Калибровочная плата пластины Калибровочная мишень для мониторинга пластины
Калибровочная плата для пластин для мониторинга
,Калибровочная мишень для пластин для мониторинга
,Калибровочная мишень для пластин на заказ
Калибровочная пластина для полупроводниковых пластин — это высокоточный эталонный прибор, используемый в системах инспекции, измерения и оптического позиционирования полупроводниковых пластин. Он обеспечивает надежные геометрические размеры, положения, углы, плоскостность и эталоны оптических параметров для оборудования путем изготовления точно откалиброванных стандартных шаблонов на подложке. Проще говоря, калибровочная пластина для полупроводниковых пластин эквивалентна «стандартной линейке» и «эталонной системе координат» для полупроводникового оборудования. Оборудование измеряет известные и точные стандартные шаблоны на калибровочной пластине, сравнивает фактические результаты измерений со стандартными значениями, тем самым корректируя ошибки оборудования и повышая точность измерений и позиционирования.
1. Общие структуры
В калибровочных пластинах для полупроводниковых пластин обычно используются кремниевые пластины, стекло, кварц или другие высокостабильные подложки с точно нанесенными поверхностными шаблонами. В зависимости от применения они включают:
(1) Высокоточные перекрестия/маркеры
(2) Стандартные шаблоны ширины линии и расстояния
(3) Сетчатые или массивовые структуры
(4) Шаблоны стандартного размера, такие как круги и квадраты
(5) Тестовые структуры различных направлений и масштабов
(6) Эталонные области для обнаружения высоты/плоскостности
2. Основные характеристики
Основные характеристики калибровочных пластин для полупроводниковых пластин можно обобщить следующим образом:
(1) Высокая точность: Размеры, расстояния и положения шаблонов на калибровочной пластине точно обработаны и измерены, обеспечивая стабильный и надежный эталон.
(2) Высокая стабильность: Обычно используются материалы с хорошей стабильностью размеров, такие как кремний, кварц и стекло, которые могут уменьшить изменения размеров, вызванные температурой, влажностью и длительным использованием.
(3) Высокая плоскостность: Поверхность подложки обладает высокой плоскостностью, что способствует обеспечению точности микроскопического изображения, визуального осмотра и измерения высоты.
(4) Стандартизация шаблонов: Различные типы стандартных шаблонов могут быть разработаны в соответствии с требованиями оборудования и применения, такие как установочные метки, перекрестия, структуры ширины линии/расстояния, сетки и массивы.(5) Хорошая повторяемость: Размеры и шаблоны калибровочной пластины демонстрируют хорошую повторяемость, что делает ее пригодной для повторных измерений, проверки точности и мониторинга долгосрочного дрейфа.
(6) Широкая применимость: Может использоваться при инспекции пластин, системах машинного зрения AOI, микроскопических измерениях, выравнивании пластин, позиционировании подвижных платформ и калибровке оптических систем.
(7) Высокое качество поверхности: Обычно требуется низкая шероховатость поверхности и меньше дефектов и частиц, чтобы минимизировать помехи для результатов оптической инспекции.
(8) Индивидуализация: Размер шаблона, компоновка, материалы и уровень точности могут быть настроены в соответствии с размером пластины, точностью оборудования, увеличением инспекции и элементами калибровки.
3. Основные области применения калибровочных пластин для полупроводниковых пластин
Калибровочные пластины для полупроводниковых пластин в основном используются в производстве полупроводников, инспекции пластин, оптических измерениях и точном позиционировании, в частности, включая:
(1) Оборудование для инспекции пластин
Используется для калибровки оборудования для обнаружения дефектов пластин, проверки размеров и инспекции поверхности, проверки точности, повторяемости и стабильности инспекции оборудования.
(2) Измерение с помощью оптической микроскопии
Применяется для микроскопов, оптических измерительных приборов, вспомогательных систем CD-SEM и т. д. для калибровки увеличения, размера пикселя, ширины линии и расстояния оборудования.
(3) Выравнивание и позиционирование пластин
Используется в системах выравнивания пластин, системах оптического позиционирования и подвижных платформах, устанавливая точные эталоны координат с помощью стандартных меток и других графических элементов для повышения точности позиционирования пластин.
(4) Оборудование для фотолитографии и экспонирования
Используется для проверки точности выравнивания, точности положения шаблона и эффекта изображения экспонирующего оборудования, помогая в отладке оборудования и проверке производительности.
(5) Инспекция полупроводниковых процессов
Используется для инспекции шаблонов после таких процессов, как фотолитография, травление и осаждение тонких пленок, проверяя ширину линии, расстояние и морфологию шаблона с помощью стандартных структур.
(6) Системы автоматизированной оптической инспекции (AOI)
Используется в качестве эталонного стандарта в системах AOI пластин и машинного зрения для калибровки камер, объективов, источников света и алгоритмов обработки изображений, обеспечивая точные размеры и положения инспекции.
(7) Прецизионная подвижная платформа
Используется в оборудовании для обработки, инспекции и обработки пластин для калибровки точности движения по осям X/Y/Z, повторяемости и системы координат.
(8) Разработка и приемка оборудования
Используется во время разработки, установки, ввода в эксплуатацию и заводской приемки полупроводникового оборудования для проверки соответствия оборудования установленным показателям точности и требованиям к производительности.
(9) Научные исследования и лабораторная метрология
Университеты, научно-исследовательские институты и лаборатории полупроводников могут использовать калибровочные пластины для полупроводниковых пластин для калибровки оптических систем, измерений в микро/нанодиапазоне и проверки точности экспериментального оборудования.