Wafer-Kalibrierungsplatine Wafer-Überwachungs-Kalibrierungsziel

Ein Waferkalibrierbrett ist ein hochpräzises Referenzgerät, das in Halbleiterwaferinspektions-, Mess- und Sichtpositionierungssystemen verwendet wird.Positionen, Winkel, Flachheit und optische Parameterreferenzen für Ausrüstungen durch die Herstellung präzise kalibrierter Standardmuster auf einem Substrat.die Waferkalibrierplatte entspricht der "Standardlinie" und dem "Referenzkoordinatensystem" für HalbleitergeräteDie Ausrüstung misst die bekannten und präzisen Standardmuster auf der Kalibrierplatte, vergleicht die tatsächlichen Messergebnisse mit den Standardwerten,Auf diese Weise werden Fehler in der Ausrüstung korrigiert und die Mess- und Positionierungsgenauigkeit verbessert..

1Gemeinsame Strukturen

Waferkalibrierplatten verwenden typischerweise Siliziumwafer, Glas, Quarz oder andere hochstabile Substrate mit präzise gestalteten Oberflächen.

(1) Hochgenaue Kreuz-/Markierungszeichen

(2) Standardliniebreite und Abstandsmuster

(3) Gitter- oder Arraystrukturen

(4) Muster in Standardgröße wie Kreise und Quadrate

(5) Versuchsstrukturen unterschiedlicher Richtungen und Skalen

(6) Referenzbereiche für die Höhe/Flachheitserkennung

2. Hauptmerkmale

Die Hauptmerkmale der Waferkalibrierplatten lassen sich wie folgt zusammenfassen:

(1) Hohe Präzision:Die Abmessungen, Abstände und Positionen der Muster auf der Kalibrierplatte werden präzise bearbeitet und gemessen, wodurch ein stabiler und zuverlässiger Standardreferenzwert hergestellt wird.

(2) Hohe Stabilität:Normalerweise werden Materialien mit einer guten Dimensionsstabilität wie Silizium, Quarz und Glas verwendet, die Dimensionsveränderungen durch Temperatur, Feuchtigkeit und langfristige Verwendung reduzieren können.

(3) Hohe Flachheit: TDie Oberfläche des Substrats ist sehr flach, was zur Gewährleistung der Genauigkeit der mikroskopischen Bildgebung, der visuellen Inspektion und der Höhenmessung hilfreich ist.

(4) Standardisierung von Mustern:Je nach Ausrüstungs- und Anwendungsanforderungen können verschiedene Arten von Standardmustern entworfen werden, z. B. Ausrichtungskennzeichen, Kreuzzeichen, Linienbreiten-/Abstandsstrukturen, Gitter und Arrays.(5) Gute Wiederholbarkeit:Die Abmessungen und Muster der Kalibrierplatte weisen eine gute Wiederholbarkeit auf, was sie für wiederholte Messungen, die Genauigkeitsprüfung und die langfristige Überwachung von Drift geeignet macht.

(6) Weite Anwendbarkeit:Es kann in Waferinspektionen, AOI-Visionen, mikroskopischen Messungen, Wafer-Ausrichtung, Bewegungsplattformpositionierung und Kalibrierung optischer Systeme verwendet werden.

(7) Hohe Oberflächenqualität:Es erfordert in der Regel eine geringe Oberflächenrauheit und weniger Defekte und Partikel, um die Störungen bei optischen Inspektionsergebnissen zu minimieren.

(8) Anpassbar:Die Mustergröße, das Layout, die Materialien und die Genauigkeitsstufe können je nach Wafergröße, Ausrüstungsgenauigkeit, Inspektionsvergrößerung und Kalibrierung angepasst werden.

3. Hauptanwendungsbereiche von Waferkalibrierplatten

Waferkalibrierplatten werden hauptsächlich in der Halbleiterherstellung, der Waferinspektion, der optischen Messung und der Präzisionspositionierung eingesetzt, insbesondere:

(1) Waferprüfgeräte

Verwendet zur Kalibrierung von Geräten zur Waferfehlerdetektion, Dimensionsinspektion und Oberflächeninspektion, um die Inspektionsgenauigkeit, Wiederholbarkeit und Stabilität der Geräte zu überprüfen.

(2) Optische Mikroskopie

Für Mikroskope, optische Messgeräte, CD-SEM-Hilfssysteme usw. zur Kalibrierung von Vergrößerung, Pixelgröße, Linienbreite und Abstand der Geräte.

(3) Ausrichtung und Positionierung der Wafer

verwendet in Wafer-Ausrichtungssystemen, Sichtpositionierungssystemen und Bewegungsplattformen,Festlegung genauer Koordinatenreferenzen durch Standardmarkierungen und andere Grafiken zur Verbesserung der Positionsaugenauigkeit von Wafern.

(4) Fotolithographische und Expositionsgeräte

Verwendet zur Überprüfung der Ausrichtungsgenauigkeit, der Musterpositionsgenauigkeit und des Bildgebungseffekts von Belichtungsausrüstungen, unterstützt bei der Debugging und Leistungsüberprüfung von Geräten.

(5) Inspektion des Halbleiterverfahrens

Für die Musterinspektion nach Verfahren wie Photolithographie, Ätzung und Dünnschichtdeposition, zur Überprüfung von Linienbreite, Abstand und Mustermorphologie durch Standardstrukturen.

(6) Automatisierte optische Inspektionssysteme (AOI)

Als Standardreferenz in Wafer-AOI- und Bildverarbeitungssystemen zur Kalibrierung von Kameras, Linsen, Lichtquellen und Bildalgorithmen verwendet, um genaue Inspektionsdimensionen und -positionen zu gewährleisten.

(7) Präzisionsbewegungsplattform

Wird in Wafer-Handhabungs-, Inspektions- und Verarbeitungsgeräten verwendet, um die Bewegungsgenauigkeit, Wiederholbarkeit und das Koordinatensystem der X/Y/Z-Achse zu kalibrieren.

(8) Forschung und Entwicklung von Geräten und Akzeptanz

Bei der Erforschung und Entwicklung von Halbleitergeräten, bei der Installation, bei der Inbetriebnahme und bei der Fabrikakzeptanz verwendet, um zu überprüfen, ob die Geräte die angegebenen Genauigkeitsindikatoren und Leistungsanforderungen erfüllen.

(9) Wissenschaftliche Forschung und Labormetrologie

Universitäten, Forschungseinrichtungen und Halbleiterlabore können Waferkalibrierplatten für die Kalibrierung optischer Systeme, Mikro/Nano-Messungen,und Genauigkeitsprüfung der Versuchsgeräte.