Фотолитографическая маска из кварцевого стекла высокой точности

2Основная структура и материалы

(1) Концентрические круговые узоры (обычно сопровождаемые крестовыми стрелами) обычно создаются на поверхности прозрачного оптического подложки (такого как оптическое стекло, кварц и т.д.).) с использованием вакуумного покрытия (например, высокоотражающей хромной пленки) или фотолитографии.

(2) Трансмиссивный дизайн: это означает, что он в основном работает на пути передачи света, позволяя свету проходить через прозрачную область для изображения.он может быть разделен на положительные ретикулы (сам шаблон является непрозрачным слоем хрома) и отрицательные ретикулы (область шаблона оставляется открытой для передачи света, в то время как остальное покрыто).

(3) Спецификации размера: кольца обычно имеют фиксированное диаметровое расстояние (например, 0,5 мм, 1 мм и т. д. на уровне) и пронумерованы или имеют центральный крестик для облегчения выравнивания.

3. Основные сценарии применения

(1) Калибровка системы микроскопа:Быстрая калибровка соответствия увеличения после изменения целей и коррекция отклонений от показаний измерений является широко используемым инструментом калибровки для рутинных лабораторных испытаний.

(2) Оптическое выравнивание системы:Используется в качестве цели для коллимации луча, помогает в регулировании коаксиальности оптического пути лазера и быстро определяет совпадает ли луч с центром оптической оси системы.

(3) Калибровка промышленного зрения:Используется для коррекции радиального искажения камеры, обеспечивая ссылки на позиционирование на уровне субпикселей, широко применяется в обнаружении дефектов полупроводниковых пластин, измерении координат отверстий на платах печатных плат,и другие сценарии.

(4) Поддержка оптического прибора высокой точности:Установлен на плоскости изображения прицелов и телескопов, помогает в выравнивании центра цели и измерении углового отклонения.

4.Информация о основных параметрах