Tabela de calibração de pontos circulares personalizável com revestimento de cromo

Processo de Fabricação

Fotolitografia

Substrato de vidro

Vidro de quartzo (sílica fundida) / vidro de soda

Largura mínima da linha

1 μm / 0,55 μm

Taxa de transmissão ((@ 550 nm)

> 95%

Precisão das características

± 1 μm

Coeficiente de expansão térmica

(20-200°C)

< 5,0 × 10−7/K

Revestimento

Cromo amarelo, cromo brilhante

, cromo azul (baixa reflectância)

Relação de expansão ((20-200°C)

00,00006% (0,6 μm/°C de 1 m)

Reflexão

< 13,4% @ 550 nm

Planura da superfície

< 0,55 μm (com comprimento < 50 mm)

< 1,8% @ 650 nm

< 2 μm (com comprimento < 100 mm)

< 2,67% @ 750 nm

< 5 μm (longo> 100 mm)

Precisão do revestimento

120 nm (± 0,20 nm)

A rugosidade da superfície

< 0,025 μm

Densidade óptica OD

Cromia amarelo 3 (azul 5)

Espessura

1 mm,10,6 mm,2.3mm,3mm(±0.2mm) ((500*500*4.8)

Fundo branco

Largura mínima da linha:10μm

Tamanho mínimo/máximo

Min: 2 × 2 mm

Espessura do fundo branco: 40 μ m

(Cobertura branca lisa na parte de trás)

Max: 800 × 960 mm (± 0,1 mm)

Formas positivas e negativas

Positivo: padrão opaco

Negativo: modelo translúcido

Aparência e forma

Quadrado

Processo de Fabricação

Litografia

(Máquina de Litografia de Filme)

Aplicação

Utilizado para transmissão/iluminação de fundo

/ensaios funcionais

Largura mínima da linha

10 μ m/30 μ m opcional

Coeficiente de expansão

O filme encolhe quando aquecido e se expande quando resfriado

Precisão das características

± 10 μm

10 μm/°C de 1 m

Revestimento

Brometo de prata

Taxa de transmissão ((400~700nm)

> 90% ultravioleta < 400 ~ 700 nm> infravermelho

Espessura do revestimento

2 μm

Espessura do substrato da película

0.18 mm (± 0,01 mm)

Densidade óptica OD

Tamanho máximo

0.71×0,81m (±0,1mm) (largura mínima da linha 10μm)

1.68 × 3,5 m (± 0,1 mm) ((largura mínima da linha 30 μm)

cor

Escala de cinza preta,

Escala de cinza sinusoidal

Aparência

Corte a laser, corte de borda reta e ocultação de buracos circulares estão disponíveis