Plaque d'étalonnage des plaquettes Objectif d'étalonnage de la surveillance des plaquettes

Une carte d'étalonnage de wafer est un dispositif de référence de haute précision utilisé dans les systèmes d'inspection, de mesure et de positionnement visuel de wafer à semi-conducteurs.les positions, les angles, la planéité et les références de paramètres optiques pour l'équipement en fabriquant des motifs standard précisément calibrés sur un substrat.la carte d'étalonnage des plaquettes est équivalente à la "linéaire standard" et au "système de coordonnées de référence" pour les équipements à semi-conducteursL'appareil mesure les modèles standards connus et précis sur la carte d'étalonnage, compare les résultats de mesure réels avec les valeurs standards,en corrigeant ainsi les erreurs de l'équipement et en améliorant la précision des mesures et du positionnement.

1. Structures communes

Les plaques d'étalonnage de plaquettes utilisent généralement des plaquettes de silicium, du verre, du quartz ou d'autres substrats très stables avec des surfaces à motifs précis.

(1) Marquages croisés/marqués de haute précision

(2) Modèles de largeur de ligne et d'espacement standard

(3) Structures de grille ou de réseau

(4) Modèles de taille standard tels que des cercles et des carrés

(5) Structures d'essai de différentes directions et échelles

(6) Zones de référence pour la détection de la hauteur/de la planéité

2. Principales caractéristiques

Les principales caractéristiques des plaques d'étalonnage des plaquettes peuvent être résumées comme suit:

(1) Haute précision:Les dimensions, l'espacement et la position des motifs sur la carte d'étalonnage sont usinés et mesurés avec précision, fournissant une référence standard stable et fiable.

(2) Haute stabilité:Des matériaux avec une bonne stabilité dimensionnelle, tels que le silicium, le quartz et le verre, sont généralement utilisés, ce qui peut réduire les changements dimensionnels causés par la température, l'humidité et l'utilisation à long terme.

(3) Haute planéité: TLa surface du substrat est très plate, ce qui est bénéfique pour assurer la précision de l'imagerie microscopique, l'inspection visuelle et la mesure de la hauteur.

(4) Normisation des modèles:Différents types de modèles standard peuvent être conçus en fonction des exigences de l'équipement et de l'application, tels que les marques d'alignement, les marques croisées, les structures de largeur de ligne / espacement, les grilles et les tableaux.(5) Bonne répétabilité:Les dimensions et les motifs de la carte d'étalonnage présentent une bonne répétabilité, ce qui la rend adaptée aux mesures répétées, à la vérification de la précision et à la surveillance des dérives à long terme.

(6) Applicabilité étendue:Il peut être utilisé dans l'inspection des plaquettes, les systèmes de vision AOI, la mesure microscopique, l'alignement des plaquettes, le positionnement des plateformes de mouvement et l'étalonnage du système optique.

(7) Haute qualité de surface:Il nécessite généralement une faible rugosité de surface et moins de défauts et de particules pour minimiser les interférences avec les résultats de l'inspection optique.

(8) Personnalisable:La taille du motif, la disposition, les matériaux et le niveau de précision peuvent être personnalisés en fonction de la taille de la gaufre, de la précision de l'équipement, du grossissement d'inspection et des éléments d'étalonnage.

3. Principaux domaines d'application des cartes d'étalonnage des plaquettes

Les plaques d'étalonnage de plaques sont principalement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, l'inspection des plaques, la mesure optique et le positionnement de précision, notamment:

(1) Équipement d'inspection des plaquettes

Utilisé pour calibrer l'équipement pour la détection de défauts de plaquette, l'inspection dimensionnelle et l'inspection de surface, vérifiant la précision, la répétabilité et la stabilité de l'équipement.

(2) Mesure par microscopie optique

Appliqué aux microscopes, aux instruments de mesure optiques, aux systèmes auxiliaires CD-SEM, etc., pour l'étalonnage du grossissement, de la taille des pixels, de la largeur de ligne et de l'espacement de l'équipement.

(3) Alignement et positionnement des plaquettes

Utilisé dans les systèmes d'alignement des plaquettes, les systèmes de positionnement visuel et les plateformes de mouvement,l'établissement de références de coordonnées précises à l'aide de marques standard et d'autres graphiques pour améliorer la précision du positionnement des plaquettes.

(4) Appareils de photolithographie et d'exposition

Utilisé pour vérifier l'exactitude d'alignement, l'exactitude de la position du motif et l'effet d'imagerie de l'équipement d'exposition, aidant au débogage de l'équipement et à la vérification des performances.

(5) Inspection des procédés des semi-conducteurs

Utilisé pour l'inspection des motifs après des processus tels que la photolithographie, la gravure et le dépôt de film mince, vérifiant la largeur de ligne, l'espacement et la morphologie des motifs à travers des structures standard.

(6) Systèmes d'inspection optique automatisée (AOI)

Utilisé comme référence standard dans les systèmes d'AOI et de vision automatique des plaquettes pour calibrer les caméras, les lentilles, les sources lumineuses et les algorithmes d'image, garantissant des dimensions et des positions d'inspection précises.

(7) Plateforme de mouvement de précision

Utilisé dans les équipements de manipulation, d'inspection et de traitement de plaquettes pour calibrer la précision, la répétabilité et le système de coordonnées du mouvement de l'axe X/Y/Z.

(8) R & D et acceptation des équipements

Utilisé lors de la R&D, de l'installation, de la mise en service et de l'acceptation en usine des équipements de semi-conducteurs pour vérifier si l'équipement répond aux indicateurs de précision et aux exigences de performance spécifiés.

(9) Recherche scientifique et métrologie de laboratoire

Les universités, les instituts de recherche et les laboratoires de semi-conducteurs peuvent utiliser des cartes d'étalonnage de plaques pour l'étalonnage des systèmes optiques, la mesure à l'échelle micro/nano,et vérification de l'exactitude des équipements expérimentaux.