Reticle Fotolitografi Kaca Kuarsa Presisi Tinggi

2Struktur dan Bahan Dasar

(1) Pola lingkaran konsentris (biasanya disertai dengan crosshairs) biasanya dibuat di permukaan substrat optik transparan (seperti kaca optik, kuarsa, dll.) menggunakan lapisan vakum (seperti film krom reflektivitas tinggi) atau fotolitografi.

(2) Desain Transmissive: Ini berarti terutama beroperasi di jalur cahaya transmisi, memungkinkan cahaya untuk melewati area transparan untuk pencitraan.dapat dibagi menjadi retikel positif (pola itu sendiri adalah lapisan krom buram) dan retikel negatif (daerah pola dibiarkan terbuka untuk transmisi cahaya, sementara sisanya dilapisi).

(3) Spesifikasi Ukuran: Cincin biasanya memiliki jarak diameter tetap (misalnya, 0,5 mm, 1 mm, dll. per tingkat) dan diberi nomor atau memiliki silang pusat untuk membantu penyelarasan.

3. Skenario Aplikasi Utama

(1) Kalibrasi sistem mikroskop:Kalibrasi cepat korespondensi pembesaran setelah mengubah tujuan dan memperbaiki penyimpangan pembacaan pengukuran adalah alat kalibrasi yang umum digunakan untuk tes laboratorium rutin.

(2) Perataan Sistem Optik:Berfungsi sebagai target kolimasi sinar, membantu dalam penyesuaian koaksialitas jalur optik laser dan dengan cepat menentukan apakah sinar bertepatan dengan pusat sumbu optik sistem.

(3) Kalibrasi Penglihatan Industri:Digunakan untuk koreksi distorsi radial kamera, menyediakan referensi posisi sub-pixel, banyak digunakan dalam deteksi cacat wafer semikonduktor, pengukuran koordinat lubang papan PCB,dan skenario lainnya.

(4) Dukungan instrumen optik presisi:Diinstal pada bidang gambar dari pemandangan dan teleskop, membantu dalam keselarasan pusat target dan pengukuran penyimpangan sudut.

4.Informasi parameter utama