5) |
Spessore |
1 mm, 1,6 mm, 2,3 mm, 3 mm(±0,2 mm)(500*500*4,8) |
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Sfondo bianco |
Larghezza minima della linea: 10 µm |
Dimensione minima/massima |
Minimo: 2×2 mm |
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Spessore del fondo bianco: 40 µm (rivestimento bianco liscio sul retro) |
Massimo: 800×960 mm (±0,1 mm) |
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Forme positive e negative |
Positivo: modello opaco Negativo: motivo traslucido |
Aspetto e forma |
Piazza |
2. Parametri del substrato ceramico:
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Progetto |
Substrato |
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Processo di produzione |
Fotolitografia |
Tipo |
Cromo opaco su ceramica opaca |
Cromo brillante su ceramica lucida |
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Tipo |
Ceramica opaca |
Ceramica lucida |
Substrato ceramico |
Zirconia/Allumina |
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Larghezza minima della linea |
4 µm |
2 µm |
Spessore |
1 mm (±0,1 mm, comune) |
2 mm (comune) |
3mm (±0,1mm) |
|
Precisione delle caratteristiche |
±2μm |
±2μm |
Planarità della superficie |
<30μm (lunghezza <100mm) |
<60μm (lunghezza <200mm) |
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Precisione dell'aspetto |
±0,05 mm |
±0,05 mm |
Planarità della superficie |
MINIMO: 2×2 mm (±0,1 mm); MASSIMO: 228×228 mm (±0,1 mm) |
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Rivestimento |
Cromo |
Cromo |
Rugosità superficiale |
<0,2-0,7 µm |
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Rivestimento leggero/rivestimento opaco |
Rivestimento cromato opaco |
Rivestimento cromato brillante |
Coefficiente di dilatazione termica (40-400°C) |
<6,7×10⁻⁶/K |
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Riflettanza |
<12,88% a 550 nm |
<9,56% a 550 nm |
Peso unitario |
≥ 3,66 g/cm³ |
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<10,62% a 650 nm |
<1,89% a 650 nm |
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<12,23% a 750 nm |
<11,168% a 750 nm |
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Spessore del rivestimento |
100-120 nm |
100-120 nm |
Durezza Rockwell |
≥80 HRA |
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Forme positive e negative |
Pellicola positiva: modello opaco, Pellicola negativa: motivo trasparente |
Aspetto e forma |
Taglio laser di qualsiasi forma |
Piazza |
Ellisse |
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Strato protettivo |
Il film sottile sopra lo strato di cromo rende il motivo cromato più durevole |
Forma speciale |
Punch |
Smussare |
Angolo obliquo |
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3. Parametri del substrato del film:
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Progetto |
Substrato della pellicola |
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Processo di produzione |
Litografia (Macchina per litografia cinematografica) |
Applicazione |
Utilizzato per la trasmissione/retroilluminazione /test funzionale |
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Larghezza minima della linea |
10 µm/30 µm opzionale |
Coefficiente di espansione |
La pellicola si restringe quando viene riscaldata e si espande quando viene raffreddata |
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Precisione delle caratteristiche |
±10 µm |
10μm/°C di 1m Quando la temperatura relativa è costante,
Quando l'umidità cambia di 1°C,
Una pellicola lunga 1 metro cambierà di 10 µm (un decimillesimo)
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Rivestimento |
Bromuro d'argento |
Tasso di trasmissione (400~700nm) |
>90% ultravioletto <(400~700nm)>infrarossi |
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Spessore del rivestimento |
2 µm |
Spessore del substrato del film |
0,18 mm (±0,01 mm) |
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Densità ottica OD |
OD>4 quando 100% nero
(Valore OD controllabile in scala di grigi)
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Dimensione massima |
0,71×0,81 m (±0,1 mm) (larghezza minima della linea 10 µm) 1,68×3,5 m (±0,1 mm) (larghezza minima della linea 30 µm) |
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colore |
Scala di grigi nera, scala di grigi sinusoidale |
Aspetto |
Sono disponibili taglio laser, taglio a bordo dritto e svuotamento di fori circolari |