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Tavola di calibrazione a punti circolari personalizzabile con rivestimento in cromo

Tavola di calibrazione a punti circolari personalizzabile con rivestimento in cromo
paese di origine
Cina
Marchio
DFOPTIX
Certificato
ISO9001
modello di prodotto
DF-GR400-7.5
MOQ
5
Metodo di pagamento
T/T
Capacità di fornitura
La capacità produttiva media mensile di piastre e pellicole di calibrazione è di 300.000 pezzi
Dettagli del prodotto
Evidenziare:

Tavola di calibrazione a punti personalizzabile

,

Tavola di taratura a punti rivestita di cromo

Material: Vetro al quarzo, alluminio, materiali ceramici sono opzionali
Specification: Dimensioni personalizzabili
Shipping Option: FedEx e UPS
Descrizione di prodotto
Specifiche e Caratteristiche Dettagliate

Tavola di calibrazione a punti circolari


La griglia di calibrazione a punti è uno degli strumenti di calibrazione ad alta precisione più comunemente utilizzati nella visione artificiale, nella misurazione industriale,e visione computerizzata (a parità con la griglia di targa di scacchiera)È costituito da un array di punti circolari neri e bianchi, tipicamente classificati come array di punti simmetrici o asimmetrici.

1. Vantaggi e caratteristiche principali

(1) Precisione dei sottopixel estremamente elevata:I punti hanno una naturale simmetria geometrica.L'algoritmo può aggregare informazioni da centinaia o migliaia di pixel per determinare la posizione del centro, ottenendo una precisione di posizionamento generalmente superiore ai punti angolari tradizionali (come i punti angolari della scacchiera).

(2) Forte capacità anti-distorsione:In condizioni di grandi angolazioni di visione o di grave distorsione della lente, l'estrazione delle caratteristiche da matrici di punti è più stabile rispetto ai punti angolari quadrati,ridurre la probabilità di deviazione o errore di identificazione dei punti caratteristici.

3) Discriminazione per orientamento:La griglia circolare asimmetrica, introducendo un'asimmetria unica nella disposizione dei punti, consente all'algoritmo di determinare automaticamente l'orientamento della griglia di taratura in una singola immagine,evitare errori di calcolo causati dall'inversione di orientamento.

2. Principali scenari di applicazione

(1) Calibrazione della distorsione basata sulla fotocamera:Utilizzato per calcolare con precisione la lunghezza focale della fotocamera, il centro ottico e il coefficiente di distorsione dell'obiettivo prima della ricostruzione 3D della visione artificiale, della visione stereo binoculare o della misurazione monoculare.

(2) Misurazione e fotogrammetria industriali ad alta precisione:Comunemente utilizzato nella fotografia aerea, nella misurazione 3D di grandi pezzi da lavorare e nella produzione automobilistica, dove è richiesta un'elevata precisione.

(3) Calibrazione occhio-mano del robot:Utilizzato in combinazione con la telecamera a effetto finale per stabilire precise trasformazioni matematiche tra il sistema di coordinate della telecamera e il sistema di coordinate del braccio robotico.

3Servizi di personalizzazione (i parametri e i materiali possono essere personalizzati; sono disponibili anche disegni personalizzati basati sui disegni forniti)

Il substrato della piastra di calibrazione a punti è opzionale. Diversi substrati (come vetro, ceramica, film, piastre di alluminio, ecc.) possono essere personalizzati in base a diversi scenari di applicazione,ambienti, e requisiti di precisione.

Le seguenti sono alcune informazioni sui parametri del substrato comunemente utilizzate:

1. Parametri del substrato di vetro:

Progettazione

Substrato

Processo di produzione

Fotolitografia

Substrato di vetro

Vetro di quarzo (silica fusa) / vetro di soda

Larghezza minima della linea

1 μm / 0,55 μm

Tasso di trasmissione ((@550 nm)

> 95%

Precisione delle caratteristiche

± 1 μm

Coefficiente di espansione termica

(20-200°C)

< 5,0 × 10−7/K

Rivestimento

Cromo giallo, cromo luminoso

, cromo blu (bassa riflettività)

Rapporto di espansione ((20-200°C)

00,00006% (0,6 μm/°C di 1 m)

Riflessione

< 13,4% @ 550 nm

Piattazza della superficie

< 0,55 μm (lunghezza < 50 mm)

