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고 정밀 쿼츠 유리 회로 사진 리토그래피 회로
고 정밀 유리 회로
,쿼츠 글래스 레티클
,유리 사진 리토그래피 레티클
2. 기본 구조 및 재료
(1) 동심원 패턴(일반적으로 십자선 동반)은 일반적으로 진공 증착(고반사율 크롬 필름 등) 또는 포토리소그래피를 사용하여 투명 광학 기판(광학 유리, 석영 등) 표면에 생성됩니다.
(2) 투과형 설계: 이는 주로 투과광 경로에서 작동하여 이미징을 위해 투명 영역을 통과하는 빛을 허용한다는 것을 의미합니다. 공정에 따라 양성 레티클(패턴 자체가 불투명한 크롬 층)과 음성 레티클(패턴 영역은 빛 투과를 위해 비워두고 나머지는 코팅됨)로 나눌 수 있습니다.
(3) 크기 사양: 링은 일반적으로 고정된 직경 간격(예: 레벨당 0.5mm, 1mm 등)을 가지며 정렬을 돕기 위해 번호가 매겨지거나 중앙 십자선이 있습니다.
3. 주요 적용 시나리오
(1) 현미경 시스템 보정: 대물렌즈 교체 후 배율 대응을 신속하게 보정하고 측정 판독 편차를 수정하는 데 사용되는 일상적인 실험실 테스트를 위한 일반적인 보정 도구입니다.
(2) 광학 시스템 정렬: 빔 콜리메이션 타겟 역할을 하여 레이저 광 경로 동축성 조정을 지원하고 빔이 시스템의 광축 중심과 일치하는지 신속하게 결정합니다.
(3) 산업 비전 보정: 카메라 방사 왜곡 보정에 사용되며, 서브 픽셀 수준의 위치 참조를 제공하여 반도체 웨이퍼 결함 감지, PCB 보드 구멍 좌표 측정 및 기타 시나리오에 널리 적용됩니다.
(4) 정밀 광학 기기 지원: 조준경 및 망원경의 이미지 평면에 설치되어 타겟 중심 정렬 및 각도 편차 측정을 지원합니다.
4.주요 매개변수 정보
|
매개변수 정보 |
일반 정밀 |
고 정밀 |
|
재질 |
소다 유리/석영 유리/맞춤 제작 |
석영 유리 |
|
최대 외부 치수 |
두께 관련/228.6*228.6mm |
127*127mm |
|
최소 외부 치수 |
1*1mm |
2*2mm |
|
최대 패턴 크기 |
두께 관련 218.6*218.6/280*280mm |
121*121mm |
|
평탄도 |
크기 관련/일반 10 μ m |
크기 관련 |
|
밀도 값 |
노란색 크롬 및 밝은 크롬은 일반적으로 ≥ 3.0/최대 ≥ 6.0; 파란색 크롬 ≥ 5.0 |
/ |
|
두께 (맞춤 제작 가능) |
0.2/0.33/0.5/0.7/1/1.1/1.5/1.6/2/2.3/3mm |
2.3mm |
|
위치 정확도 |
일반 2 μ m/최대 1 μ m |
0.5μm |
|
선폭 정확도 |
일반 0.2 μ m/최대 0.1 μ m |
0.05μm |
|
최소 선폭 |
일반 2 μ m/최대 1 μ m |
0.5μm |
|
최소 직경 |
일반 2 μ m/최대 1 μ m |
0.5μm |
고 정밀 쿼츠 유리 회로 사진 리토그래피 회로
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