उच्च परिशुद्धता क्वार्ट्ज ग्लास रेटिकल फोटोलिथोग्राफी रेटिकल

2बुनियादी संरचना और सामग्री

(1) एकाग्र वृत्त पैटर्न (आमतौर पर क्रॉसफायर के साथ) आमतौर पर एक पारदर्शी ऑप्टिकल सब्सट्रेट (जैसे ऑप्टिकल ग्लास, क्वार्ट्ज, आदि) की सतह पर बनाए जाते हैं।) वैक्यूम कोटिंग (जैसे उच्च परावर्तक क्रोमियम फिल्म) या फोटोलिथोग्राफी का उपयोग करके.

(2) ट्रांसमिसिव डिज़ाइन: इसका अर्थ है कि यह मुख्य रूप से ट्रांसमिशन लाइट पथ में काम करता है, जिससे इमेजिंग के लिए पारदर्शी क्षेत्र से प्रकाश गुजर सकता है।यह सकारात्मक रेटिकल्स (पैटर्न ही एक अपारदर्शी क्रोमियम परत है) और नकारात्मक रेटिकल्स (पैटर्न क्षेत्र प्रकाश संचरण के लिए खुला छोड़ दिया है) में विभाजित किया जा सकता है, जबकि बाकी कोटेड है) ।

(3) आकार विनिर्देशः अंगूठियों में आमतौर पर निश्चित व्यास अंतर होता है (उदाहरण के लिए, 0.5 मिमी, 1 मिमी, आदि प्रति स्तर) और संख्येय होते हैं या संरेखण में सहायता के लिए एक केंद्रीय क्रॉसहेयर होता है।

3मुख्य अनुप्रयोग परिदृश्य

(1) माइक्रोस्कोप सिस्टम कैलिब्रेशनःउद्देश्यों को बदलने के बाद आवर्धन अनुरूपता को जल्दी से कैलिब्रेट करना और माप रीडिंग विचलन को सही करना नियमित प्रयोगशाला परीक्षणों के लिए एक आम इस्तेमाल किया जाने वाला कैलिब्रेशन उपकरण है।

(2) ऑप्टिकल सिस्टम संरेखणःबीम कोलिमेशन लक्ष्य के रूप में कार्य करता है, लेजर ऑप्टिकल पथ कोएक्सियालिटी समायोजन में सहायता करता है और जल्दी से निर्धारित करता है कि बीम सिस्टम के ऑप्टिकल अक्ष केंद्र के साथ मेल खाता है या नहीं।

(3) औद्योगिक दृष्टि कैलिब्रेशनःकैमरा रेडियल विकृति सुधार के लिए प्रयोग किया जाता है, उप-पिक्सेल स्तर की स्थिति संदर्भ प्रदान करता है, व्यापक रूप से अर्धचालक वेफर दोष का पता लगाने, पीसीबी बोर्ड छेद निर्देशांक माप में लागू,और अन्य परिदृश्य.

(4) परिशुद्धता ऑप्टिकल उपकरण समर्थनःदृष्टि और दूरबीनों की छवि विमान पर स्थापित, लक्ष्य केंद्र संरेखण और कोणीय विचलन माप में सहायता।

4.मुख्य पैरामीटर की जानकारी