Scheda di calibrazione wafer Bersaglio di calibrazione per monitoraggio wafer

Una scheda di calibrazione dei wafer è un dispositivo di riferimento ad alta precisione utilizzato nei sistemi di ispezione, misurazione e posizionamento visivo dei wafer semiconduttori.posizioni, angoli, piattezza e parametri ottici di riferimento per le apparecchiature mediante la fabbricazione di modelli standard calibrati con precisione su un substrato.la scheda di taratura dei wafer è equivalente alla "linea standard" e al "sistema di coordinate di riferimento" per le apparecchiature a semiconduttoreL'apparecchiatura misura i disegni standard noti e precisi sulla tavola di taratura, confronta i risultati effettivi delle misurazioni con i valori standard,correggendo così gli errori dell'apparecchiatura e migliorando la precisione delle misure e del posizionamento.

1Strutture comuni

Le schede di taratura dei wafer utilizzano in genere wafer di silicio, vetro, quarzo o altri substrati altamente stabili con superfici con modelli precisi.

(1) Marcature incrociate/marcature di alta precisione

(2) Modelli standard di larghezza di linea e spaziatura

(3) Strutture a griglia o a matrice

(4) Disegni di dimensioni standard come cerchi e quadrati

(5) Strutture di prova di diversa direzione e scala

(6) Aree di riferimento per il rilevamento dell'altezza/piattazza

2. Caratteristiche principali

Le caratteristiche principali delle schede di taratura dei wafer possono essere riassunte come segue:

(1) Alta precisione:Le dimensioni, gli spazi e le posizioni dei modelli sulla tavola di taratura sono lavorati e misurati con precisione, fornendo un riferimento standard stabile e affidabile.

(2) Alta stabilità:I materiali con una buona stabilità dimensionale, come il silicio, il quarzo e il vetro, sono tipicamente utilizzati, che possono ridurre i cambiamenti dimensionali causati da temperatura, umidità e uso a lungo termine.

(3) Alta piattezza: TLa superficie del substrato è molto piatta, il che è utile per garantire l'accuratezza delle immagini microscopiche, dell'ispezione visiva e della misurazione dell'altezza.

(4) Standardizzazione dei modelli:Diversi tipi di modelli standard possono essere progettati in base ai requisiti dell'attrezzatura e dell'applicazione, come segni di allineamento, segni incrociati, strutture di larghezza di linea / spaziatura, griglie e matrici.(5) Buona ripetibilità:Le dimensioni e i modelli della tavola di taratura presentano una buona ripetibilità, che la rende adatta per misure ripetute, verifica della precisione e monitoraggio della deriva a lungo termine.

(6) Ampia applicabilità:Può essere utilizzato nell'ispezione dei wafer, nei sistemi di visione AOI, nella misurazione microscopica, nell'allineamento dei wafer, nel posizionamento delle piattaforme di movimento e nella taratura del sistema ottico.

(7) Alta qualità superficiale:In genere richiede una bassa rugosità superficiale e meno difetti e particelle per ridurre al minimo le interferenze con i risultati dell'ispezione ottica.

(8) Personalizzabile:La dimensione del modello, il layout, i materiali e il livello di precisione possono essere personalizzati in base alla dimensione del wafer, alla precisione dell'attrezzatura, all'ingrandimento di ispezione e agli elementi di taratura.

3Principali aree di applicazione delle schede di taratura dei wafer

Le schede di taratura dei wafer sono utilizzate principalmente nella produzione di semiconduttori, nell'ispezione dei wafer, nella misurazione ottica e nel posizionamento di precisione, in particolare:

(1) Attrezzature per l'ispezione dei wafer

Utilizzato per calibrare le apparecchiature per il rilevamento dei difetti dei wafer, l'ispezione dimensionale e l'ispezione superficiale, verificando l'accuratezza, la ripetibilità e la stabilità delle apparecchiature.

(2) Misurazione mediante microscopia ottica

Applicato a microscopi, strumenti di misurazione ottici, sistemi ausiliari CD-SEM, ecc., per calibrare l'ingrandimento, le dimensioni dei pixel, la larghezza di linea e la spaziatura dell'attrezzatura.

(3) Allineamento e posizionamento dei wafer

Utilizzato nei sistemi di allineamento dei wafer, nei sistemi di posizionamento visivo e nelle piattaforme di movimento,stabilire riferimenti di coordinate accurati attraverso segni standard e altre grafiche per migliorare la precisione del posizionamento dei wafer.

(4) Apparecchiature per la fotolitografia e l'esposizione

Utilizzato per verificare l'accuratezza dell'allineamento, l'accuratezza della posizione del modello e l'effetto di imaging delle apparecchiature di esposizione, aiutando nel debugging delle apparecchiature e nella verifica delle prestazioni.

(5) Ispezione dei processi dei semiconduttori

Utilizzato per l'ispezione dei modelli dopo processi come la fotolitografia, l'incisione e la deposizione di film sottili, verificando la larghezza di linea, la spaziatura e la morfologia dei modelli attraverso strutture standard.

(6) Sistemi di ispezione ottica automatizzata (AOI)

Utilizzato come riferimento standard nei sistemi di wafer AOI e di visione artificiale per calibrare fotocamere, lenti, fonti luminose e algoritmi di immagine, garantendo dimensioni e posizioni di ispezione accurate.

(7) Piattaforma di movimento di precisione

Utilizzato nelle attrezzature per la manipolazione, l'ispezione e la lavorazione dei wafer per calibrare la precisione del movimento dell'asse X/Y/Z, la ripetibilità e il sistema di coordinate.

(8) Ricerca e sviluppo di attrezzature e accettazione

Utilizzato durante la ricerca e sviluppo, l'installazione, la messa in servizio e l'accettazione in fabbrica di apparecchiature per semiconduttori per verificare se l'apparecchiatura soddisfa gli indicatori di precisione e i requisiti di prestazione specificati.

(9) Ricerca scientifica e metrologia di laboratorio

Le università, gli istituti di ricerca e i laboratori di semiconduttori possono utilizzare schede di calibrazione dei wafer per la calibrazione dei sistemi ottici, la misurazione su scala micro/nano,e verifica dell'accuratezza delle attrezzature sperimentali.