Target Kalibrasi Wafer Wafer Monitoring

Sebuah papan kalibrasi wafer adalah perangkat referensi presisi tinggi yang digunakan dalam sistem inspeksi, pengukuran, dan posisi penglihatan wafer semikonduktor.posisi, sudut, datar, dan referensi parameter optik untuk peralatan dengan membuat pola standar yang dikalibrasi dengan tepat pada substrat.Papan kalibrasi wafer setara dengan "ruler standar" dan "sistem koordinat referensi" untuk peralatan semikonduktorPeralatan ini mengukur pola standar yang diketahui dan tepat pada papan kalibrasi, membandingkan hasil pengukuran yang sebenarnya dengan nilai standar,dengan demikian memperbaiki kesalahan peralatan dan meningkatkan akurasi pengukuran dan posisi.

1. Struktur Umum

Papan kalibrasi wafer biasanya menggunakan wafer silikon, kaca, kuarsa, atau substrat yang sangat stabil lainnya dengan permukaan berpola yang tepat.

(1) Tanda silang/tanda yang sangat tepat

(2) Pola lebar garis standar dan jarak

(3) Struktur grid atau array

(4) Pola ukuran standar seperti lingkaran dan persegi

(5) Struktur pengujian dari arah dan skala yang berbeda

(6) Daerah referensi untuk deteksi ketinggian/ketat

2. Fitur Utama

Fitur utama papan kalibrasi wafer dapat diringkas sebagai berikut:

(1) Keakuratan tinggi:Dimensi, jarak, dan posisi pola pada papan kalibrasi diproses dan diukur dengan tepat, memberikan referensi standar yang stabil dan dapat diandalkan.

(2) Stabilitas tinggi:Bahan dengan stabilitas dimensi yang baik, seperti silikon, kuarsa, dan kaca, biasanya digunakan, yang dapat mengurangi perubahan dimensi yang disebabkan oleh suhu, kelembaban, dan penggunaan jangka panjang.

(3) Kepadatan tinggi: Tpermukaan substrat memiliki ketebalan yang tinggi, yang bermanfaat untuk memastikan akurasi pencitraan mikroskopis, pemeriksaan visual, dan pengukuran ketinggian.

(4) Standarisasi pola:Berbagai jenis pola standar dapat dirancang sesuai dengan persyaratan peralatan dan aplikasi, seperti tanda keselarasan, tanda silang, struktur lebar garis / jarak, kisi-kisi, dan array.(5) Kemampuan Mengulangi yang Baik:Dimensi dan pola papan kalibrasi menunjukkan pengulangan yang baik, membuatnya cocok untuk pengukuran berulang, verifikasi akurasi, dan pemantauan drift jangka panjang.

(6) Penerapan yang luas:Hal ini dapat digunakan dalam inspeksi wafer, sistem penglihatan AOI, pengukuran mikroskopis, penyelarasan wafer, posisi platform gerak, dan kalibrasi sistem optik.

(7) Kualitas permukaan yang tinggi:Ini biasanya membutuhkan keropos permukaan yang rendah dan lebih sedikit cacat dan partikel untuk meminimalkan gangguan dengan hasil inspeksi optik.

(8) Dapat disesuaikan:Ukuran pola, tata letak, bahan, dan tingkat akurasi dapat disesuaikan sesuai dengan ukuran wafer, akurasi peralatan, pembesaran inspeksi, dan item kalibrasi.

3. Bidang Aplikasi Utama Papan Kalibrasi Wafer

Papan kalibrasi wafer terutama digunakan dalam pembuatan semikonduktor, inspeksi wafer, pengukuran optik, dan penentuan posisi presisi, khususnya termasuk:

(1) Peralatan Inspeksi Wafer

Digunakan untuk mengkalibrasi peralatan untuk deteksi cacat wafer, inspeksi dimensi, dan inspeksi permukaan, memverifikasi akurasi inspeksi peralatan, kelanjutan, dan stabilitas.

(2) Pengukuran Mikroskopi Optik

Digunakan pada mikroskop, instrumen pengukuran optik, sistem bantu CD-SEM, dll., untuk mengkalibrasi pembesaran, ukuran piksel, lebar garis, dan jarak peralatan.

(3) Perataan dan Posisi Wafer

Digunakan dalam sistem penyelarasan wafer, sistem penentuan posisi visi, dan platform gerak,menetapkan referensi koordinat yang akurat melalui tanda standar dan grafik lainnya untuk meningkatkan akurasi posisi wafer.

(4) Peralatan Fotolitografi dan Eksposur

Digunakan untuk memverifikasi akurasi penyelarasan, akurasi posisi pola, dan efek pencitraan peralatan eksposur, membantu debugging peralatan dan verifikasi kinerja.

(5) Pemeriksaan Proses Semikonduktor

Digunakan untuk inspeksi pola setelah proses seperti fotolitografi, etching, dan deposisi film tipis, memverifikasi lebar garis, jarak, dan morfologi pola melalui struktur standar.

(6) Sistem Inspeksi Optik Otomatis (AOI)

Digunakan sebagai referensi standar dalam wafer AOI dan sistem penglihatan mesin untuk mengkalibrasi kamera, lensa, sumber cahaya, dan algoritma gambar, memastikan dimensi dan posisi inspeksi yang akurat.

(7) Platform Gerak Presisi

Digunakan dalam pengolahan wafer, inspeksi, dan peralatan pengolahan untuk mengkalibrasi akurasi gerakan sumbu X/Y/Z, repeatability, dan sistem koordinat.

(8) R&D dan Penerimaan Peralatan

Digunakan selama R&D peralatan semikonduktor, pemasangan, persiyapan, dan penerimaan pabrik untuk memverifikasi apakah peralatan memenuhi indikator akurasi dan persyaratan kinerja yang ditentukan.

(9) Penelitian Ilmiah dan Metrologi Laboratorium

Universitas, lembaga penelitian, dan laboratorium semikonduktor dapat menggunakan papan kalibrasi wafer untuk kalibrasi sistem optik, pengukuran skala mikro / nano,dan verifikasi akurasi peralatan eksperimen.