Wafer Kalibrasyon Kartı Wafer İzleme Kalibrasyon Hedefi

Wafer kalibrasyon tablosu, yarı iletken wafer denetimi, ölçüm ve görüntü konumlandırma sistemlerinde kullanılan yüksek hassasiyetli bir referans cihazıdır.pozisyonlar, açılar, düzlük ve ekipman için optik parametreler referansları, bir substrat üzerinde tam kalibre standart desenler üreterek.wafer kalibrasyon kartı, yarı iletken ekipmanları için "standart kuyruklu" ve "referans koordinat sistemi" ile eşdeğer- Ekipman, kalibrasyon tahtasında bilinen ve kesin standart kalıpları ölçer, gerçek ölçüm sonuçlarını standart değerlerle karşılaştırır,böylece ekipman hatalarını düzeltmek ve ölçüm ve konumlandırma doğruluğunu iyileştirmek.

1. Ortak Yapılar

Wafer kalibrasyon panelleri tipik olarak silikon waferler, cam, kuvars veya hassas desenli yüzeylere sahip diğer yüksek kararlı substratlar kullanır.

(1) Yüksek hassasiyetli çapraz/işaret işaretleri

(2) Standart çizgi genişliği ve aralık desenleri

(3) ızgara veya dizi yapıları

(4) Çemberler ve kareler gibi standart boyutlu desenler

(5) Farklı yönlerdeki ve ölçeklerdeki test yapıları

(6) Yükseklik/düzlük algısı için referans alanları

2. Ana Özellikleri

Wafer kalibrasyon tablolarının ana özellikleri aşağıdaki gibi özetlenebilir:

(1) Yüksek doğruluk:Kalibrasyon tahtasındaki kalıpların boyutları, aralıkları ve konumları, istikrarlı ve güvenilir bir standart referans sağlayan hassas bir şekilde işlenir ve ölçülür.

(2) Yüksek kararlılık:Silikon, kuvars ve cam gibi iyi boyut dengesine sahip malzemeler tipik olarak kullanılır, bu da sıcaklık, nem ve uzun süreli kullanım nedeniyle oluşan boyut değişikliklerini azaltabilir.

(3) Yüksek düzlük: TSubstrat yüzeyi yüksek düzlüğe sahiptir, bu da mikroskopik görüntülemenin, görsel incelemenin ve yükseklik ölçümünün doğruluğunu sağlamak için faydalıdır.

(4) Şablon standardizasyonu:Düzleştirme işaretleri, çapraz işaretler, çizgi genişliği / aralıklı yapılar, ızgaralar ve diziler gibi ekipman ve uygulama gereksinimlerine göre farklı standart desen türleri tasarlanabilir.(5) İyi Tekrarlanabilirlik:Kalibrasyon tahtasının boyutları ve desenleri iyi tekrarlanabilirlik gösterir, bu da tekrarlanan ölçümler, doğruluk doğrulama ve uzun süreli sürüklenme izleme için uygundur.

(6) Geniş Uygulanabilirlik:Wafer denetimi, AOI görme sistemleri, mikroskobik ölçüm, wafer hizalama, hareket platformunun konumlandırılması ve optik sistem kalibrasyonunda kullanılabilir.

(7) Yüksek yüzey kalitesi:Tipik olarak optik inceleme sonuçlarına müdahaleyi en aza indirmek için düşük yüzey kabalığı ve daha az kusur ve parçacık gerektirir.

(8) Özelleştirilebilir:Desen boyutu, düzen, malzemeler ve doğruluk seviyesi, wafer boyutuna, ekipman doğruluğuna, denetim büyütmesine ve kalibrasyon öğelerine göre özelleştirilebilir.

3Wafer Kalibrasyon Plakasının Ana Uygulama Alanları

Wafer kalibrasyon tabloları esas olarak yarı iletken üretimi, wafer denetimi, optik ölçüm ve hassas konumlandırma için kullanılır, özellikle şunları içerir:

(1) Wafer Denetim Ekipmanı

Wafer kusur tespiti, boyut denetimi ve yüzey denetimi için ekipman kalibre etmek için kullanılır, ekipmanın denetim doğruluğunu, tekrarlanabilirliğini ve istikrarını doğrular.

(2) Optik Mikroskopi Ölçümü

Mikroskoplara, optik ölçüm aletlerine, CD-SEM yardımcı sistemlerine vb., cihazın büyütülmesini, piksel boyutunu, çizgi genişliğini ve aralıklarını kalibre etmek için uygulanır.

(3) Wafer hizalanması ve konumlandırılması

Wafer hizalama sistemlerinde, görüş konumlandırma sistemlerinde ve hareket platformlarında kullanılır.wafer konumlandırma doğruluğunu artırmak için standart işaretler ve diğer grafikler aracılığıyla doğru koordinat referansları oluşturmak.

(4) Fotolitografi ve Ekspozisyon Ekipmanı

Düzleştirme doğruluğunu, kalıp konum doğruluğunu ve maruziyet ekipmanlarının görüntüleme etkisini doğrulamak için kullanılır, ekipman hata ayıklamasına ve performans doğrulamalarına yardımcı olur.

(5) Yarım iletken süreci denetimi

Fotolitografi, kazma ve ince film çökümü gibi işlemlerden sonra desen denetimi için kullanılır, standart yapılar yoluyla çizgi genişliğini, aralıkları ve desen morfolojisini doğrular.

(6) Otomatik Optik Denetim (AOI) Sistemleri

Wafer AOI ve makine görme sistemlerinde kameraları, lensleri, ışık kaynaklarını ve görüntü algoritmalarını kalibre etmek için standart bir referans olarak kullanılır, doğru denetim boyutlarını ve konumlarını sağlar.

(7) Hızlı Hareket Platformu

X / Y / Z eksen hareket doğruluğunu, tekrarlanabilirliğini ve koordinat sistemini kalibre etmek için wafer işleme, denetim ve işleme ekipmanlarında kullanılır.

(8) Ekipman Ar-Ge ve Kabul Etme

Yarı iletken ekipmanların Ar-Ge, kurulum, devreye girme ve fabrika kabulü sırasında, ekipmanların belirtilen doğruluk göstergelerini ve performans gereksinimlerini karşılayıp karşılamadığını doğrulamak için kullanılır.

(9) Bilimsel Araştırma ve Laboratuvar Metrolojisi

Üniversiteler, araştırma kurumları ve yarı iletken laboratuvarları, optik sistem kalibrasyonu, mikro/nano ölçekli ölçüm,ve deney ekipmanlarının doğruluğunu doğrulamak.