Płytka kalibracyjna wafla Cel kalibracji monitorowania wafla

Tablica kalibracyjna płytki jest precyzyjnym urządzeniem odniesienia stosowanym w półprzewodnikowych systemach inspekcji, pomiaru i pozycjonowania wizji płytek.pozycje, kątów, płaskości i parametrów optycznych dla sprzętu poprzez wytwarzanie precyzyjnie kalibrowanych standardowych wzorów na podłożu.tablica kalibracyjna płytki jest równoważna z "standardowym linijeką" i "systemem współrzędnych odniesienia" dla sprzętu półprzewodnikowegoUrządzenie mierzy znane i precyzyjne wzory standardowe na tablicy kalibracyjnej, porównuje rzeczywiste wyniki pomiarów z wartościami standardowymi,w ten sposób korygowanie błędów urządzeń oraz poprawa dokładności pomiarów i pozycjonowania.

1Wspólne struktury

Płyty kalibracyjne płytek zazwyczaj wykorzystują płytki krzemowe, szkło, kwarc lub inne bardzo stabilne podłoża o precyzyjnie ukształtowanych powierzchniach.

(1) Wysokiej precyzji oznakowanie krzyżowym

(2) Standardowe wzory szerokości linii i odstępów

(3) Struktura siatki lub szeregu

(4) Wzory o standardowych rozmiarach, takie jak koła i kwadraty

(5) Konstrukcje badawcze różnych kierunków i skali

(6) Obszary odniesienia do wykrywania wysokości/płaskości

2. Główne cechy

Główne cechy płyt kalibracyjnych płytki można podsumować w następujący sposób:

(1) Wysoka precyzja:Wymiary, odległość i położenie wzorów na tablicy kalibracyjnej są precyzyjnie obrobione i zmierzone, zapewniając stabilne i niezawodne standardowe odniesienie.

(2) Wysoka stabilność:Zwykle stosuje się materiały o dobrej stabilności wymiarowej, takie jak krzemo, kwarc i szkło, które mogą zmniejszyć zmiany wymiarowe spowodowane temperaturą, wilgotnością i długotrwałym użyciem.

(3) Wysoka płaskość: TPowierzchnia podłoża ma wysoką płaskość, co jest korzystne dla zapewnienia dokładności obrazowania mikroskopowego, kontroli wizualnej i pomiaru wysokości.

4) Standaryzacja wzorów:W zależności od wymogów sprzętowych i aplikacyjnych można zaprojektować różne typy wzórów standardowych, takie jak znaki wyrównania, znaki krzyżowe, struktury szerokości linii / odstępów, sieci i szeregów.(5) Dobra powtarzalność:Wymiary i wzory deski kalibracyjnej wykazują dobrą powtarzalność, co sprawia, że nadaje się do powtarzanych pomiarów, weryfikacji dokładności i długoterminowego monitorowania dryfu.

(6) Szeroki zakres zastosowania:Może być stosowany w inspekcji płytek, systemach widzenia AOI, pomiarach mikroskopicznych, wyrównaniu płytek, pozycjonowaniu platformy ruchu i kalibracji systemów optycznych.

(7) Wysoka jakość powierzchni:Zazwyczaj wymaga niskiej chropowitości powierzchni i mniejszej liczby wad i cząstek, aby zminimalizować zakłócenia wyników kontroli optycznej.

(8) Dostosowywalne:Wielkość wzoru, układ, materiały i poziom dokładności mogą być dostosowywane zgodnie z wielkością płytki, dokładnością sprzętu, powiększeniem inspekcji i elementami kalibracji.

3Główne obszary zastosowań płyt kalibracyjnych płyt

Płyty kalibracyjne płytek są wykorzystywane głównie w produkcji półprzewodników, inspekcji płytek, pomiarach optycznych i precyzyjnym pozycjonowaniu, w szczególności obejmując:

(1) Urządzenia do kontroli płytek

Używany do kalibracji urządzeń do wykrywania wad płytek, inspekcji wymiarowej i inspekcji powierzchni, weryfikując dokładność, powtarzalność i stabilność urządzeń.

(2) Pomiar mikroskopem optycznym

Stosowane do mikroskopów, instrumentów pomiarowych optycznych, systemów pomocniczych CD-SEM itp., do kalibracji powiększania, wielkości pikseli, szerokości linii i rozstawienia urządzeń.

(3) Ustawienie i pozycjonowanie płytek

Wykorzystywane w systemach wyrównania płytek, systemach pozycjonowania widzenia i platformach ruchowych,ustanowienie dokładnych współrzędnych odniesienia poprzez znaki standardowe i inne grafiki w celu poprawy dokładności pozycjonowania płytek.

(4) Urządzenia do fotografowania i ekspozycji

Używane do weryfikacji dokładności wyrównania, dokładności pozycji wzoru i efektu obrazowania sprzętu ekspozycyjnego, pomagającego w debugowaniu sprzętu i weryfikacji wydajności.

(5) Inspekcja procesu półprzewodników

Używane do inspekcji wzoru po procesach takich jak fotolitografia, etycja i osadzenie cienkiej folii, weryfikacja szerokości linii, odległości i morfologii wzoru poprzez standardowe struktury.

(6) Zautomatyzowane systemy kontroli optycznej (AOI)

Używane jako standardowe odniesienie w systemach waferów AOI i wizji maszynowej do kalibracji kamer, soczewek, źródeł światła i algorytmów obrazu, zapewniając dokładne wymiary i pozycje inspekcji.

(7) Precyzyjna platforma ruchowa

Używane w sprzęcie do obsługi płytek, inspekcji i przetwarzania, w celu kalibracji dokładności ruchu osi X/Y/Z, powtarzalności i układu współrzędnych.

(8) Badania i rozwój sprzętu i akceptacja

Wykorzystywane podczas badań i rozwoju sprzętu półprzewodnikowego, instalacji, uruchomienia i fabrycznej akceptacji w celu sprawdzenia, czy sprzęt spełnia określone wskaźniki dokładności i wymagania dotyczące wydajności.

(9) Badania naukowe i metrologia laboratoryjna

Uniwersytety, instytucje badawcze i laboratoria półprzewodnikowe mogą wykorzystywać tablice kalibracyjne płytek do kalibracji systemów optycznych, pomiarów mikro/nano,i weryfikacji dokładności sprzętu eksperymentalnego.