< 1,8% @ 650 nm

< 2 μm (lunghezza < 100 mm)

< 2,67% @ 750 nm

< 5 μm (lunghezza> 100 mm)

Precisione del rivestimento

120 nm (± 0,20 nm)

Roverezza della superficie

< 0,025 μm

Densità ottica OD

Cromo giallo 3 (blu 5)

Spessore

1 mm,10,6 mm,2.3mm,3mm(±0.2mm) ((500*500*4.8)

Sfondo bianco

Larghezza minima della linea:10μm

Dimensione minima/massima

Min: 2 × 2 mm

Spessore dello sfondo bianco: 40 μm

(rivestimento bianco liscio sul retro)

Max: 800 × 960 mm (± 0,1 mm)

Forme positive e negative

Positivo: modello opaco

Negativo: modello traslucido

Aspetto e forma

Quadrato

2. Parametri del substrato ceramico:

Progettazione

Substrato

Processo di produzione

Fotolitografia

Tipo

Cromo opaco su ceramiche opache

Cromo lucido su ceramiche lucide

 

Tipo

Ceramica opaca

Ceramica lucida

Substrato ceramico

Circonia / allumina

Larghezza minima della linea

4 μm

2 μm

Spessore

1 mm (± 0,1 mm, comune)

2 mm (comune)

3 mm (± 0,1 mm)

Precisione delle caratteristiche

± 2 μm

± 2 μm

Piattazza della superficie

< 30 μm (lunghezza < 100 mm)

< 60 μm (lunghezza < 200 mm)

Accuratezza dell'aspetto

± 0,05 mm

± 0,05 mm

Piattazza della superficie

MIN: 2 × 2 mm (± 0,1 mm);

Max: 228 × 228 mm (± 0,1 mm)

Rivestimento

Cromo

Cromo

Roverezza della superficie

< 0,2-0,7 μm

Rivestimento leggero/rivestimento opaco

Rivestimento di cromo opaco

Rivestimento cromato luminoso

Coefficiente di espansione termica

(40-400°C)

< 6,7 × 10−6/K

Riflessione

< 12,88% @ 550 nm

< 9,56% @ 550 nm

Peso unitario

≥ 3,66 g/cm3

< 10,62% @ 650 nm

< 1,89% @ 650 nm

< 12,23% @ 750 nm

< 11,168% @ 750 nm

Spessore del rivestimento

100-120 nm

100-120 nm

Durezza Rockwell

≥ 80 HRA

Forme positive e negative

Film positivo: modello opaco,

Film negativo: disegno trasparente

Aspetto e forma

Taglio laser di qualsiasi forma

Quadrato

Ellisse

Strato protettivo

Il film sottile sopra lo strato di cromo

rende il modello di cromo più resistente

Forma speciale

Punch

Campione

Angolo obliquo

3. Parametri del substrato della pellicola:

Progettazione

Substrato di pellicola

Processo di produzione

Litografia

(macchina per la litografia)

Applicazione

Utilizzato per la trasmissione/illuminazione di fondo

/ prove funzionali

Larghezza minima della linea

10 μm/30 μm facoltativo

Coefficiente di espansione

Il film si restringe quando viene riscaldato e si espande quando viene raffreddato

Precisione delle caratteristiche


± 10 μm

10 μm/°C di 1 m

Quando la temperatura relativa è costante,
Quando l'umidità cambia di 1 °C,
Una pellicola di lunghezza di 1 m cambierà di 10 μ m (uno decimilaesimo)

Rivestimento

Bromuro d'argento

Tasso di trasmissione ((400 ~ 700 nm)

> 90% ultravioletto < 400 ~ 700 nm> infrarosso

Spessore del rivestimento

2 μm

Spessore del substrato della pellicola

0.18 mm (± 0,01 mm)

Densità ottica OD

 

OD> 4 quando è al 100% nero
(valore DO controllabile in scala di grigi)

 

Dimensione massima

0.71×0.81m (±0.1mm) (larghezza minima della linea 10μm)

1.68×3,5m (±0,1mm) ((larghezza minima della linea 30μm)

colore

Scala di grigio nera,

Scala di grigio sinusoidale

Apparizione

Sono disponibili taglio laser, taglio a bordo retto e scavo circolare del foro


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